【課題】例えば、偏向器に与えられる電位の安定化に有利な描画装置を提供する。
【解決手段】描画装置は、偏向器を有し、該偏向器で偏向された荷電粒子線で基板に描画を行う。ここで、偏向器１９は、荷電粒子線を偏向する電界を生成する電極対を構成し、かつ、線を介して電位を与えられる電極ｄ（ｄ１〜ｄ４）と、電極ｄに一端が接続され、かつ、他端が接地されたコンデンサ５０とを含む。 （もっと読む）

【課題】 荷電粒子線による描画動作に支障を与えることなく、ストッピングアパーチャに堆積される汚染物質を効率よく除去する。
【解決手段】 荷電粒子線描画装置は、荷電粒子線を偏向するブランキング偏向器１８と、前記ブランキング偏向器で偏向された荷電粒子線を遮断するストッピングアパーチャ１９と、前記ストッピングアパーチャに堆積された堆積物を分解する活性種を気体から生成するための触媒２４と、前記触媒に前記気体を供給する供給機構２５と、を備える。前記堆積物を除去する除去動作では、前記荷電粒子線描画装置は、前記供給機構によって前記気体を前記触媒に供給しながら、パターンを描画する描画動作では前記荷電粒子線が照射されない領域に前記荷電粒子線を照射することによって、少なくとも前記領域に位置する前記触媒によって前記気体から前記活性種が生成され、該生成された活性種により前記堆積物を分解して除去する。 （もっと読む）

【課題】電子レンズの孔の内部にまで付着したコンタミネーションを除去するのに有利な洗浄機構を有する電子ビーム描画装置を提供する。
【解決手段】この電子ビーム描画装置１は、描画を実施する際に被処理基板に対向する場所に位置する電子レンズ１６と、電子レンズ１６に付着した分解生成物３４に対して活性種Ｈ^＊を放出し、該活性種Ｈ^＊と分解生成物３４とを反応させることで該分解生成物３４を還元して揮発性ガスに変化させる洗浄手段２１とを備える。この洗浄手段２１は、活性種Ｈ^＊が電子レンズ１６に形成された電子ビームが通過する複数の孔３０の形成位置に向かって放出されるように形成された複数の開口部３７ａを有する。 （もっと読む）

【課題】 描画精度とスループットとの両立の点で有利な描画装置を提供する。
【解決手段】 複数の荷電粒子線でパターンを基板にショット領域ごとに描画する描画装置は、基板を保持し移動可能なステージと、複数の荷電粒子線を前記基板に投影する投影系と、前記基板に形成されたマークに前記投影系を介して入射した荷電粒子線により飛来する荷電粒子を検出して前記マークの位置を計測する計測器と、制御部とを備える。前記制御部は、あるショット領域に対する描画動作の開始から当該ショット領域に対する描画動作の終了までの間に、前記複数の荷電粒子線の中の少なくとも１つの荷電粒子線を用いて前記計測器により前記マークの位置を計測し、前記計測器の計測結果から前記複数の荷電粒子線の前記基板上における入射位置を補正するように前記ステージ及び前記投影系の少なくとも一方を制御する。 （もっと読む）

【課題】焦点を検出する光学システムの収差を低減するマスクレスマルチビームリソグラフィシステムを提供する。
【解決手段】電子画像パターンは画像をターゲット表面に投影するためのリソグラフィシステムに転送され、前記リソグラフィシステムは露光投影を制御するための制御ユニットを備え、前記制御ユニットは少なくとも部分的に前記露光ツールの投影スペースに含まれ、光信号により制御データが与えられ、前記光信号は自由スペースの光学相互接続を使用して前記制御ユニットに結合され、前記制御ユニットの感光部に放出される変調された光ビームを有し、ここで変調された光ビームは前記感光部上の前記光ビームの軸上入射のための穴１０５のあるミラー１０４を使用して前記感光部に結合され、１つまたは複数の前記ミラーの穴は前記露光投影の通過のために設けられている。 （もっと読む）

