【課題】長期のダウンタイムの発生を抑え、生産性の低下を抑制する荷電粒子ビーム描画装置および荷電粒子ビーム描画方法を提供することである。
【解決手段】荷電粒子ビーム描画装置は、ステージＳｔを内蔵する描画室１を備え、ステージＳｔ上に支持部材である支持ホルダ４０を介して載置されるマスクＭに、電子ビームを照射して所望のパターンを描画するようにする。ステージＳｔは、支持ホルダ４０を３点で支持する支持ピン４３を有し、支持ホルダ４０は、その一部に導電膜が設けられるとともに、マスクＭを３点で支持する支持部４２を有するように構成される。描画を終えた後は、支持ホルダ４０を描画室１から搬出して、支持ホルダ４０用の収納室に収納するかまたはクリーニングするかを選択するようにする。 （もっと読む）

【課題】大気圧変動に伴う筐体の非対称変形によって荷電光学鏡筒が傾くことを抑制し、高精度な描画が可能な荷電ビーム描画装置の設計方法を提供する。
【解決手段】少なくとも、内部に試料を載置するＸＹステージを有する筐体及び、電子ビームを試料に照射する電子光学鏡筒を有する電子ビーム描画装置の設計方法であって、筐体の天板の大気圧変化による変形を解析しＳ１０１、この解析に基づいて、筐体の天板の傾きが最も少ない位置を検出しＳ１０２、検出された位置に電子光学鏡筒を配置するＳ１０３。 （もっと読む）

【課題】荷電粒子ビームリソグラフィシステム、及びターゲットの荷電粒子ビーム露光のために最適化されたターゲット位置決め装置を使用する動作方法を提供する。
【解決手段】ターゲット３上に荷電粒子ビーム２を投影するための真空チャンバ５０に配置され、荷電粒子ビーム２を偏向方向に偏向させるための偏向手段を有する荷電粒子光学カラム４と、ターゲット３を保持するためのキャリア及び偏向方向とは異なる第１の方向に沿ってキャリアを保持し移動させるためのステージ５２を有するターゲット位置決め装置５と、を具備し、このターゲット位置決め装置５は、荷電粒子光学カラム４に対する第１の方向にステージ５２を移動させるための第１のアクチュエータ５３を有し、キャリアは、ステージ５２に移動可能に配置されており、ターゲット位置決め装置５は、第１の相対位置にステージ５２に対してキャリアを保持するための保持手段を有する。 （もっと読む）

【課題】ＯＨＴレールには、交流（ＡＣ）信号が供給される複数対の平行なコンダクタが含まれ、これらのＡＣ信号は電子ビームシステムに誤差を生じさせうる磁界を発生させる。ＡＣ電源システムは、また、粒子ビームの位置誤差を生じさせる磁界も生じさせる。
【解決手段】少なくもと一つの予め決められた周波数帯の中で磁気ノイズを検知し、これにより荷電粒子ビームの位置の検出と同期して磁気ノイズ測定値を供給する、互いに離間して設けられた一つ又は二つ以上のセンサを含む。磁気ノイズの測定及び磁気ノイズの値と粒子ビームの位置誤差との関係に基づいて、磁気ノイズ補償信号が生成される。そして、所望の粒子ビームスキャンパターン及び磁気ノイズ補償信号に応答して、粒子ビームによってオブジェクトがスキャンされる。 （もっと読む）

