説明

Fターム[5F044KK02]の内容

ボンディング (23,044) | フェイスダウンボンディング用配線基板 (5,003) | 基板 (2,939) | 樹脂基板 (931)

Fターム[5F044KK02]の下位に属するFターム

Fターム[5F044KK02]に分類される特許

501 - 504 / 504


【課題】反りの小さいフリップチップを得ることができるフリップチップ実装方法及びフリップチップ実装装置を得る。
【解決手段】フリップチップ実装方法は、ステージ上に基板5を吸着保持し、チップ吸着ブロック1に吸着保持したフリップチップ3を加熱しながら基板上に加圧し、同時に基板5をステージ側から強制冷却する。フリップチップ実装装置21は、加熱手段2を内蔵したチップ吸着ブロック1と、基板吸着手段27及び基板冷却手段25を備えたステージ23とを具備し、加熱手段2、基板吸着手段27、及び基板冷却手段25が同時に動作するように構成した。 (もっと読む)


【課題】 はんだ接合部の応力集中を緩和しディバイスに発生する内部熱を効率的に放熱して信頼性の向上を図る。
【解決手段】 実装面2aに接続電極6と周辺補強用ダミー電極7と中央補強用ダミー電極8が形成されたディバイス2と、接続ランド10と周辺補強ランド11と中央補強ランド12とが形成されディバイス2をディバイス実装面3a上に実装する実装基板3とを備える。実装基板3には、中央補強ランド12に接続される放熱ビア14と、裏面3bに放熱パターン15が形成され、中央補強ランド12がディバイス2からの発生部を兼用して裏面3bからの放熱を行う。 (もっと読む)


【課題】 ベアチップへのはんだバンプ形成・インタポ−ザへの実装という製造工程を不要とするLSIパッケージを提供する。
【解決手段】 ベアチップ4に設けられたベアチップI/O(入出力)端子3に接続する配線パタ−ン6を基板1のビルドアップ層2に形成し、ベアチップ4をLSIパッケージに実装する。その際、配線パタ−ン6は基板1の外部I/O端子7に接続するように形成される。 (もっと読む)


【課題】 温度変化の大きい環境下に置かれても、異方導電性フィルムと半導体素子及び/または回路基板との接続界面に破壊が生じることなく、良好な導通特性が維持される半導体装置を提供する
【解決手段】 半導体素子30を異方導電性フィルム10を介して回路基板20と電気的に接続してなる半導体装置であって、異方導電性フィルムは、絶縁性樹脂からなるフィルム基板1中に複数の導通路2が、互いに絶縁されて、フィルム基板の厚み方向に貫通してなるものであり、当該異方導電性フィルムのフィルム基板の面1aと回路基板の基板面21aとの間に隙間Sが形成されている。 (もっと読む)


501 - 504 / 504