【課題】 大きさがコンパクトで、高品質なシリコンウエハを得ることのできる薄板製造装置を提供する。
【解決手段】 薄板製造装置３０には、第１開閉扉３７によって連通／遮断される第１および第２チャンバ３２ａ，３２ｂと、第１または第２チャンバ内に収容され、シリコンの融液を貯留する２つの坩堝３１ａ，３１ｂと、坩堝を第１チャンバと第２チャンバと間で自在に移動させることのできる坩堝移動手段３６と、第１チャンバ内に設けられ、下地基板３３を着脱自在に保持し、下地基板を坩堝内の融液に浸漬する浸漬手段３５とが、備えられる。浸漬手段は、坩堝移動手段によって第１チャンバ内で並列になるように配置される２つの坩堝のうちから選択される１つの坩堝に下地基板を浸漬し、下地基板の結晶生成面で多結晶シリコンウエハを凝固成長させる。 （もっと読む）

【課題】 容器内に貯留されて薄板原料となる融液の液面高さを一定に保ち、長期にわたって安定した品質の薄板を製造することができる薄板製造装置を提供する。
【解決手段】 薄板製造装置１では、シリコンの融液２を坩堝３内に貯留し、下地基板４の結晶生成面を坩堝３内の融液２に浸漬して、シリコンを下地基板４の結晶生成面で凝固成長させて薄板を製造するに際し、たとえば１枚の薄板を製造するごとに、浸漬前後の下地基板４の重量差から坩堝３内の融液の減少量を検出し、検出した融液の減少量に等しい量のシリコンを坩堝３内へ投入し、投入されたシリコンを溶解して融液温度を安定化させる。 （もっと読む）