【課題】被露光部材の焦点方向の位置情報を高精度に検出できる露光装置を提供する。
【解決手段】パターンを形成するパターン形成部を照明光で照明する照明部と、パターンが転写される被露光部材Ｐを載置面で載置させる載置部２１と、載置部に載置された被露光部材に、照明光で照明されたパターンの像を投影する投影部３と、投影部を介して照明光とは異なる波長の第２照明光ＳＬで載置部に載置された被露光部材を照明して、被露光部材の位置情報を計測する計測装置４と、載置部に設けられ、被露光部材を透過した第２照明光の計測装置への反射を規制する反射規制部と、を備える。 （もっと読む）

【課題】本発明はウェーハの露光エネルギー情報を利用した露光用マスクの管理方法を提供する。
【解決手段】 露光装備でウェーハを露光させるために使うマスクに対する情報を露光装備から算出して、該当のマスクを利用して各ウェーハを露光させるうちに適用された光エネルギー値を算出して、算出された光エネルギー値をデータサーバーに貯藏して、半導体パッケージ内の多数の露光装備から進行されるすべてのウェーハの露光工程に対して同じデータを取合して多数の露光装備によって使われる多数のマスクそれぞれに対して露光エネルギーに対する露出情報を蓄積管理するので、結晶成長、混濁のようなマスク汚染の直接的な原因である露光エネルギーに対するマスクの露出程度を直接的に算出してマスク欠陷を予測して、それによる対策を立てることで半導体収率下落を防止して半導体生産の収率を進めることができる。 （もっと読む）

【課題】光ビームにより基板にパターンを描画する際、露光量を均一にして、パターンの描画を精度良く行う。
【解決手段】露光パターン解析装置８０の光量データメモリ８２は、予め、光ビーム照射装置２０から照射される光ビームの光量を、所定の面積の露光領域毎に記憶する。描画制御部７１は、光ビーム照射装置２０のＤＭＤ駆動回路２７へ描画データを供給する。露光カウンタ８５は、チャック１０と光ビーム照射装置２０との相対的な位置、及び光ビーム照射装置２０のＤＭＤ駆動回路２７へ供給される描画データから、光ビームの照射回数を所定の面積の露光領域毎に数える。演算回路８７は、予め記憶した光ビームの光量と、光ビームの照射回数とから、所定の面積の露光領域毎に露光量を算出する。露光パターン解析装置８０は、算出した露光量に基づいて、露光量を補正する。 （もっと読む）

【課題】冷却される部品が光学要素である光学要素を冷却する冷却システムを改良する。
【解決手段】 本発明は、パターンをパターニングデバイスから基板に転写するように配置構成されたリソグラフィ装置であって、リソグラフィ装置の部品を冷却し、小滴を形成して小滴をリソグラフィ装置の部品の冷却表面に向かって発射し、小滴の蒸発によって部品を冷却する小滴エジェクタを含む冷却システムを含むリソグラフィ装置に関する。 （もっと読む）

【課題】誤った低いオーバーレイ計算を識別する方法を提供する。
【解決手段】スキャトロメータで１次回折次数と０次回折次数の両方が検出される。１次回折次数はオーバーレイエラーを検出するために使用される。その後、これがバイアスより大きくしかし回折格子のピッチより小さい大きさの誤ったオーバーレイエラー計算である場合、フラグを立てるために０次回折次数が使用される。 （もっと読む）

【課題】被検面のパターン又は反射率分布の影響を低減させて、被検面の法線方向の位置情報を高精度に検出する。
【解決手段】計測光Ｌ１をレチクル面Ｒａに照射し、レチクル面Ｒａからの反射光Ｌ２を光電センサ３７で受光して、レチクル面Ｒａの面位置情報を検出する装置において、計測光Ｌ１をレチクル面Ｒａに照射して反射光Ｌ２を受光する対物レンズ３５と、対物レンズ３５を介した反射光Ｌ２を光電センサ３７に通すピンホール板３６とを含む共焦点光学系と、計測光Ｌ１にレチクル面Ｒａ上での照射面積を広げるように、かつ反射光Ｌ２にピンホール板３６上での照射面積を狭くするように位相分布を付与する位相板３３とを備える。 （もっと読む）