【課題】電気的絶縁性を保持しつつ、高い真空度で配管などを接続可能な真空接続装置を提供する。
【解決手段】対向するフランジ３、４は、これらの間に絶縁スペーサ１２を挟み、ボルト９とナット１０で締結することにより真空シールされる。座金７は絶縁性の樹脂からなり、ボルト９は絶縁性の樹脂１１で被覆されている。フランジ３、４の各対向面には、エッジ１３、１４が設けられており、エッジ１３、１４からフランジ３、４の各外周部に向かってテーパ部１５、１６が形成されている。テーパ部１５、１６によって挟まれた空間には、樹脂ガスケット５が介装されている。樹脂ガスケット５は、エッジ１３、１４より外周部側の空間内に留まっているようにする。樹脂ガスケット５は、テフロン（登録商標）からなることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】スループットの向上を図ることのできる荷電粒子ビーム描画方法および荷電粒子ビーム描画装置を提供する。
【解決手段】高い描画精度が必要とされないパターンの描画中に処理室への他の基板の搬送が必要となった場合、描画処理を続けた状態で搬送処理を並行して行う。また、描画室への基板の搬送と、処理室への基板の搬送とを同時に行う場合、描画室への基板の搬送が終われば、処理室への基板の搬送が終えてない状態であっても描画を行う。但し、この状態で描画するパターンは、高い描画精度が必要とされないパターンとする。さらに、高い精度が必要とされるパターンの描画処理中に、処理室への基板の搬送が必要になった場合には、かかるパターンの描画を中断し、搬送が終了するまで高い精度が必要とされないパターンの描画を行う。 （もっと読む）

【課題】処理チャンバを大気開放することなくその内部空間に配置された構成要素を交換する機能を処理装置の大型化を抑制しつつ実現するために有利な技術を提供する。
【解決手段】処理設備は、物品を処理する処理チャンバを含む処理装置と、保守チャンバを含む保守装置とを備える。前記処理装置は、前記処理チャンバに物品を搬入したり前記処理チャンバから物品を搬出したりするためのロードロックチャンバを備え、前記処理チャンバは、第１バルブと、第１フランジとを含み、前記保守チャンバは、第２バルブと、前記第１フランジに対する連結および前記第１フランジからの切り離しが可能な第２フランジと、前記処理チャンバの内部空間と前記保守チャンバの内部空間との間で構成要素を移送する移送機構とを含む。前記第１フランジと前記第２フランジとが連結され、前記第１バルブおよび前記第２バルブが開いた状態において前記保守チャンバの内部空間と前記処理チャンバの内部空間とが連通する。 （もっと読む）

【課題】マスク基板の描画処理速度の向上を図る。
【解決手段】マスク基板１１を搬入させ、大気状態または真空状態に切り換えることが可能なロードロック室１４からゲートバルブ２２を介してロードロック室１４に連通させた真空ユニット１５内に設置された搬送ロボット２４でマスク基板１１を恒温室１６に搬入させ、マスク基板１１の恒温化を行うとともに、マスク基板１１の位置ずれや回転のずれのアライメントを行う。次の基板カバー着脱室で、マスク基板１１にマスクカバー１７を載置させるとともに、マスク基板１１を行う。マスクカバー１７が載置された状態のマスク基板１１を描画室１９に搬入させる。描画室１９で荷電粒子ビームによる描画を行う前に、次のマスク基板１２を恒温室１６に搬入させることで、マスク基板１２の恒温化時間をマスク基板１１の描画中に行うことで、２枚目以降のマスク基板描画処理の効率化を図ることができる。 （もっと読む）

【目的】描画前の段階でブランクスの種類を判定することが可能な描画装置を提供することを目的とする。
【構成】本発明の一態様の描画装置１００は、基板の種類に応じた複数の抵抗値を記憶する記憶装置１４０と、搬入された基板の抵抗ちを測定する抵抗値測定部１１２と、搬入された基板の基板情報を入力し、基板情報に基づいて対応する基板の種類の抵抗値を記憶装置に記憶された複数の抵抗値の中から取得するＤＢ値取得部１１４と、取得された抵抗値と測定された抵抗値とを比較し、基板情報に沿った基板の種類かどうかを判定する判定部１１６と、判定の結果、基板情報に沿った基板の種類であった場合に、荷電粒子ビームを用いて前記搬入された基板にパターンを描画する描画部１５０と、を備えたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】スループットを改善することのできる基板処理装置、及び基板処理装置の温調方法、及びこれら基板処理装置や温調方法を用いるデバイスの製造方法を提供する。
【解決手段】大気圧下にあるウエハＷの雰囲気を減圧して減圧雰囲気に変更する第１チャンバ１６と、減圧雰囲気に維持され、第１チャンバ１６から搬送されたウエハＷに所定の処理を施す第２チャンバ１２とを備える。そして、第２チャンバ１２内の温度を、第１チャンバ１６内で大気圧から減圧雰囲気への変更に伴って変化するウエハＷの温度に対応する設定温度に調整する温調機構を備える。 （もっと読む）

