【課題】小型化が可能な不揮発性メモリを備えた半導体装置を提供する。
【解決手段】基板９０１上に画素と不揮発性メモリとを備え、不揮発性メモリは、基板９０１上に形成される半導体活性層と、半導体活性層上に形成される絶縁膜９２３と、絶縁膜９２３上に形成されるフローティングゲイト電極９０７と、フローティングゲイト電極９０７を酸化して得られる酸化膜９０８，９１５，９２２と、酸化膜９０８，９１５，９２２に接して形成されるコントロールゲイト電極９２９と、を備え、画素と不揮発性メモリとは、基板９０１上に一体形成される。 （もっと読む）

【課題】不揮発性半導体記憶装置の高集積化と高歩留りを実現する。
【解決手段】実施形態によれば、不揮発性半導体記憶装置は、複数のメモリストリングを有する第１乃至第４のフィン型積層構造９−１，９−２，９−３，９−４と、第１及び第２のフィン型積層構造９−１，９−２の第２の方向の一端を互いに接続する第１の部分Ｐ１と、第３及び第４のフィン型積層構造９−３，９−４の第２の方向の一端を互いに接続する第２の部分Ｐ２と、第１及び第３のフィン型積層構造９−１，９−３の第２の方向の他端を互いに接続する第３の部分Ｐ３と、第２及び第４のフィン型積層構造９−２，９−４の第２の方向の他端を互いに接続する第４の部分Ｐ４とを備える。第１及び第２の部分Ｐ１，Ｐ２は、ソース領域であり、第３及び第４の部分Ｐ３，Ｐ４は、ドレイン領域である。 （もっと読む）

【課題】ラインパターン構造物の形成方法を提供すること。
【解決手段】ラインパターン構造物及びその形成方法において、ラインパターン構造物は切断部位を含むライン形状を有する少なくとも１つの第１ラインパターンを含む。最外郭に位置する前記第１ラインパターンと隣り合って前記第１ラインパターンと平行した延在ラインと、前記第１ラインパターンの切断部位と隣接する領域で前記第１ラインパターン方向へ向かうように前記延在ラインから突出された少なくとも１つの突出パターンを含む２つの第２ラインパターンを含む。前記ラインパターン構造物は不良が減少し、簡単な工程を通じて形成されてもよい。 （もっと読む）

【課題】本発明の実施形態は、歩留まりを向上させることができる不揮発性半導体記憶装置および不揮発性半導体記憶装置の製造方法を提供する。
【解決手段】実施形態によれば、第１方向にそれぞれ複数の電極間絶縁膜及び電極膜が交互に積層された積層体と、前記積層体を前記第１方向に貫通する半導体ピラーと、前記電極膜のそれぞれと前記半導体ピラーとの間に設けられ、前記第１方向に延びた記憶層と、前記記憶層と前記半導体ピラーとの間に設けられ、前記第１方向に延びた第１絶縁膜と、前記電極膜のそれぞれと前記記憶層との間に設けられ、前記第１方向に延びた第２絶縁膜と、を備え、前記第２絶縁膜は、前記電極膜同士の間に突出したことを特徴とする不揮発性半導体記憶装置が提供される。 （もっと読む）

【課題】選択消去が可能な不揮発性半導体記憶装置を提供する。
【解決手段】メモリ部と制御部とを備える不揮発性半導体記憶装置を提供する。メモリ部は、互いに電気的に分離された第１、第２第半導体層に形成された第１、第２メモリストリングＭＣＳ１、ＭＣＳ２と、第１、第２半導体層に接続された第１、第２配線Ｗ１１、Ｗ１２と、を有する。第１、第２メモリストリングは、複数のメモリセルを有する第１、第２メモリセル群と、第１、第２選択ゲートと、を有する。第１メモリセル群の選択セルトランジスタＣＬ１を選択的に消去する際に、制御部は、第１配線に高電圧Ｖｐｐを、選択セルトランジスタの制御ゲートに０Ｖを、選択セルトランジスタ以外の第１メモリストリングの非選択セルの制御ゲート、及び、第１選択ゲートに中間電圧Ｖｍを、第２配線に中間電圧以下の低電圧Ｖｃｃまたは０Ｖを印加する。 （もっと読む）

【課題】不揮発性メモリを備える半導体装置の歩留まりを向上させることの可能な半導体装置の製造方法および方法により得られた半導体装置を提供する。
【解決手段】半導体装置の製造方法は、不揮発性メモリ形成領域のドレイン形成領域側において、ダミーゲート１６に対向しない第２ゲート電極１４の側壁に形成された第２サイドウォール４３のゲート長方向の幅が、ソース形成領域側において、第２ゲート電極１４の側壁に形成された第２サイドウォール４３のゲート長方向の幅Ｘよりも長い第２サイドウォール４３を得る工程を含む。 （もっと読む）