【課題】個々に制御可能な素子のアレイを使うリソグラフィ装置において、複数の放射線分配チャンネルからの放射線が均一であるように放射線の強度を検出しフィードバックし、変動を補償できるシステムを提供する。
【解決手段】個々に制御可能な素子のそれぞれは放射のビーム６にパターンを付与し、その後ビームが基板９上に投影されるリソグラフィ装置であって、放射線強度の検出器２０は放射分配システム７における放射の損失を測定し、損失量を決定し、この情報を補償システムにフィードバックする。補償システムは損失量を補償し、基板上に投影される放射の強度を一定に保持する。 （もっと読む）

【課題】 光学部材の変動に影響されずに被検面の面位置を高精度に検出する。
【解決手段】 第１パターンからの第１測定光および第２パターンからの第２測定光を被検面（Ｗａ）へ導いて第１パターンの中間像および第２パターンの中間像を投射する送光光学系（４〜９）と、被検面によって反射された第１測定光および第２測定光を第１観測面（２３ａ）および第２観測面（２３ａ）へ導いて第１パターンの観測像および第２パターンの観測像を形成する受光光学系（２９〜２４）と、第１パターンの観測像および第２パターンの観測像の各位置情報を検出し、各位置情報に基づいて被検面の面位置を算出する検出部（２３〜２１，ＰＲ）とを備えている。送光光学系は、第１測定光の被検面への入射面に沿った第１パターンの中間像の投射倍率と、第２測定光の被検面への入射面に沿った第２パターンの中間像の投射倍率とを異ならせる。 （もっと読む）

【課題】広い間隔の波長または波長範囲を使用して測定することができるスキャトロメー
タ測定方法および装置を提供する。
【解決手段】スキャトロメータは、異なる第一および第二波長範囲の放射を放出すること
ができる放射源を有する。どちらの波長範囲を使用しているかに従って必要に応じて色補
正を実行するために、可変光学要素が設けられている。したがって、１つのスキャトロメ
ータが、広い間隔の波長を使用して測定を実行することができる。 （もっと読む）

【課題】露光装置に含まれる複数の光学ユニットの保守作業の効率化に有利な技術を提供する。
【解決手段】露光装置１００は、複数の光学ユニット２２、２、３、５、６、１０、１３が配置された光路を有する。前記光路は、原版１６のパターンを基板１８に投影し該基板１８を露光するための部分を含む。露光装置１００は、前記複数の光学ユニットの光による劣化を監視する制御部２１を備える。制御部２１は、前記光路をそれぞれ少なくとも１つの光学ユニットを含む複数の領域に分割し、分割された領域ごとに当該領域に属する光学ユニットの光による劣化を監視する。 （もっと読む）

【課題】 デバイスの製造中に、リソグラフィ技術、およびレンズの開口数が高い瞳面で角度分解スペクトルの測定を使用して、オーバレイおよび格子形状パラメータを測定する方法を提供すること。
【解決手段】 レンズの開口数が高い瞳面にて、放射線が基板で反射した結果としての角度分解スペクトルを測定することによって、基板の特性を求める装置および方法である。特性は、角度および波長に依存し、ＴＭおよびＴＥ偏光の強度、およびその相対的位相差を含む。 （もっと読む）

【課題】露光装置の構成の簡略化、小型化、低コスト化を図る。
【解決手段】照明光源からの照明光で照明されたマスクＲ２のパターンの像を基板Ｗ上に投影する投影光学ユニットＰＬＵ１であって、マスクＲ２と基板Ｗとの間の光路中に設けられ、基板Ｗでの反射光を該光路から分離する光学部材２５と、光学部材２５で分離された光を検出する検出手段Ｂ１とを備えて構成される。 （もっと読む）

【課題】リソグラフィ装置内の個別制御可能素子アレイをより使いやすくするシステム及び方法を提供する。
【解決手段】リソグラフィ装置内の個別制御可能素子アレイを較正するために使用される装置及び方法。較正ユニットは、変調された放射ビームを基板に投影する投影系に変調放射ビームが入射する第１状態と、変調された放射ビームの一部が較正ユニットにより検査される第２状態とを切り替えることができる。較正ユニットは、変調された放射ビームの検査結果に基づいて較正データを生成または更新する。アレイコントローラは、個別制御可能素子アレイの素子に制御信号を供給するために較正データを使用する。これらの素子はその制御信号に応答するよう構成されている。 （もっと読む）