【目的】搬送ロボットをチャンバ等に衝突させずにティーチング可能な装置を提供することを目的とする。
【構成】本発明の一態様の荷電粒子ビーム装置は、ロボットハンド１４３を有し、荷電粒子ビームが照射される基板をロボットハンドに配置して搬送する搬送ロボット１４２と、搬送ロボットによって基板が搬送される描画室１０３と、搬送ロボットの移動位置をティーチングする際のロボットハンドの予定位置を示す予定位置座標を入力し、予定位置座標にロボットハンドを移動させた際にチャンバに干渉するかどうかを検証する検証部１４と、検証の結果、干渉しない場合に、予定位置座標にロボットハンドを移動させるロボットコントローラ１１４と、検証の結果干渉しない予定位置座標をティーチング座標として登録する登録部１６と、を備えたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】ブランクスにおけるレジスト膜のアミン性化合物の吸着によるパターン寸法精度の低下を抑えることが可能なフォトマスクの製造方法および荷電粒子ビーム描画装置を提供する。
【解決手段】基板上に化学増幅型レジスト膜を形成し、第１のプリベーク処理を行った後、大気露出させることなく、或いは化学増幅型レジスト膜に吸着されたアミン系化合物を実質的に全て脱着した状態で、荷電粒子ビームにより描画を行う。 （もっと読む）

【目的】より短時間で基板を配置する配置室の温度調整が可能な描画装置を提供することを目的とする。
【構成】描画装置１００は、基板１０１を配置して電子ビームを用いて基板にパターンを描画する描画室１０３と、自身の温度変化を測定する温度センサ内蔵基板１０を用いて、描画室１０３が平衡温度に保持されている状態で温度センサ内蔵基板１０が搬入され、温度センサ内蔵基板１０で測定される温度が描画室内で平衡状態になる前に温度センサ内蔵基板１０が搬出されるように、温度センサ内蔵基板１０を描画室１０３に搬送する搬送系と、温度センサ内蔵基板で測定された温度変化のデータを用いて、描画室の平衡温度を演算する制御計算機１１０と、演算された平衡温度に基づいて、描画室１０３の温度を制御する温度制御回路１１８と、を備えたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】所定の温度に調節された恒温流体を供給可能な温度調節システムを提供する。
【解決手段】第１の温度調節手段１０１は、流体の温度を調節し、第２の温度調節手段１０８、１０９、１１０は、第１の温度調節手段１０１より高精度に流体の温度を調節する。第１の温度調節手段１０１の下流側の流路は、第１の外部機器１０４に向かう流路と、第２の温度調節手段１０８、１０９、１１０に向かう流路とに分岐している。第１の外部機器１０４に向かう流路は、第１の温度調節手段１０１と第１の外部機器１０４との間で循環路を形成している。第２の温度調節手段１０８、１０９、１１０の下流側には、第２の外部機器１０５、１０６、１０７が配置され、第２の外部機器１０５、１０６、１０７の下流側の流路は、循環路の一部であって第１の外部機器１０４の下流側にある流路に接続している。 （もっと読む）

【課題】描画精度の向上と高スループット化とを同時に満足する荷電粒子ビーム描画装置および荷電粒子ビーム描画方法を提供する。
【解決手段】描画室に内蔵されたステージに第１の試料を載置して電子ビームによる描画処理を行う工程と、第１の試料の次に描画処理を行う第２の試料を、描画室に隣接する位置に配置されたロボット室を介して、ロボット室の周囲に配置された処理室に搬送する工程とを有する。処理室に第２の試料を搬送する間、描画室における第１の試料への電子ビームの照射を停止し、ステージに設けられて電子の反射率が第１の試料と同程度の材料で構成される電子ビーム照射部への照射を行い、処理室に第２の試料を搬送した後は、描画室における第１の試料への電子ビームの照射を再開する。 （もっと読む）

