【解決手段】ナフタレン、フルオレン、フルオレノン、アントラセン、フェナントレン、ピレン、アントラキノン、キサントン、チオキサントン、ベンゾクマリン、フェナレン-1-オン、アセナフテンから選ばれる芳香族基含有繰り返し単位を有し、酸によりアルカリに溶解する高分子化合物を含む第1のポジ型レジスト材料を基板上に塗布して第1のレジスト膜を形成する工程と第1のレジスト膜上にアルキルアルコールを溶剤とする第2のポジ型レジスト材料を塗布して第2のレジスト膜を形成する工程と高エネルギー線で露光、ベーク後現像液を用いて前記第1,2のレジスト膜を同時に現像してレジストパターンを形成する工程とを含むパターン形成方法。
【効果】第2層のレジスト膜を第1層レジスト膜と組み合わせることにより第2層のレジスト膜単独の場合よりも現像後のレジストパターンをマスクにして基板をエッチング加工したりイオンを打ち込んだりするときの耐性を高くできる。 （もっと読む）

【課題】モールドをプレスすることにより得られたパターンの残膜を除去する際、そのレジストパターンの線幅精度、形状を劣化させることなく、微細なパターンを形成可能にする方法を提供する。
【解決手段】ポジ型感光性樹脂層２と、該ポジ型感光性樹脂を感光させる感光波長の光を吸収することが可能な吸収層３と、がこの順に積層された基板１を用意する工程と、凸部を有するモールド４の前記凸部を前記ポジ型感光性樹脂層２と前記吸収層３との二層にプレスする工程と、前記二層と前記モールド４とを離間させる工程と、前記光を前記二層の上面側から前記二層に照射する工程と、前記吸収層３を除去する工程と、前記ポジ型感光性樹脂層２を現像する工程と、をこの順で有する構造体の製造方法である。 （もっと読む）

【課題】下塗り反射防止層として使用されることができ、かつ水性フォトレジスト現像剤で除去されうる新たな組成物を提供する。
【解決手段】上塗りフォトレジスト層の現像中の単一工程をはじめとする水性アルカリ現像剤で現像されうる有機コーティング組成物、特に反射防止コーティング組成物が提供される。好ましいコーティング組成物は少なくとも４種の異なる官能基を含むテトラポリマーを含む。 （もっと読む）

【課題】反射防止能に優れたレジスト下層膜を形成することができる多層レジストプロセス用下層膜形成組成物を提供すること。
【解決手段】（Ａ）ノボラック樹脂と、（Ｂ）有機溶剤と、を含有し、（Ａ）ノボラック樹脂が、（ａ１）分子中にフェノール性水酸基を２つ以上有する化合物を１〜９９質量％、（ａ２）ナフトールを１〜１０質量％、（ａ３）フェノール性水酸基を有する化合物（但し、前記（ａ１）化合物及び前記（ａ２）ナフトールを除く）を０〜９８質量％（但し、（ａ１）＋（ａ２）＋（ａ３）＝１００質量％とする）、及び（ａ４）アルデヒド、を縮合して得られる樹脂である多層レジストプロセス用下層膜形成組成物。 （もっと読む）

【課題】装置の小型化及びスループットの向上が図れ、かつ、塗布膜の平坦性の維持が図れるようにすること。
【解決手段】ウエハＷ上に紫外線硬化樹脂液を塗布する塗布ノズルを具備する塗布処理ユニット１５と、紫外線硬化樹脂液が塗布されたウエハを載置し、ウエハの温度上昇を抑制する冷却板７１と、紫外線硬化樹脂液が塗布されたウエハを載置し、紫外線硬化樹脂液中の液分を蒸発させる熱板７０と、を具備する熱処理ユニット３２と、塗布処理ユニットから冷却板へウエハを搬送する搬送機構１１０と、冷却板を熱板に対して進退移動すると共に、ウエハを受け渡しする移動機構７５と、搬送機構によってウエハを冷却板に載置させる際に、ウエハ表面に紫外線を照射する第１の紫外線照射手段７７Ａと、移動機構の駆動によって冷却板上のウエハを熱板上に載置させる際に、ウエハ表面に紫外線を照射する第２の紫外線照射手段７７Ｂと、を設ける。 （もっと読む）

【課題】レジストとの良好なマッチング特性を有するレジスト下層膜を形成することができるレジスト下層膜形成用組成物を実現する。
【解決手段】本発明のレジスト下層膜形成用組成物は、硫黄原子を含む１価の有機基を有する繰返し単位を有するシロキサンポリマー成分を含有することで、レジストとのマッチング特性が良好なレジスト下層膜を形成し得る。 （もっと読む）

【課題】短波長の露光において、最適なｎ値、ｋ値を有し、かつ基板エッチング条件でのエッチング耐性にも優れ、例えば、珪素含有２層レジストプロセス、あるいは珪素含有中間層膜による３層レジストプロセスといった多層レジストプロセス用レジスト下層膜として有望なレジスト下層膜材料を提供する。
【解決手段】リソグラフィーで用いられる多層レジスト膜のレジスト下層膜材料であって、少なくとも、下記一般式（１）で示される繰り返し単位を有することを特徴とするレジスト下層膜材料。
【化３７】
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【課題】熱リソグラフィーにおいて、熱変換体として利用でき、かつ有機材料で構成される熱リソグラフィー用下層膜形成用材料、該熱リソグラフィー用下層膜形成用材料を用いたレジスト積層体およびレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】支持体とレジスト膜との間に熱リソグラフィー用下層膜を形成するための熱リソグラフィー用下層膜形成用材料であって、膜形成能を有する有機化合物（Ａ１）と、熱リソグラフィーにおいて用いられる露光光源の波長の光を吸収する染料（Ｂ）とを含有し、当該熱リソグラフィー用下層膜形成用材料を用いて形成される熱リソグラフィー用下層膜が、前記露光光源の波長において、膜厚１００ｎｍあたり０．２６以上の吸光度を有する有機膜であることを特徴とする熱リソグラフィー用下層膜形成用材料。 （もっと読む）

【課題】短波長の露光光の反射率が低く、酸素プラズマ等に対するエッチング耐性にも優れる下層膜を形成するための下層膜用組成物及び多層レジストパターン形成方法を提供すること。
【解決手段】フォトレジスト層の下層膜に用いられる下層膜用組成物であって、置換基を有してもよいアダマンチル基を側鎖に有するアクリルモノマーから誘導される構成単位と、ヒドロキシスチレン誘導体から誘導される構成単位とを含む共重合体を含む下層膜用組成物である。 （もっと読む）

【課題】 マスクが不要でレジストが節約でき、さらにレジストパターンの識別が容易なレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】 レジストパターン形成方法が、レジストと、可視光域において下地物体の反射率・波長特性とは異なる反射率・波長特性を呈する微粒子と、を含有した液状材料を前記下地物体上に配置して、前記下地物体上に材料パターン１０Ａを形成する工程と、前記材料パターンを乾燥してレジストパターン１０Ｂを形成する工程と、を有している。 （もっと読む）