【課題】 荷電粒子線照明装置において、容易に照明の一様性を調整する方法を提供する。
【解決手段】 アライナ１９Ａを用いて、荷電粒子線が開口絞り１４の中心を通るように調整した後、アライナ１９Ｂを調整して、照明一様性が最小（照明むらが最小）となる調整点を見つける。その後、再度アライナ１９Ａを用いて、荷電粒子線が開口絞り１４の中心を通るように調整した後、照明用レンズ１２Ｂを調整し、照明一様性が最小となる調整点を見つける。以上の動作を、照明一様性が仕様に入るか、繰り返し数が所定数になるまで繰り返す。 （もっと読む）

【課題】偏向電極と遮蔽電極との隙間へ侵入する荷電粒子を遮蔽電極へ引き付け、偏向電極近傍の帯電を防止し、荷電粒子線のシフトやボケを押さえ、高精度のパターン描画を行なえる偏向器と、及び荷電粒子線露光装置、デバイス製造方法を提供する。
【解決手段】電子源から放射される荷電粒子線が通過する開口517付近に浮遊する荷電粒子の極性と逆の極性の電圧が遮蔽電極502に印加される。例えば、浮遊する電子に対しては遮蔽電極に正の電圧を印加することとなり、偏向電極501と遮蔽電極との隙間へ侵入する荷電粒子を遮蔽電極へ引き付け、偏向電極近傍の帯電を防止でき、安定した動作が可能となる。このため、帯電による荷電粒子線555のシフトやボケが最小限に押さえられ、精度の高いパターン描画を行うことが可能となる。 （もっと読む）

【課題】 試料の描画中に発生する電子ビームの位置異常、電子ビーム照射量等の特性の異常の発生を即座に検出できる電子ビーム装置及びその電子ビーム装置を用いるデバイス製造方法を提供する。
【解決手段】ブランキングデータに基づいて、電子ビームを偏向制御する偏向制御手段と、偏向制御手段により試料上に照射されるように偏向制御された電子ビームを通過させる開口部、および、前記偏向制御手段により前記試料上に照射されないように偏向制御された電子ビームを遮蔽する遮蔽部を有するアパーチャ手段と、電子ビームが遮蔽部に照射された際に前記アパーチャ手段から発生する光または反射電子及び２次電子のうち少なくとも１つを検出する検出手段と、検出手段の検出結果に基づいて、試料上での照射状態を求める手段と、を備える。
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【課題】 空間電荷効果の補正を電子軌道の面内に対して高い一様性で行い、電子とイオンとの衝突による電子ビームの損失を減らして効率良く空間電荷を中和し、ビーム電流を増大して高スループット化を図る。
【解決手段】 電子銃から放出された電子ビーム１を収束する機能を備え、該電子ビーム１の軌道領域の周囲に設けられたイオン発生手段１０と、該イオン発生手段１０から発生するイオンビーム２を電子ビーム１の軌道領域に照射するイオン照射手段とを備え、イオンビーム２を電子ビーム１の軌道領域に照射することで、該電子ビーム１により形成される空間電荷を中和し、空間電荷効果を低減する。 （もっと読む）

【課題】偏向器の絶縁膜における帯電による荷電ビームへの影響を低減し、精度良くウエハを露光する偏向器、その偏向器を有する荷電ビーム露光装置およびその荷電ビーム露光装置を用いるデバイス製造方法を提供する。
【解決手段】基板に形成され荷電ビームが通過する開口と、開口の周囲に対向して設置される少なくとも２つの電極と、基板と前記電極との間に介在され基板と電極とを電気的に絶縁する絶縁膜と、を有し、絶縁膜における荷電ビームによる帯電電位に基づいて電極への印加電位が制御され、荷電ビームを偏向するため、偏向器の絶縁膜における帯電による荷電ビームへの影響を低減し、精度良くウエハを露光する。その偏向器を有する荷電ビーム露光装置およびその荷電ビーム露光装置を用いるデバイス製造方法である。 （もっと読む）

【課題】 複数のブランキング電極より成るブランキングアパーチャーアレイのいずれかのブランキング電極に不良が生じた場合でも、ブランキングアパーチャアレイ全体が不良品として使用不能となることを防止する荷電粒子線露光装置およびその荷電粒子線露光装置を用いるデバイス製造方法を提供する。
【解決手段】 少なくとも１つの描画用ブランキング電極が動作しないときに少なくとも１つの描画用ブランキング電極が描画すべき領域を少なくとも１つの描画用ブランキング電極の代わりに描画するように描画用ブランキング電極の両側に隣接して配設される救済用ブランキング電極をブランキングアパーチャアレイは有するため、ブランキングアパーチャアレイ全体が使用不能とならず、正常な動作を行うブランキングアパーチャアレイとして使用することが出来、歩留まりを飛躍的に向上させる。 （もっと読む）

