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Fターム[5F092BB30]の内容

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【課題】書込み電流の増大や書込みの信用性の向上が図られた磁気記憶装置を提供する。
【解決手段】磁気記憶装置は、基板11と、基板11上に設けられたライト線WTと、ライト線WTに対して基板11の厚み方向に間隔をあけて配置され、ライト線WTの延在方向と交差する方向に延びるビット線BLと、ライト線WTおよびビット線BLの間に位置する磁気記憶素子MMとを備え、磁気記憶素子MMは、磁化方向が固定された固定層1と、外部磁界によって磁化方向が変化する記録層3とを含み、記録層3は合金膜を含み、合金膜はコバルトと鉄とホウ素とを含み、ホウ素は21at%より高い。 (もっと読む)


【課題】磁気記憶素子の機能低下を抑制することのできる磁気記憶装置およびその製造方法を提供する。
【解決手段】磁気記憶装置は、磁化状態に基づいたデータを保持可能な磁気記憶素子MMと、発生する磁界により磁気記憶素子の磁化状態を変化させることが可能なディジット線DLおよびビット線BLとを備えている。磁気記憶素子MMは、ディジット線DLとビット線BLとの交差部分において、ディジット線DLの上であってビット線BLの下に配置されている。ディジット線DLはこの交差部分において幅WDLを有しており、かつビット線BLはこの交差部分において幅WBLを有している。幅WDLは磁気記憶素子MMの幅WMM1よりも大きく、かつ幅WBLは磁気記憶素子MMの幅WMM2よりも小さい。 (もっと読む)


【課題】最適な書き込み電流を磁気抵抗素子に供給する。
【解決手段】半導体記憶装置は、半導体基板11に設けられた選択トランジスタ13と、半導体基板11の上方に設けられ、かつ第1の方向に延在する第1の配線層BLと、磁化の方向が固定された固定層22Aと、固定層22A上に設けられた非磁性層22Bと、非磁性層22B上に設けられかつ磁化の方向が可変である記録層22Cとを有し、かつ第1の配線層BLの上方に設けられ磁気抵抗素子22と、第1の方向に延在し、かつ選択トランジスタ13の拡散領域17に電気的に接続された第2の配線層bBLとを含む。固定層22Aは第1の配線層BLに電気的に接続され、記録層22Cは選択トランジスタ13の拡散領域16に電気的に接続される。 (もっと読む)


【課題】 300℃以下の温度において、L10構造FePt規則合金が得られるFePt系磁性層を備える積層体構造物を提案する。
【解決手段】 積層体構造物は、アモルファス状態のTa層と、このTa層の上に形成された酸化亜鉛(ZnO)または酸化マグネシウム(MgO)からなる金属酸化物層と、この金属酸化物層の上に形成されたFePt系磁性層と、を有して構成される。 (もっと読む)


【課題】素子抵抗を低減するのに適し且つ大きなMR比を得るのに適した磁気検出素子、および、そのような磁気検出素子を備える磁気再生装置を提供する。
【解決手段】本発明の磁気検出素子X1は、ハーフメタルよりなり且つ相互に離隔する一対の電極1A,1Bと、強磁性ハーフメタルよりなり且つ磁化反転可能な低抵抗層2と、一対の電極1A,1Bおよび低抵抗層2の間に位置し且つ導体よりなって低抵抗層2よりも高抵抗である高抵抗層3とを備える。本発明の磁気再生装置は、磁気記録媒体と、当該磁気記録媒体からの信号磁界を読み取るための磁気検出素子X1とを備える。 (もっと読む)


【課題】 耐久性に優れたスピンメモリの実現。
【解決手段】 強磁性ワード線と、強磁性ワード線と交差する非磁性ビット線と、強磁性ワード線と対向する配線と、強磁性ワード線及び非磁性ビット線の交差部分と配線との間に設けられた磁気抵抗効果素子201とを備える。書き込み動作時には、強磁性ワード線と前記非磁性ビット線との間に電流を流し、強磁性ワード線から非磁性ビット線にスピンを蓄積させることで磁気抵抗効果素子の自由層の磁化方向を反転させる。読み出し動作時には、非磁性ビット線と配線との間に電流を流し、磁気抵抗効果素子の膜厚方向に電流を流す。 (もっと読む)


【課題】熱的安定性を向上させ、かつ磁化反転の際の反転電流密度をより低減する。
【解決手段】磁気抵抗効果素子は、磁性材料を含み、かつ膜面に対して垂直方向の磁化を有し、かつスピン偏極した電子の作用により磁化の方向が変化し、かつ(001)面が配向したfct型の結晶構造を有する磁化自由層12と、磁化自由層12を挟むように設けられ、かつ正方晶型或いは立方晶型の結晶構造を有する第1および第2の非磁性層13,14と、磁化自由層12の一方の側のみに設けられ、かつ第1の非磁性層13の磁化自由層12が設けられた面と反対面に設けられ、かつ磁性材料を含み、かつ膜面に対して垂直方向の磁化を有し、かつ磁化の方向が固着された磁化固着層11とを含む。 (もっと読む)


