【課題】プラズマ処理中に基板の縁部およびトレイに付着した副生成物の除去を行って、製品の品質を向上させる。
【解決手段】基板が収容される複数の基板収容孔が設けられ、基板収容孔の内壁から突出する基板支持部を有するトレイを基板ステージのトレイ支持部上に載置するとともに基板保持部上に基板を載置して、基板保持部の端縁よりはみ出した基板の縁部と基板支持部とを離間させる基板載置工程と、トレイおよび基板が基板ステージ上に載置された状態にて、チャンバ内を減圧するとともに処理ガスを供給し、基板に対するプラズマ処理を行う第１プラズマ処理工程と、チャンバ内を減圧するとともに処理ガスを供給してプラズマ処理を行い、第１プラズマ処理工程により基板の縁部と基板支持部とに付着した副生成物を除去する第２プラズマ処理工程とを実施する。第２プラズマ処理工程は、副生成物の基板保持部への付着を抑制する位置までトレイを上昇させて行う。 （もっと読む）

【課題】剥離処理により被処理基板と支持基板の剥離処理を行う際に発生するパーティクルが、当該剥離装置の外部に拡散することを抑制する。
【解決手段】剥離システム１は、被処理ウェハＷ、支持ウェハＳ又は重合ウェハＴを搬入出する搬入出ステーション２と、被処理ウェハＷ、支持ウェハＳ及び重合ウェハＴに所定の処理を行う剥離処理ステーション３と、搬入出ステーション２と剥離処理ステーション３との間に設けられた搬送ステーション７とを有している。剥離処理ステーション３は、重合ウェハＴを剥離する剥離装置３０と、第１の洗浄装置３１と、第２の洗浄装置３３とを有している。搬送ステーション７内の圧力は、剥離装置３０内の圧力、第１の洗浄装置３１内の圧力及び第２の洗浄装置３３内の圧力に対して陽圧である。 （もっと読む）

【課題】
ファンフィルタユニットの風量を上げることなくダウンフローの流れを維持し、異物の巻き上げ等を抑えて高い局所クリーン性能を発揮する局所クリーン化搬送装置の提供。
【解決手段】
基板搬送ロボット１０３は往復移動することができ、実線２０２の位置へ移動した場合、局所クリーン化搬送装置１０１の側面に設けられた開口量調節機構Ａの開口量調節板４０２を作動して開口部４０２を開ことで、基板搬送ロボット１０３により押された空気が側面にぶつかって巻き上がらないようし、矢印４０３、４０４、４０５、４０６の様に外部へ排出する。
また、基板搬送ロボット１０３が遠ざかる場合は、開口部４０１が閉じ、外部からの空気の流入を防ぐ。 （もっと読む）

【課題】半導体ウエハに対する加工特性に影響することなく異物を好適に除去し得る半導体製造装置および半導体製造方法を提供する。
【解決手段】処理室１１内の圧力を調整可能な圧力調整手段１９と、処理室１１内に流量が調整された不活性ガスを流入させるガス供給源１５ｂおよびマスフローコントローラ１７ｂとが設けられている。そして、ドライエッチング後に、圧力調整手段１９により処理室１１内の排気圧力Ｐをドライエッチング時における処理室１１内の圧力よりも高くし、かつ、マスフローコントローラ１７ｂによりガス供給源１５ｂからの不活性ガスの流入ガス流量Ｑｂをドライエッチング時におけるエッチングガスの流入ガス流量Ｑａよりも高くすることで、処理室１１内の排気が促進される。 （もっと読む）

【課題】外寸が同じ基板保持具に観察試料として異なるサイズの基板が搭載される場合であっても、搭載される基板の違いにかかわらず、基板の未搭載や異常搭載を正確にセンサに検出させる。
【解決手段】ホールダ５０上の、ウェーハ２Ｓが正常に置かれる規定領域部分Ｐ以外の規定外領域部分Ｑに、異常搭載されたウェーハ２Ｓが乗り上げる傾き検出用ピン５１を立設配置し、異常搭載されたウェーハ２Ｓの姿勢状態を、ホールダ５０へのウェーハ２の異常搭載を検出するウェーハ傾きセンサ４７が検出可能な姿勢状態にする。 （もっと読む）

【課題】ウエハ等の搬送システムにおいて、予め装置に前室を設けた上で容器から、被搬送物を前室を通じることで装置区域に被搬送物を搬送していた。そのため、容器と前室との接続が複雑な機構によってなされていた。
【解決手段】搬送容器内の被搬送物を装置内に搬送するにあたり、搬送容器と装置を密着させることにより初めて前室に相当する連結室を形成するようにし、その連結室ごと装置内に被搬送物を搬送することにより、搬送容器と装置の構造を簡略化し、かつ確実に被搬送物を装置内に搬送するようにした。 （もっと読む）