【課題】 高速な制御信号を伝送し、荷電粒子線を高速制御する配線基板と、スループットを格段に向上させた荷電粒子露光装置を提供する。
【解決手段】 荷電粒子線制御信号を伝送するための配線基板であって、中心部から周辺部まで多層配線で形成された第１の配線部４０と、該第１の配線部４０における配線のそれぞれと電気的に接続された配線で形成される第２の配線部４１とを有し、第１の配線部４０の配線に比べ第２の配線部４１の配線の断面積が広い。 （もっと読む）

【課題】ビーム１本あたりの電流量が低いマルチ電子ビーム型露光装置において、ランディング角度を計測すること。また、荷電粒子ビーム応用装置において、ランディング角度の絶対値と高ＳＮ比で相対ランディング角度を計測すること。
【解決手段】２枚の絞り板（第１絞り６ａ、第２絞り６ｂ）と検出器６ｃとの組み合わせの透過型検出器において、第１絞り６ａと第２絞り６ｂとの間隔ｈと第２絞り６ｂの開口径ｄから決まる検出見込み角ａを被計測電子ビーム１０の開き角と略一致させるか検出見込み角ａが開き角より小さい構造とし、検出される電流値が最大となる第１絞りの微小開口１１中心と第２絞り開口１２中心との関係からランディング角度を決定する。 （もっと読む）

【課題】本発明は、一部の電子ビームに異常が発生し、その電子ビームを除く範囲の電子ビームを用いて描画する場合に、使用する電子ビームの最大範囲を自動的に特定する機能を備えた電子ビーム描画方法およびその装置を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明は、複数の電子ビームを生成し、前記複数の電子ビームを被露光物上に照射して描画をする電子ビーム描画方法であって、電子ビームが照射する照射範囲内に異常な電子が存在するところを避けて区画され、かつ正常な電子ビームが占める最大な矩形の区画領域を算定することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 鏡筒内部に配置されている部材が帯電または汚染されることを防止して描画性能の低下を最小限にとどめる。
【解決手段】 荷電ビーム源と、荷電ビームを偏向するブランキング電極１７ａ，１７ｂと、該ブランキング電極により偏向された荷電ビームを遮蔽するブランキングアパーチャー１８とを用い、該ブランキングアパーチャー１８で反射荷電粒子１６または発生した荷電粒子１６を吸収するための導電性モジュールを有し、前記導電性モジュールは、ブランキングアパーチャー１８よりも前記荷電ビーム源側に配置され、前記荷電ビームとは反対極性の電圧が印加される。 （もっと読む）

【課題】 露光装置における荷電粒子線光学系の有効領域での収差をバランスよく調整することできる収差調整方法を提供する。
【解決手段】露光装置における荷電粒子線光学系の収差量を測定し、荷電粒子線光学系を構成する光学要素を制御する制御量を各々変化させ、収差測定ステップを実行させて収差量の変化量を求め、各々の制御量の収差敏感度を求め（ステップ１−６）、荷電粒子線光学系の収差量を所望の収差量にするために、荷電粒子線光学系の収差量と各々の制御量の収差敏感度とに基づいて、前記制御量を決定する（ステップ７−１７）。 （もっと読む）

【課題】 描画中にビームの一部が欠けている状態や、ビームの一部が露光された状態となるのを防ぎ、パターン寸法精度などの描画性能を向上させる。
【解決手段】 荷電粒子線を用いて被露光基板上に所望のパターンを露光するために、前記荷電粒子線を遮蔽するためのブランキングアパーチャ１１０と、ブランキングアパーチャ１１０を光軸に対して略垂直な平面内で移動するＢＡステージ４０１，４０２と、ブランキングアパーチャ１１０の開口面積を変える開口可変手段と、を有する。 （もっと読む）

【課題】 短時間で精度良く荷電粒子ビームの位置を計測する。
【解決手段】 複数本の荷電粒子ビームを用いて被露光基板を露光する荷電粒子線露光装置において、前記荷電粒子ビームの一部または全部について各ビームの前記基板の位置における２次元もしくは直径方向の強度分布を計測する手段と、計測した各荷電粒子ビームの前記強度分布の２次元像または直径方向の一次元プロファイルに対し複数の評価領域を設定しこれら複数の各評価領域において前記基板上での各荷電粒子ビームのビーム位置を算出する手段とを設ける。 （もっと読む）