【課題】荷電粒子線描画装置において、バッファメモリの容量の削減および高いスループットの実現に有利な技術を提供する。
【解決手段】荷電粒子線描画装置は、荷電粒子線を偏向させる偏向器と、基板を駆動するステージ機構とを有し、前記偏向器によって荷電粒子線を主走査方向に走査するとともに前記ステージ機構によって前記基板を副走査方向に走査しながら前記基板にパターンを描画するように構成され、前記基板に対する荷電粒子線の照射および非照射を制御するブランカユニットと、前記ステージ機構によって前記基板が前記副走査方向に駆動されている状態で、前記基板に対する描画が停止された後に再開される際に、描画の停止から再開までの期間における前記ステージ機構による前記副走査方向における前記基板の駆動量だけ前記副走査方向に荷電粒子線を偏向させるように前記偏向器を制御する制御部とを備える。 （もっと読む）

【課題】 偏向器アレイに含まれる電極に電位を与えるデバイスの少なさの点で有利な描画装置の提供。
【解決手段】 複数の荷電粒子線で基板に描画を行う描画装置であって、前記複数の荷電粒子線を偏向するための偏向器アレイと、前記偏向器アレイに対して複数の電位をそれぞれ与える複数のデバイスと、前記偏向器アレイに含まれる複数の電極のそれぞれを前記複数のデバイスのいずれかに接続し、かつ、前記複数の電極のうち与えられる電位が等しい電極どうしを接続する接続部と、を有し、前記複数のデバイスに含まれるデバイスの数が前記偏向器アレイに含まれる電極の数より少ない、描画装置とする。 （もっと読む）

【課題】 荷電粒子線の本数が増加すると、ブランキング偏向器アレイの製造における歩留まりが悪くなってしまう。
【解決手段】 偏向器アレイは、複数の開口が形成されたベース基板と、複数の開口が形成され、前記複数の開口のうち少なくとも一部の開口の両側に設けられた複数の電極対を有する複数の偏向器チップと、を備える。
さらにベース基板の複数の開口に対応する位置に偏向器チップの複数の開口が配置されるように、１枚のベース基板に対して複数の偏向器チップが固定される。 （もっと読む）

【課題】 サブアレイの荷電粒子線を有効に利用するのに有利な描画装置を提供。
【解決手段】 荷電粒子線のアレイで基板に描画を行う描画装置は、基板を保持するステージと、基板に上記アレイを投射する投射系と、基板上の描画領域を変更するようにステージと投射系との間の所定方向における相対移動を行わせる駆動手段と、制御手段とを有する。投射系は、上記アレイが、基板上において、上記所定方向にスペースをもって離散的に配列された複数のサブアレイを含み、かつ、上記所定方向におけるスペースの幅（第１幅）が、上記所定方向におけるサブアレイの幅（第２幅）の［ｎ１／ｎ２］倍（ｎ１、ｎ２は正の整数）となるように構成されている。制御手段は、第１幅の［１／ｎ２］倍ずつ上記所定方向にずれている［ｎ１＋ｎ２］組の描画領域に複数のサブアレイで順次描画が行われて基板上のショット領域に描画が行われるように、投射系と駆動手段とを制御する。 （もっと読む）

【課題】 荷電粒子線を偏向するための電極対の数の多さ、偏向の高速性、および製造の容易性の点で有利な電極対アレイ板を提供すること。
【解決手段】 複数の荷電粒子線をそれぞれ偏向するための複数の電極対（３０３）を含む電極対アレイ板（１２３）は、複数の配線層を含む積層体（３００ａ、３００ｂ）と、該積層体に形成されて前記複数の荷電粒子線がそれぞれ通過する複数の貫通孔（３０２）と、を含み、積層体は、複数の貫通孔にそれぞれ１対ずつ形成された複数の電極対を含み、複数の電極対は、積層体の異なる複数の層にわたって、その各層に電極対のアレイを含み、複数の層のアレイは、複数の配線層のうち互いに異なる一部の配線層にそれぞれ接続されている、ものとする。 （もっと読む）