【課題】 蓋の開閉機構の制約から弁部材の配置に制約が生じる問題がある。
【解決手段】 開口を有する本体容器と、開口を密閉する蓋部材であって、蓋部材の側面上に刻設される細長い第一溝と、第一溝の一端に、開口に挿嵌された際における蓋部材の内面と連通するように延在する第二溝とを有する係合溝を備える蓋部材と、第一溝に沿って摺動可能であって、蓋部材の開口への挿嵌に伴って第二溝を通って係合溝内に進入する係合部材を有するラッチ機構と、ポッド内外と流体的に連通し、不活性ガス供給管と接合された際に、不活性ガスをポッド内に導入可能な給気弁部材と、不活性ガスをポッド内から排気可能な排気弁部材とを備え、ラッチ機構は、係合溝内に進入した後に、第一溝に沿って移動して第一溝の他端まで係合部材が到達することにより、蓋部材を容器本体に固定し、給気弁部材は蓋部材に取り付けられる処理基板収納ポッドにより解決する。 （もっと読む）

【課題】ロードロック装置の内容積を増やすことなく，その重量を大幅に軽量化する。
【解決手段】ロードロック装置２００は，内部圧力を減圧雰囲気と大気圧雰囲気に切り替え可能な基板収容室２０２，２０４と，基板収容室内に設けられ，収容された基板を一時的に載置するバッファ用載置台２２０と，を備え，バッファ用載置台は，１又は複数のバッファ部材２２２で構成し，バッファ部材は，その内部を中空にして気密を保持するように構成した。 （もっと読む）

【課題】基板貼り合わせ装置のスループットを向上させる。
【解決手段】周囲から気密に隔離されて基板を収容する気密室と、気密室の内壁に向かって気体を噴射する噴射部と、気密室の内部を排気する排気部と少なくとも気密室を減圧する場合に、噴射部による気体の噴射と排気部による気体の排気とを同時にする動作と、当該動作の後に、排気部により気体を排気する動作とを実行させる制御部とを備える。制御部は、噴射部が気体を内壁に向かって噴射した後、内壁に沿って気体を噴射させてもよい。 （もっと読む）

【課題】 装置内部からのパーティクル飛散を防止するとともに、ＣＶＤやＰＶＤなどの腐食性ガスを使用する環境においても内部に腐食性ガスが侵入することがなく、極めて長期的に安定した耐腐食性能を得ることができるプリアライナー装置を提供する。
【解決手段】 機枠２１の内部を機枠２１に設けた排気用継ぎ手３２から真空排気などにより吸引することによって陰圧化するとともに、機枠２１の外側に外被容器１１を設け、外被容器１１には気体導入用の継ぎ手１２を設けておき、気体導入用の継ぎ手１２から清浄なエアを印加して機枠２１と外被容器１１との間の空間１４に充填することで、外被容器１１の内側を外部雰囲気３に対して陽圧とする。 （もっと読む）

【課題】一方向に搬送される基板を一時的に退避させる基板バッファユニットにおいて、バッファ空間の空気洗浄を効率的に行うことのできる基板バッファユニットを提供する。
【解決手段】基板搬送路を搬送される基板Ｇを一時的に収容し、前記基板搬送路から退避させる基板バッファユニット１００であって、上面が開放された箱状の筐体１と、前記基板搬送路から前記筐体内に搬入された基板を載置する載置部６と、前記載置部を前記基板搬送路から外れた所定位置に移動可能に設けられた箱状の棚部２と、前記棚部の一側面に設けられ、前記載置部に清浄空気を導入する空気導入口６ａと、前記棚部に接続され、該棚部内の空気を吸引して前記筐体外に排気する排気手段３０と、前記棚部よりも下方の前記筐体側面に設けられ、該筐体内の雰囲気を排気する排気窓４０とを備える （もっと読む）

【課題】一時待機空間の気圧がウエハ搬送空間の気圧よりも高くなる所望の気圧分布を実現できる半導体製造装置を提供する。
【解決手段】本発明の半導体製造装置は、ロードロック１０により区画された一時待機空間が設けられ、その一時待機空間から内部（処理空間）へ移動された半導体ウエハに対して処理を実行する処理装置１と、ウエハ収納容器２が設置されるローダー３と、半導体ウエハが搬送されるウエハ搬送空間へ清浄化された気体を供給する清浄化装置６と、清浄化装置６から噴出する気体を一時待機空間とウエハ搬送空間へ分けて送るとともに、一時待機空間の気圧がウエハ搬送空間の気圧よりも高くなるように、一時待機空間とウエハ搬送空間へ送り出す気体の量を制御する気流制御装置１４と、を備える。 （もっと読む）