【課題】 局所領域へ多くの伝送線路を敷設し、且つ伝送線路の周波数特性を向上させる。
【解決手段】 複数の電子ビームの照射を個別に制御するブランキング電極３３を有するブランカーアレイと、ブランキング電極３３を駆動するための駆動信号を伝送する伝送線路とを備えた電子光学系を用いて、前記伝送線路は、光伝送路と、前記光伝送路の始点側で前記駆動信号を電気信号から光信号に変換する第１の光電変換部３７と、前記光伝送路の終点側で第１の光電変換部３７で変換された光信号を電気信号に変換する第２の光電変換部３５とを有し、第２の光電変換部３５で変換された電気信号をブランキング電極３３に入力する。 （もっと読む）

出力のところで所望の露光パターンを表す電気信号を生成するプロセッサ（５０４）を備えるマルチビーム同期ラスタ走査リソグラフィ・システム（５００）。露光放射線のマルチビーム源（５０２）は、複数の露光ビームを生成する。ビーム変調器は、プロセッサが生成した電気信号を受信し、所望の露光パターンにより複数の露光ビームを変調する。ビーム変調器（５０６）は、第１の軸に沿って所定の距離だけ複数の露光ビームを偏光し、それにより所望の露光パターンにより第１の軸に沿って複数の画素を露光する。並進ステージは、所望の重なり合う露光線量プロファイルになる第１の軸に沿った画素の以降の露光のために基板を位置決めするために、第２の軸に沿って所定の距離だけ基板を移動する。
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被駆動体を駆動して移動させるステージ装置であって、被駆動体を載置させて移動する可動スライダと、可動スライダを駆動する可動スライダ駆動部と、可動スライダの出発位置、及び可動スライダが移動すべき目標位置に基づいて、可動スライダが出発位置から目標位置まで移動するときの各時刻における可動スライダ駆動部による駆動量を算出するフィードフォアワード補償器と、可動スライダの位置を検出する可動スライダ位置センサと、可動スライダが出発位置から目標位置まで移動するときの各時刻において、可動スライダが移動すべき目標位置、及び可動スライダ位置センサが検出した可動スライダの位置に基づいて、可動スライダ駆動部による駆動量を算出するフィードバック補償器とを備える。
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【課題】 荷電粒子線露光装置において、照射荷電粒子線の強度分布を検出し、該分布を均一にするように制御することで、精度よいパターン描画を実現する。
【解決手段】 荷電粒子線源より照射された荷電粒子線をアパーチャアレイ３ａに設けられた複数の開口で複数の荷電粒子ビームに分割し、アパーチャアレイ３ａに設けられた前記開口を通過する際の前記荷電粒子ビームの強度を検出する検出手段と、前記検出手段の検出結果に基づいて前記荷電粒子ビームの強度を調整する調整手段とを有し、前記複数の開口を通してウエハ５上に到達する前記荷電粒子ビームの強度分布を均一とする。 （もっと読む）

【課題】アパーチャアレイによって構造化された粒子ビームを、ｘ座標方向及びｙ座標方向に連続的に移動するテーブル上の基板上で正確に位置決めすること。
【解決手段】粒子ビームを生成する粒子ビーム源３０と、該粒子ビームによって面的に照射され、かつ該粒子ビームから、投射システムを介して基板上に投射されかつ該基板上にビームフットポイントを定める複数の個別ビームを生成するアパーチャプレート装置３４と、基板が載置されると共にレーザ距離測定システム２０を備えた、Ｘ座標方向及びＹ座標方向に可動のテーブル２１とを含んで構成された装置において、前記レーザ距離測定システムは、補正データ及びピクセルクロックの考慮のもとでマルチチャンネルビーム追従システムを介してＸ座標方向及びＹ座標方向において前記ビームフットポイントを位置決めする同期・制御装置に一定のクロックで位置データを供給する。 （もっと読む）

【課題】 特にマルチ電子ビーム型露光装置において、電子ビームの照射によるアパーチャアレイの熱負荷を低減し、描画精度を向上させることが可能な荷電粒子線露光装置を提供する。
【解決手段】 電子源１からの電子ビームを複数の開口によって分割し、各種レンズを含む縮小投影系７などを介して複数（マルチ）の電子ビームによってウエハ８を露光するためのアパーチャアレイ４と、前記アパーチャアレイ４の前段に配置され、前記アパーチャアレイ４の開口を内包する開口を備え、前記アパーチャアレイ４に照射する電子ビームの照射量を制限するためのプリアパーチャアレイ３とを設ける。 （もっと読む）

機構や構造体を形成し、材料の表面に書き込むためのイオン又は電子源などの粒子ビーム源と共に使用するのに好適なマスクが提供される。このマスクは、複数の開口部を有する開口プレートと、この開口プレートの下側に配置された集束手段とを備えている。複数の開口部がアレイを形成して、これにより各プレートの開口部が開口プレートに入射する粒子ビームの一部を受け取るように適合される。そして、粒子ビームの各部分は集束手段を通過することにより、表面上に集束される。これによりマスクは、複数の高い分解能の同時に動作可能な集束された粒子ビームを形成する。
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