【課題】シャッターブレードの位置決め精度の緩和に有利な荷電粒子線描画装置を提供する。
【解決手段】荷電粒子線描画装置は、複数の荷電粒子線を生成する生成部と、複数の偏向器２１８によって前記複数の荷電粒子線をそれぞれオン状態又はオフ状態に制御するブランキング部と、シャッターブレードと、制御部１００とを備える。前記制御部は、前記複数の偏向器のうち荷電粒子線をオフ状態にすることができない偏向器を異常偏向器として特定する情報と前記シャッター機構２２５の位置決め精度の情報とに基づいて、前記異常偏向器に対応する第１荷電粒子線が完全に遮断されるように前記シャッター機構を制御する第１制御と、前記第１荷電粒子線とは異なる第２荷電粒子線であって、前記第１制御により前記シャッターブレードで少なくとも一部分が遮断される可能性がある第２荷電粒子線をオフ状態にするように前記ブランキング部を制御する第２制御とを行う。 （もっと読む）

【課題】 容易に実行可能なＰＤ構成を用いて、高いスループットレートをもたらす方法を提供すること。
【解決手段】 複数のアパーチャを有するパターン決定手段を用いて荷電粒子のビームをターゲット（４０）にマスクレスで照射し、所定の軸に対して横に、上記パターン決定手段に対して相対移動している（ｖ）ターゲット上に、上記パターン決定手段における上記アパーチャのイメージを形成する方法において、上記イメージの位置を、上記ターゲットの相対移動の距離が上記ターゲットにおいて測定される上記イメージの幅（ｗ）の倍数以上である画素露光期間の間、上記ターゲットに沿って移動させるようにし、上記画素露光期間の後に、上記ビームのイメージの位置を変化させるようにし、この位置の変化は上記ビームのイメージの上記位置の移動をほぼ補うものである。 （もっと読む）

【課題】 クロスオーバの輝度均一性の点で有利な電子銃の提供。
【解決手段】 共通の軸に沿って順に配置されたカソードとバイアス電極とアノードとを有する電子銃であって、前記カソードの電子放出面は、前記軸上の点を含む第１領域の曲率半径（第１曲率半径）より該第１領域の外側にある第２領域の曲率半径（第２曲率半径）が大きく、かつ、前記第１領域および前記第２領域がともに前記第１曲率半径を有する場合よりクロスオーバの輝度が均一となる形状である、電子銃とする。 （もっと読む）

【課題】重なり露光される隣接したストライプの境界領域で照射量精度を向上する、複数ビームレットを含む電子ビームリソグラフィ方法を提供する。
【解決手段】露光ストライプで構成された画像画素の列であるストライプ（ｓ１、ｓ２）は、隣接したストリップに対するそれらの境界で、相互に重ねられた重複した縁（ｍ１２、ｍ２１）を備えるので、名目上の重複した縁（ｍ２１）の画像画素の位置は、対応している重複した縁（ｍ１２）の画像画素と重なる、または、本質的に一致する。重複した縁（ｍ２１）の露光の間、前記重複した縁の画像画素の第１の部分集合（ｎ_１）は、所望のパターンに関して相補的な部分集合である第２の部分集合（ｎ_２）のそれらが露光しない一方で、露光する；これに反して、対応している重複した縁（ｍ１２）の露光の間、第１の部分集合の画像画素に対応する画像画素は露光しないが、第２の部分集合の画像画素に対応するものは露光する。 （もっと読む）