【課題】本発明の目的は、高出力でかつ外部磁界に対する感度が良好な磁気抵抗効果素子、これを用いた磁気ヘッド、磁気記憶装置、および磁気メモリ装置を提供する。
【解決手段】GMR膜30は、下地層31、反強磁性層32、固定磁化積層体33、非磁性金属層37、拡散防止層38、自由磁化層39、保護層40が順次積層された構成からなる。自由磁化層39はMn系ホイスラー合金からなり、拡散防止層38はCoFeAlからなる。CoFeAlの組成は、三元系の組成図において、各組成の座標を(Co含有量,Fe含有量,Al含有量)として表すと、点A(55,10,35)、点B(50,15,35)、点C(50,20,30)、点D(55,25,20)、点E(60,25,15)、点F(70,15,15)として、点A、点B、点C、点D、点E、点F、および点Aをこの順にそれぞれ直線で結んだ領域内に設定されてもよい。 (もっと読む)


【課題】MR変化率および信頼性の向上が図れる磁気抵抗効果素子、磁気ヘッド、および磁気ディスク装置を提供する。
【解決手段】磁気抵抗効果素子におけるスペーサ層を、Cu,Au,Agからなる群から選択される元素を主成分とした第1の金属層を形成し、この第1の金属層上にSi,Hf,Ti,Mo,W,Nb,Mg,Cr,およびZrからなる群から選択される元素を主成分とする機能層を形成し、この機能層上にAlを主成分とする第2の金属層を形成し、この第2の金属層に対して、酸化・窒化・酸窒化を行い、絶縁層、及びこの絶縁層の層方向に電流を通過させる導電体を有する電流狭窄層を形成することによって構成する。 (もっと読む)


【課題】高密度記憶の磁気記憶装置に適用可能で、信頼性の向上が図られた磁気抵抗効果素子を提供する。
【解決手段】磁化方向が実質的に一方向に固着された磁化固着層と、磁化方向が外部磁界に対応して変化する磁化自由層と、前記磁化固着層と前記磁化自由層との間に設けられた絶縁層と前記絶縁層を貫通する金属層を含むスペーサ層とを有する磁気抵抗効果素子の製造方法において、前記スペーサ層は、第1の金属層を成膜し、前記第1の金属層上に、前記絶縁層に変換される第2の金属層を成膜し、前記第2の金属層を前記絶縁層に変換するとともに前記絶縁層を貫通する前記金属層を形成する第1の変換処理を行い、前記第1の変換処理を通じて形成された前記絶縁層及び前記金属層上に、前記絶縁層に変換される第3の金属層を成膜し、前記第3の金属層を前記絶縁層に変換するとともに前記絶縁層を貫通する前記金属層を形成する第2の変換処理を行って形成する。 (もっと読む)


【課題】スピンFETのスピン注入書き込み時に消費する電流を低減する。
【解決手段】本発明の例に関わるスピンFETは、磁化方向が固定される第1強磁性層13と、スピン注入電流により磁化方向が変化する第2強磁性層14と、第1及び第2強磁性層13,14の間のチャネルと、チャネル上にゲート絶縁層17を介して形成されるゲート電極18と、スピン注入電流を第2強磁性層14に供給する経路になると共に、スピン注入電流により発生する磁場Haが第2強磁性層14の磁化困難軸方向に作用するようにレイアウトされる導電線26とを備える。 (もっと読む)


【課題】磁気抵抗効果素子のコア幅方向のサイズが小さくなった場合でも、バルクハウゼンノイズを抑え、出力を確保できる磁気抵抗効果素子および磁気ヘッドを提供する。
【解決手段】導電材からなる非磁性層22を中間層として固定磁性層20と自由磁性層24とを積層して形成されたセンス部30と、前記自由磁性層24に縦方向のバイアス磁界を作用させる強磁性層26と、前記非磁性層に電気的に接続する電極27a、27bとを備える磁気抵抗効果素子であって、前記センス部30のコア幅方向の一方側に、前記強磁性層26が配置され、前記センス部30の、コア幅方向の他方側に、磁性材からなるシールド層28が設けられていることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】3値以上の多値記録が可能であり、かつ製造の容易なスピン注入磁化反転素子を提供することにある。
【解決手段】スピン注入磁化反転素子において、磁化が第1の方向に実質的に固定された強磁性固定層13と、非磁性の分離層14と、磁化の方向が可変の2以上の強磁性フリー層15、16、17を備え、強磁性固定層13は分離層14の一方の主面に配置され、前記各強磁性フリー層15、16、17はそれぞれが分離層14の他方の主面に接して配置する。 各強磁性フリー層15、16、17は、膜厚、磁化反転臨界電流密度または保磁力が全て異なることが好ましい。 また、スピン注入磁化反転素子を用いて磁気記録装置を構成する。 (もっと読む)