【課題】測定スケール部が測定中のデバイスに直接に関連付けられていないエンコーダを使用するシステム等を提供する。
【解決手段】システム及び方法を用いてデバイスのパラメータ（例えば、角度、位置、向きなど）が決定される。第１の部分は、デバイスの反射部分に反射するように誘導される放射ビームを生成するように構成された放射源を含む。第２の部分は第１の部分に結合され、反射したビームが測定デバイスを透過して検出器に達するように測定デバイスとオプションとして検出器とを含む。デバイスのパラメータが反射したビームと測定デバイスの相互作用に基づいて決定される。一例では、第１及び第２の部分はリソグラフィ装置内のスキャンミラーの角度又はステージの向きを測定する折返し光学エンコーダを形成することができる。 （もっと読む）

【課題】リソグラフィ装置の投影系の均一性を表す情報を取得するために用いられる装置および方法を提供する。
【解決手段】電磁放射ビームは、該放射ビームが投影系の第１端部から投影系の第２端部へ通過するように、投影系に導かれる。電磁放射ビームは、続いて、該電磁放射ビームが投影系の第２端部から投影系の第１端部へ通過するように、投影系へ戻るよう導かれる。前記投影系の均一性を表す情報を取得するために、電磁放射ビームが投影系に戻って通過した後に、電磁放射ビームの少なくとも一部が検出される。 （もっと読む）

本発明は、光学モジュール、支持構造体、及び力発生デバイスを有する特にマイクロリソグラフィのための光学デバイスに関する。力発生デバイスは、光学モジュールと支持構造体とに接続され、かつ光学モジュールに対してクランプ力を作用するように設計される。力発生デバイスは、作動圧力を有する作動流体を印加することができる作動チャンバを有する流体力発生要素を有する。力発生要素は、筋肉要素の形態を取り、これは、第１の作動圧力で第１の引張力を作用し、第１の作動圧力に対して高められた第２の作動圧力で、第１の引張力に対して強められた第２の引張力を作用する。 （もっと読む）

【課題】電子シャッタおよびメカニカルシャッタを備えることなく画像に発生するスミアを抑える。
【解決手段】ＥＵＶ光またはＸ線用撮像装置は、ＥＵＶ光またはＸ線を撮像して画像を生成する撮像部と、撮像部により第１の露光時間で撮像を行って生成した第１の画像と、撮像部により第１の露光時間と異なる第２の露光時間で撮像を行って生成した第２の画像との差分画像を取得する取得部とを備える。また、本発明のＥＵＶ露光装置は、上述したＥＵＶ光用撮像装置を備える。 （もっと読む）

【課題】スループット時間を大幅に増加させることなく、ＴＩＳおよび／または瞳面の中心を求める際のエラーを補償し、或いは、軽減する方法および装置を提供する。
【解決手段】スキャトロメータの非対称性を測定する方法において、ターゲット部分を、第一には０°の基板回転で、第二には１８０°の基板回転で、２回照明する。これらの像の一方を回転し、次に回転したその像を他方の像から引く。この方法で、スキャトロメータの非対称性を補正することができる。 （もっと読む）

【課題】光の強度分布を一様としながら露光対象面の照度を調整する露光装置を提供する。
【解決手段】本発明の露光装置は、チャンバー２０１、ガス供給部１０１、ガス分圧調整部１０３、分圧目標値演算部１０５、温度計１０７および分圧測定器１０９を備え、透過率の異なる複数種類のガスを露光装置内に供給するガス供給部１０１と、露光対象の露光光照度が目標値となるように、露光装置内におけるそれぞれのガスの分圧を調整するガス分圧調整部１０３と、を備えた。 （もっと読む）

放射強度分布の局所的および角度的に分解された測定のために該投影露光ツール(10)の光路(28)に配置された測定器(36)を有する、マイクロリソグラフィーのための投影露光ツール(10)が提供される。ここで、上記測定器(36)は、測定フィールド(41)の個別の点(x_i, y_j)に配置された集束光学素子(42)の配列(56)を有する測定フィールド(41)と、集束光学素子(42)に対する共通の像面(44)と、局所分解された照射強度を記録するための記録面(48)を有し、記録面(48)は共通の像面(44)に配置されている局所分解放射線検出器(46)と、記録された照射強度から測定フィールドの各々個別の点(x_i, y_j)に対するそれぞれの角度分解照射強度分布を定めるよう配置された評価器(60)とを備える。
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