【課題】生産性を向上させた真空処理装置を提供する。
【解決手段】減圧された内部のプラズマを用いて試料が処理される複数の真空処理容器と、真空処理容器がその周囲に連結されその内部が減圧されて前記試料が搬送される搬送室と、該搬送室と連通され真空側と大気側とで前記試料がやりとりされる複数のロック室と、前記搬送室内に配置され前記ロック室と前記複数の真空処理容器内の処理室との間で前記試料を搬送する真空搬送手段と、前記ロック室の大気側で内部に大気圧下で前記試料を搬送する空間を有した大気搬送容器と、該大気搬送容器内の空間に配置されカセットから前記試料を搬送する大気搬送手段と、複数の前記試料を定められた滞留時間を含み前記カセットから搬出し前記処理室で処理された後該カセットに戻すまでの複数の動作の予定情報に基づいて前記動作を調節する制御装置とを備えた真空処理装置。 （もっと読む）

【課題】搬送機構を長時間停止させておいた場合でも、初回駆動時にエラーを起こし難い搬送機構の制御方法を提供すること。
【解決手段】ロードポートと、ロードポートに接続された搬入出室と、搬入出室に接続されたロードロック室と、ロードロック室に接続された搬送室と、搬送室に接続された複数の処理室と、搬送室に設けられ、被処理基板を搬送する搬送機構と、を備えた基板処理装置の搬送機構の制御方法であって、被処理基板がロードポートに到着した後、かつ、被処理基板が搬送室に移送される前に、搬送機構を微少駆動させる。 （もっと読む）

【課題】FOUP内部をパージする際のパージ効率の高いパージ装置及び当該装置向けのFOPU蓋の開閉装置を提供する。
【解決手段】FOUPの蓋が通過可能な開口部を有する筐体と、当該開口部を閉鎖可能であると共に該蓋を保持可能なドアと、該筐体内に配置されるガス供給ノズルとを有するパージ装置において、ドア表面に配置されて蓋のラッチ機構を動作させる構成の周囲を囲むようにシール部材を配置し、該ドアが該蓋を保持した状態で該シール部材がラッチ機構を動作させる構成を外部空間に対して空間的に分離することとする。 （もっと読む）

【課題】基板搬送装置の高さの低減、及び汚染物質等の進入の抑制を図る。
【解決手段】複数の基板Ｗが上下方向に並列的に収容される棚を有し、該棚の全段に相当する寸法の開口６ａがその一側面に形成された基板容器６が設置される容器台４２と、容器台４２を、上下方向の任意の位置で位置決め可能に移動する駆動装置４３と、容器６の棚の全段に相当する寸法よりも小さい範囲で上下方向に移動し、容器台４２との間に設けられた隔壁４４に形成される開口部４４ａと、開口部４４ａに対向する容器６の開口６ａとを介して基板容器６の棚に対する基板Ｗの搬出又は搬入を行う搬送アーム２０と、搬送アーム２０の上下方向の移動範囲に対して容器台４２の上下方向に位置を変更するように駆動装置４３を制御する制御装置と、容器台４２が位置を変更する際に、隔壁４４に形成される開口部４４ａが外部へ開放されることを防止する防止手段４７とを含んでいる。 （もっと読む）

【課題】地震の発生を予知して開放中の収納容器からの被処理体の飛び出しを防止し、被害を最小限に抑える。
【解決手段】収納容器３の搬送機構１３を有する搬送領域Ｓａと、熱処理炉５よりも下方の作業領域Ｓｂに設けられ蓋体１７上に複数枚の被処理体を搭載した保持具４を支持して熱処理炉に搬入搬出する昇降機構１８と、搬送領域Ｓａと作業領域Ｓｂを仕切る隔壁６の開口部を移載部の収納容器の蓋と一緒に開閉するドア機構１５と、通信回線２６を介して配信される初期微動に基く緊急地震情報を受信する受信部２８又は初期微動を直接検知する初期微動検知部と、受信した緊急地震情報又は検知した初期微動に基いて半導体製造装置１の運転を停止する第１工程、及び、上記ドア機構１５が開状態にある時にドア機構１５を閉作動させる第２工程を実行する制御部２９とを備える。 （もっと読む）

【課題】外部のガス導入装置などによる加圧手段に頼ることなく、簡便な構造で収納空間を外部環境よりも高い圧力に維持することが可能な収納容器を提供することを目的とする。
【解決手段】収納部を収納する収納空間に、容積が可変なポンプ空間を前記収納空間に対して気密に連結して形成した。前記ポンプ空間の内容積を変化させるために移動可能な作用部を有する。たとえば、作用部には伸縮自在のベローズや弾性体を用いる。さらに、ポンプ空間は収納空間と一体とすることも可能である。 （もっと読む）

ポリマーで形成される基板収納容器内で著しく乾燥した環境を維持するための、コンポーネント、システム、および方法は、基板収納容器の補助的な外部ガスパージを提供して、容器のポリマー壁を通した水分および酸素の浸透を最小にし、かつ、容器のポリマー壁に封じ込められた水の脱着を抑制する。
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