【課題】パターン密度に応じて発生する表示画質劣化や表示速度低下を抑止する。
【解決手段】荷電粒子ビーム描画装置は、階層化された描画データに含まれる第１階層の要素に対応する第２階層の要素群を順次読み込むデータ読込部と、第２階層の要素数を取得する要素数取得部３１と、第２階層の要素数に応じて区画サイズを調整し第１階層の要素を複数の区画に分割し、区画ごとにフラグを有する区画マップを形成するマップ形成部３２と、読み込まれた第２階層の要素の位置に対応する区画のフラグが、その区画を表示する表示処理を許可する許可状態又は禁止する禁止状態であるかを判断するフラグ判断部３３と、区画のフラグが許可状態であると判断された場合に表示処理を許可し、区画のフラグが禁止状態であると判断された場合に表示処理を禁止する処理制限部３４と、表示された区画のフラグを許可状態から禁止状態に切り替えるフラグ切替部３５とを備える。 （もっと読む）

【課題】 基板の被露光面を輻射冷却するのに有利な露光装置の提供。
【解決手段】 鏡面を有する基板ステージと、Ｘ−Ｙ平面に沿って進行するレーザー光をＺ軸方向に折り曲げるミラーと、ミラーを介して鏡面を照射したレーザー光によりＺ軸方向のステージの位置を計測する計測器と、レーザー光が鏡面を照射するように計測器を移動させる第１駆動部と、エネルギーを基板に照射する光学系と、を有し、基板を真空中で露光する露光装置を、Ｚ軸方向において光学系とステージとの間に配置され、エネルギーを通過させる第１開口と計測器の移動範囲にわたってレーザー光を通過させる第２開口とを有する第１輻射板と、第１輻射板を冷却する第１冷却器とを含む第１冷却部と、Ｘ−Ｙ平面に沿って進行するレーザー光を通過させる第３開口を有する第２輻射板と、第２輻射板を冷却する第２冷却器とを含む第２冷却部と、を有するものとする。 （もっと読む）

【課題】帯電防止機能を有し、基板に載置されたままで基板エッジの位置検出と基板のアライメントを可能にする基板カバーと、それを用いた荷電粒子ビーム描画方法を提供する。
【解決手段】基板カバー４０は、基板の周縁領域に対応した形状の導電部４１を有し、その導電部の少なくとも一部は、光透過性の部材から構成されている透過部４７を有するため、導電部の少なくとも一部を所望の光が透過するよう構成されている。そして、基板のエッジ部の位置検出は、光の照射手段と光の受光部との間に基板カバー４０の載置された基板を配置し、基板上方の照射手段から基板のエッジ部分に向けた照射光を、基板カバー４０の少なくとも一部を透過させ、基板のエッジ部分を照らして行えるようにする。 （もっと読む）

【課題】描画室１の外部に配置したレーザヘッド５１からのレーザ光をステージ２に固定したステージミラー２３_１，２３_２に入反射させてステージの位置を測定するレーザ測長計５_１，５_２を備える荷電粒子ビーム描画装置であって、レーザヘッドの発熱の影響を受けずにレーザ測長計でステージの位置を正確に測定し、描画精度を向上できるようにする。
【解決手段】レーザヘッド５１を囲うヘッドカバー５７を設ける。ヘッドカバー５７に給気口５７２と排気口５７３とを開設し、排気口５７３に接続した排気ダクト５７５を介してヘッドカバー５７内を強制排気する。 （もっと読む）

【課題】階層化されたデータＤ１を高速にレイアウト表示する。
【解決手段】荷電粒子ビーム10a1bによってパターンを描画するための階層化されたデータD1をレイアウト表示するモニタ10d5を具備する荷電粒子ビーム描画装置10において、概略格子状に配列された複数の区画SC00,・・,SC45にフラグを有するマップMPCL1を作成し、第2階層FGの第２要素FG2を読み込み、第2階層FGの第2要素FG2の位置に対応する区画SC22のフラグが「第２階層FGの要素のレイアウト表示不可」の状態（「1」）になっているか否かを判定し、第2階層FGの第２要素FG2の位置に対応する区画SC22のフラグが「第2階層FGの要素のレイアウト表示不可」の状態（「1」）になっている場合には、第2階層FGの第2要素FG2をモニタ10d5上にレイアウト表示する処理を行わない。 （もっと読む）