【課題】ブランカを用いない光スイッチング電子源及びそれを用いた電子線描画装置を提供する。
【解決手段】光スイッチング電子源１は、光源２と、光源２からの断続光が照射されることで電子を発生する電子発生部３と、を備え、電子発生部３は、光励起によって電子を発生する電子源９と、電子源から電子を引き出す電極７と、電子を引き出す電源８と、を備えている。電子源９は、ｐｎ接合又はｐｉｎ接合９ａ等を用いることができ、ｐｎ接合９ａｐ層６ａ又はｎ層６ｂが突起形状を有していてもよい。ｐｎ接合９ａがアレイ状に配設されていれば、複数の電子線１２を発生することができる。さらに、電子発生部３の電子出射側に電子線整形部４が配設されていてもよい。電子線整形部４は、アインツェルレンズ４１と、アインツェルレンズ用電源１１と、から構成することができる。 （もっと読む）

【課題】マスクレスのため低コストで電子ビーム投影リソグラフィを可能にする、電子反射板のアレイから制御可能に電子を反射する方法と、反射電子ビームリソグラフィのためのダイナミックパターン生成機の装置を提供する。
【解決手段】入射電子ビームが電子源から形成され、入射ビームは電子反射板のアレイに導かれる。第１の複数の反射板は、反射板を出る反射した電子が合焦ビームを形成する第１反射モードで電子を反射するように構成される。第２の複数の反射板は、反射板を出る反射した電子がデフォーカスする第２反射モードで電子を反射するように構成される。 （もっと読む）

【課題】結像系のひずみエラーを補正できるマルチビーム・パターン定義（ＰＤ）システム、及び荷電粒子処理または点検装置を提供する。
【解決手段】開口アレイ手段（２０２）は、それぞれのビームレット（ｂ１−ｂ５）を定めるための少なくとも２つのセットの開口（２２１、２２２）を含む。そこで、開口のセットは織り交ざる配置で配置される複数の開口を含み、異なるセットの開口は、共通の変位ベクトル（ｄｌ２）によって互いにオフセットされる。孔アレイ手段（２０１）は、開口のセットの１つに対応するビームレットの部分集合の通過のために構成される複数の孔（２１０）を有するが、他のセットの開口に対応する場所で孔（ビームを透過する）を欠いている。位置決め手段は、選択的に開口のセットの１つを孔アレイ手段の孔と整列させるため、孔アレイ手段と関連して開口アレイ手段を移動させる。 （もっと読む）

【課題】支持および位置決め構造体を提供する。
【解決手段】本発明は、テーブル上のターゲットを支持および位置決めするための支持および位置決め構造体を備えた荷電粒子システムに関し、支持および位置決め構造体は、第一の部材と、第二の部材と、第二の部材に対して第一の部材を移動させる少なくとも一つのモーターを備えており、前記少なくとも一つのモーターによって発生される電磁場から少なくとも一本の荷電粒子ビームをシールドするシールドが存在し、支持および位置決め構造体は、第一の部材と、第一の部材とテーブルとターゲットの重量を少なくとも部分的に支えるための第二の部材を機械的に結合しているスプリングをさらに備えている。
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【解決手段】本願は複数の荷電粒子ビームレットを用いる対象表面にパタンを転送する荷電粒子マルチビームレットリソグラフィシステムに関する。システムはビーム生成器、ビームブランカアレイ、保護構造及び投影システムを含む。ビーム生成器は荷電粒子ビームレットを生成すべく配置される。ビームレットブランカアレイはパタンに従ってビームレットをパタニングすべく配置される。ビームレットブランカアレイは調整器及び感光素子を含み感光素子は光線を運ぶパタンデータを受信し光線を電気信号に変換する。感光素子は受信パタンデータを調整器に提供するために調整器に電気的に接続される。保護構造は調整器によって生成される電場から感光素子の近くで生成される電場を保護する導電材の保護構造であって保護構造はある電位でセットされるように配置される。投影システムは対象表面にパタニングされたビームレットを投影するために配置される。 （もっと読む）