【目的】基板に載置する前に毎回アライメントを行なって基板に対して高精度な位置に基板カバーを載置する基板カバー着脱機構を提供することを目的とする。
【構成】基板カバー着脱機構５０は、基板１０１を裏面側から支持する基板支持ピン４０と、基板カバー１０を支持し、支持した状態で基板カバー１０の昇降を行ない、昇降することで基板１０１への基板カバー１０の着脱を行なう昇降機構３０と、昇降機構３０により支持される位置とは異なる位置で基板カバー１０を支持し、昇降機構３０による基板カバー１０の支持がなされていない状態で基板カバー１０のアライメントを行なうアライメント支持部材２０，２２，２４と、を備えたことを特徴とする。 （もっと読む）

【目的】真空下で使用した際の電子光学鏡筒の傾斜角をより小さくすることが可能な描画装置を提供することを目的とする。
【構成】本発明の一態様の描画装置は、試料を載置するＸＹステージ１０５と、ＸＹステージ１０５を内部に配置し、１つの側面にＸＹステージ１０５の搬出入が可能なサイズの開口部２０が形成され、開口部２０が別体の扉３０で塞がれた描画室１０３と、描画室１０３上に配置された電子光学鏡筒１０２と、開口部２０が形成された描画室１０３の側面の上部に凸に形成されたリブ部１０と、を備えたことを特徴とする。本発明によれば、真空雰囲気下で使用した際の電子光学鏡筒の傾斜角をより小さくすることができる。 （もっと読む）

本発明は、少なくとも１つの荷電粒子ビーム（１２３）を発生させるための荷電粒子源（１０１）と、ビームをウェーハ上に投影するための荷電粒子投影器（１０８，１０９，１１０）と、ウェーハ（１３０）を移動させるための可動式のウェーハステージ（１３２）とを具備する荷電粒子リソグラフィ装置（１００）に関する。荷電粒子源、荷電粒子投影器及び可動式のウェーハステージは、真空環境を形成する共通の真空チャンバ（１４０，４００）中に配置されている。真空チャンバは、チャンバ及びドア（４０２）にウェーハをロードするための開口を有する。
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複数の荷電粒子リソグラフィ装置を具備する構成体であって、各荷電粒子リソグラフィ装置は、真空チャンバ（４００）を有する。この構成体は、複数のリソグラフィ装置にウェーハを運搬するための共通のロボット（３０５）と、夫々の真空チャンバ（４００）の前面に配置された、各荷電粒子リソグラフィ装置のためのウェーハロードユニット（３０３）とをさらに具備する。複数のリソグラフィ装置は、これらリソグラフィ装置の前面が、各装置にウェーハを運搬するための共通のロボット（３０５）の通路を収容している通路（３１０）を面している状態で、列をなして配置され、各リソグラフィ装置の後面は、アクセス通路（３０６）に面し、各真空チャンバの後壁には、夫々のリソグラフィ装置へのアクセスのためのアクセスドアが設けられている。
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【課題】荷電粒子リソグラフィ装置と、真空チャンバー内の真空を生成する方法を提供する。
【解決手段】内部空間を取り囲む複数の壁パネル（５１０）を備えている真空チャンバー（４００）であり、壁パネルは、所定の配置で壁パネルを設置するための複数の接続部材（５０４，５２４，５２８）を使用してチャンバーに取り外し可能に取り付けられてチャンバーを形成する。真空チャンバーは、壁パネルの端に設けられた一つ以上のシール部材（５２２）をさらに備えている。壁パネルは、内部空間に真空を形成する結果として壁パネルの端に真空密接シールが形成されるように配置される。
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