本発明は、少なくとも１つの荷電粒子ビーム（１２３）を発生させるための荷電粒子源（１０１）と、ビームをウェーハ上に投影するための荷電粒子投影器（１０８，１０９，１１０）と、ウェーハ（１３０）を移動させるための可動式のウェーハステージ（１３２）とを具備する荷電粒子リソグラフィ装置（１００）に関する。荷電粒子源、荷電粒子投影器及び可動式のウェーハステージは、真空環境を形成する共通の真空チャンバ（１４０，４００）中に配置されている。真空チャンバは、チャンバ及びドア（４０２）にウェーハをロードするための開口を有する。
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複数の荷電粒子リソグラフィ装置を具備する構成体であって、各荷電粒子リソグラフィ装置は、真空チャンバ（４００）を有する。この構成体は、複数のリソグラフィ装置にウェーハを運搬するための共通のロボット（３０５）と、夫々の真空チャンバ（４００）の前面に配置された、各荷電粒子リソグラフィ装置のためのウェーハロードユニット（３０３）とをさらに具備する。複数のリソグラフィ装置は、これらリソグラフィ装置の前面が、各装置にウェーハを運搬するための共通のロボット（３０５）の通路を収容している通路（３１０）を面している状態で、列をなして配置され、各リソグラフィ装置の後面は、アクセス通路（３０６）に面し、各真空チャンバの後壁には、夫々のリソグラフィ装置へのアクセスのためのアクセスドアが設けられている。
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【課題】真空で使用する防振装置において、機械モジュール及び電気モジュールが流体密のチャンバ内に配置し、防振装置を有する構成又はシステムを改善することである。特に、真空条件用のセンサ、アクチュエータ等、電気周辺コンポーネント及び／又は機械周辺コンポーネントの設計を無用とすること、モータ、アクチュエータ、及び電気制御装置等のアクティブコンポーネントの冷却を改善すること、真空システム内で防振装置が引き起こす漏洩を低減することである。
【解決手段】真空で使用する防振装置１であって、本質的に流体密のチャンバを有するばねを備え、流体密のチャンバは、順次に配置される少なくとも２つのシールによってシールされ、少なくとも１つの流体ラインがシール間にもたらされ、流体ラインによって流体密のチャンバに対して低い圧力を生じさせることができる、真空で使用する防振装置１。 （もっと読む）

【目的】故障部品候補を抽出するシステムを搭載した描画装置を提供することを目的とする。
【構成】本発明の一態様の描画装置１００は、診断結果で関連付けされた複数の診断ＩＤを記憶する診断ツリーテーブル１４２と、診断ＩＤと診断レベルと部品ＩＤと故障度数とを対応させて記憶する部品係数テーブル１４４と、第ｎ番目の診断ＩＤと、描画装置１００の所定の機能を第ｎ番目の診断手法を用いて診断した第ｎ番目の診断結果とを入力し、診断ツリーテーブル１４２を用いて関連付けされた第ｎ＋１番目の診断ＩＤを抽出する抽出部１４２と、抽出されたすべての診断ＩＤを基に、部品係数テーブル１４４を用いて関連する部品ＩＤを抽出する抽出部１２４と、部品係数テーブル１４４を用いて部品ＩＤ毎に故障度数の累積加算値を演算する累積加算部１３０と、部品ＩＤと累積加算値とを出力するＩ／Ｆ回路１６４と、を備えたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】基板側面に帯電する電荷を低減させる機構を提供する。
【解決手段】基板カバー１０は、電子ビームを用いて描画される基板１０１上に配置され、基板１０１の外周端よりも外形寸法が大きく形成され、外周端よりも小さな寸法で中央部に開口部が形成されたフレーム１２と、フレーム１２の下面側に設けられ、基板１０１と接続して導通させるアースピン１６と、を備えたことを特徴とする。本発明によれば、基板１０１側面に帯電する電荷によるビーム軌道のずれを防止することができる。 （もっと読む）