【課題】磁気記憶装置及びその動作方法に関し、スピン注入磁化反転方式MRAM(STS−MRAM)で大容量(Gbit超)MRAMを得る為、臨界電流密度JC の低減、出力電圧の向上及び誤動作防止の両立を実現しようとする。
【解決手段】1層以上の強磁性層と非磁性層で構成された磁化自由層4C及び積層フェリピン構造の磁化固定層4Aの間にGMR型の場合は非磁性金属層4Bが介在し且つ磁化自由層4C近傍に発熱層4Eが設けられてなる磁気抵抗効果素子を備えて動作させることが基本になっている。 (もっと読む)


【課題】 スピン依存バルク散乱抵抗を高く維持したまま、保磁力を低減させた磁性膜を有する磁気抵抗効果素子を提供する。
【解決手段】 磁化方向が固定された強磁性材料を含むピンド層(5A)、非磁性導電材料からなる非磁性中間層(10A)、及び外部磁場の影響を受けて磁化方向を変化させる強磁性材料からなるフリー層(20)がこの順番に積層されてスピンバルブ膜(30)が構成される。一対の電極(2A,2B)が、スピンバルブ膜に、その積層方向の電流を流す。ピンド層及びフリー層の少なくとも一方は、強磁性を示す元素の組成比が第2の層のそれより高い第1の層(8,21)と、非磁性を示す元素の組成比が第1の層のそれよりも高い第2の層(9,22)とが交互に配置され積層部分を含む。この積層部分に、第1の層は少なくとも2層含まれ、第2の層は少なくとも1層含まれる。 (もっと読む)


【課題】 高集積度を実現可能なスピン注入書き込み方式の磁気記憶装置を提供する。
【解決手段】 スピン注入書き込み型磁気記憶装置は、一端が第1ノードに接続される磁気抵抗効果素子3と、第1拡散領域が磁気抵抗効果素子の他端に接続され、第2拡散領域が第2ノードに接続される選択トランジスタ4とを有するメモリセル1を含む。選択線13は、第1方向に延在し、選択トランジスタのゲート電極に接続される。第1配線12は、第2方向に延在し、第1ノードに接続される。第2配線11は、第2方向に延在し、第2ノードに接続される。第1方向に隣り合うメモリセル同士で、第1ノードを共有し、第2方向に隣り合うメモリセル同士で、第2ノードを共有する。 (もっと読む)


【目的】 特に、絶縁障壁層の表面粗さを安定して小さくでき、抵抗変化率(ΔR/R)に代表されるMR特性の向上を適切に図ることが可能なトンネル型磁気検出素子を提供することを目的としている。
【構成】 シード層6は、NiFeCr層16/Al層17の積層構造で形成される。これにより、シード層をNiFeCr層の単層で形成していた従来よりも、絶縁障壁層9の表面粗さを安定して小さくでき、したがって本実施形態のトンネル型磁気検出素子4によれば、安定して優れた抵抗変化率(ΔR/R)に代表されるMR特性を得ることが可能である。 (もっと読む)


【課題】 少ない電流で選択的にセルを書き込むトグル方式MRAMの提供。
【解決手段】 トグル方式のMRAMは、MRAM基板上のX−Y平面内に配置されたメモリスタックを有し、各メモリスタックは、Z軸に沿って積層された複数のトグルメモリセルを有する。各スタックは、2つの直交する書込み線同士の間の交差領域に配置される。セルは対で積層され、各対のセルは、その磁化容易軸が互いに対して略平行に位置合わせされると共にX,Y軸と非平行である。各対のセルは、そのフリー層が反対方向で磁気的にバイアスされる。ある対の各セルのフリー層は、他のセルのフリー層のバイアス方向と反対方向でバイアスされるため、ある対の1つのセルを、他のセルをトルグ切換えすることなく、トグル切換えできる。フリー層に対するバイアス磁場は、各セルのために必要なスイッチング磁場を減少させるので、低書込み電流で、低電力のトグル方式MRAMが得られる。 (もっと読む)


本発明は、配向されたカーボンナノチューブアレイから形成される層を利用するスピントロニックデバイスと、該デバイスを含むエレクトロニックデバイス(スピンバルブやスピントンネルジャンクション、スピントランジスタ等)とに関する。スピントロニックデバイスは、底部電極と、第一の強磁性層と、CNTアレイと、第二の強磁性層と、上部電極とを含む。 (もっと読む)


本発明は、一般に、不揮発性メモリとして機能し得るようなメモリセルのための磁気的な分野に関するものである。より詳細には、本発明は、スピン分極電流を使用することによってメモリデバイス内の磁気領域の磁化方向を制御してスイッチングし得るような、高速でありかつ低消費電力の方法を開示している。磁気デバイスは、固定磁化方向を有したピン止めされた磁化層と;自由な磁化方向を有した自由磁化層と;固定磁化方向を有した読出磁化層と;を具備している。ピン止めされた磁化層と自由磁化層とは、非磁性層によって分離されており、自由磁化層と読出磁化層とは、他の磁性層によって分離されている。ピン止めされた磁化層の磁化方向と自由磁化層の磁化方向とは、一般に、同じ向きとはされない。非磁性層は、磁化層どうしの間の磁気的相互作用を最小化する。
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