【課題】複数個のコラムを一体化させて製造することができるとともに各コラム間の組み立て精度が向上されている荷電ビーム描画装置を提供する。
【解決手段】荷電ビーム描画装置１は、荷電ビーム発生装置３、コンデンサーレンズ４、投影レンズ５、複数個のアパーチャー６、複数個のアパーチャー支持具７、ビーム成形用偏向器８、対物レンズ９、対物偏向器１０、複数個のアライナー１１、および複数個の鏡筒１２を具備する。各アパーチャー支持具７には各鏡筒１２の径よりも大きい第１の開口部１９が形成されている。少なくとも１つの鏡筒１２はその一部を第１の開口部１９の内側に通されて配置されている。 （もっと読む）

【課題】本発明は、大気圧の変動が装置精度に影響せず、かつポンプの振動が荷電粒子装置本体に伝わらない真空排気系構造を備えた荷電粒子装置、および荷電粒子線装置の真空吸引径路を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明は、標的に電子線またはイオンビームを照射する電子光学系を含む荷電粒子線装置本体と、荷電粒子線装置本体内を真空にする吸引ポンプが備わる真空排気系と、荷電粒子線装置本体と真空排気系を連通する吸引路と、吸引路に介在される防振部と、防振部に設けられる可撓性通路部材とを有する荷電粒子線装置または荷電粒子線装置の真空吸引径路において、真空排気系の吸引により、荷電粒子線装置本体と真空排気系が引き合う方向に可撓性通路部材が収縮するのを抑える収縮阻止手段を設けたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】レーザの光軸調整作業を容易化しつつ、鏡体の変位に影響されない試料位置管理を実現することで、高精度な描画（露光）が可能となる回路パターン製造装置を提供する。
【解決手段】鏡体支持部材である試料室２に連結された基準部材４に参照鏡２１を取付けて、ステージ３上のバーミラー２２と共にレーザ測長することで得られる基準部材４を基準としたステージ位置情報と、基準部材４と鏡体１との距離変動を測定する静電容量センサ５０の情報を演算して、鏡体基準のステージ位置情報を得る。 （もっと読む）

【課題】 電子ビームの自己磁界がアクティブ磁場キャンセラーに及ぼす影響を回避して、電子線露光装置における環境磁界のキャンセルを良好に行う。
【解決手段】 電子線露光装置１を、電子ビーム１５により生じる自己磁界を偏向器２０の偏向量に応じて決定し、磁気センサ６０により検出された環境磁界からこの自己磁界を差し引いた磁界成分を求め、この磁界成分を打ち消す消去磁界を、電子線露光装置１内に発生させる。 （もっと読む）

【課題】外乱電磁界の遮蔽が可能でかつ、真空チャンバーに接続された機器によるノイズの混入を防ぐこと。
【解決手段】 真空チャンバ１０は、接地線を通してＤ種アースＥ_Dに設置されている。真空チャンバ１０内にステージ１１が配置されている。ステージ１１上には、セラミック等の絶縁材料からなるホルダ支持体１２を介して試料ホルダ１３が設置されている。試料ホルダ１３上に試料１４が設置される。ステージ１１は、ステージコントローラ１５によって任意の位置に駆動される。試料ホルダ１３は、接地線を通して、Ａ種アースＥ_Aに接地されている。ステージコントローラ１５は、Ｄ種アースＥ_Dに接地されている。コラム２０内に電子銃２１、コンデンサレンズ２２、静電偏向器２３、及び対物レンズ２４が配置されている。コンデンサレンズ２２、静電偏向器２３は、セラミック等の絶縁材からなるコンデンサレンズ支持体２５，２６によってコラム２０に固定されている。 （もっと読む）

【課題】磁気レンズよりも真空条件が厳しい静電レンズでも差動排気が可能な電子線装置を提供する。また、差動排気装置を組み込んでも対物レンズと検査対象との距離を短くできて、対物レンズの色収差を小さくできるようにする。
【解決手段】電子銃２及び前記電子銃から放出された一次電子線を検査対象に照射する静電レンズより成る対物レンズ７を有する電子光学系と、前記対物レンズの外側に配置された差動排気系の排気ヘッド１２と、を備えた電子線装置１に関する。その電子線装置において、前記対物レンズ７の検査対象Ｗに最も近い電極と前記検査対象との間の間隔は、前記差動排気系の排気コンダクタンスを制限する前記排気ヘッドの部材と前記検査対象Ｗとの間の距離ｄ１〜ｄ３と同程度、或いはそれより小さくした。 （もっと読む）