【課題】ビット線コンタクト部のトラップ膜の完全な除去とメモリセル部のゲート電極間の埋め込み充填絶縁膜の十分な残存量確保とを両立する。
【解決手段】複数のビット線拡散層と、複数のワード線と、一対のビット線拡散層、ゲート絶縁膜、及びゲート電極によって構成された複数のメモリ素子と、を含むメモリ領域を有する半導体記憶装置であって、各列における複数に分割された複数のビット線拡散層同士は、ビット線コンタクト拡散層を介して電気的に接続されており、ビット線コンタクト拡散層に隣り合って配置されたワード線に形成されたビット線コンタクト拡散層側の側壁絶縁膜の幅は、ビット線コンタクト拡散層側と反対側に形成された側壁絶縁膜の幅よりも狭い。 （もっと読む）

【課題】ロジックトランジスタ（Ｔｒ）３３のＬＤＤ幅ＳＷ１１をセルＴｒ３５のＬＤＤ幅ＳＷ１３とは別個に設定し、中間絶縁膜の埋め込み時のボイド発生を抑制する。
【解決手段】各Ｔｒ３３，３５のゲート電極３３Ｇ，３５Ｇの側壁にそれぞれ第１のサイドウォール３３ＳＷ１，３３ＳＷ２，３５ＳＷ１，３５ＳＷ２を形成する工程と、各第１のサイドウォール上に、第２のサイドウォール３３ＳＷ１１，３３ＳＷ１２，３５ＳＷ１１，３５ＳＷ１２をそれぞれ形成する工程とを順に処理した後、中間絶縁膜埋め込み前に、第２のサイドウォールのみを選択的に除去する工程とを順に処理する。これらの処理において、第１のサイドウォール形成後にＴｒ３３のソース領域／ドレイン領域インプラ工程を、第２のサイドウォール形成後にＴｒ３５のソース領域／ドレイン領域インプラ工程を、それぞれ打ち込むことにより、各ＬＤＤ幅ＷＤ１１，ＷＤ１３を別個に設定する。 （もっと読む）

【課題】安価に高集積化された且つ信頼性の低下を抑制した不揮発性半導体記憶装置を提供する。
【解決手段】不揮発性半導体記憶装置は、電気的に書き換え可能な複数のメモリセル、及び複数の選択トランジスタが直列に接続された複数のメモリストリングスＭＳを有する。メモリストリングスＭＳは、基板Ｂａに対して垂直方向に延びるメモリ柱状半導体層３４と、メモリ柱状半導体層３４との間に電荷蓄積層３６を挟むように形成された第１〜第４ワード線導電層３２ａ〜３２ｄと、メモリ柱状半導体層３４の下部に接し且つ基板Ｂａに対して垂直方向に延びるソース側柱状半導体層２６と、ソース側柱状半導体層２６との間に電荷蓄積層２７を挟むように形成されると共にロウ方向に所定ピッチの間隔を設けてライン状に繰り返し設けられたソース側導電層２２とを備える。 （もっと読む）

【課題】読み出しマージンを大きくとることができ、且つ、スタンバイ状態において記憶トランジスタに電圧ストレスが印加されない書き換え可能な不揮発性半導体記憶素子を提供する。
【解決手段】ＴＲＵＥ側記憶トランジスタおよびＢＡＲ側記憶トランジスタと、両記憶トランジスタのドレインと対応するビット線との間に接続された選択トランジスタと、２つの選択トランジスタのゲートに接続されたワード線と、２つのＣＭＯＳインバータをクロス接続して構成されたフリップフロップと、各記憶トランジスタのドレインとフリップフロップの対応する入出力部との間に接続された２つのゲートトランジスタとを備える。 （もっと読む）

【課題】電荷蓄積層中の電荷分布を電気的に制御することによって、効率のよい書き込みや消去あるいはデータの保持を可能とした不揮発性半導体記憶装置の駆動方法及び不揮発性半導体記憶装置を提供する。
【解決手段】半導体基板の表面部に離間して形成されたソース・ドレイン拡散層と、前記ソース・ドレイン拡散層の間のチャネル上に形成され電荷蓄積層を含む積層絶縁膜と、前記積層絶縁膜の上に形成されたゲート電極と、を有し、前記電荷蓄積層に電荷を注入することによりデータの記憶状態を変化させる不揮発性半導体記憶装置の駆動方法であって、前記電荷蓄積層に、データの記憶状態を変化させるための電荷を注入する前に、注入しようとする電荷と同じ極性の電荷を注入し、さらに注入した電荷とは逆の極性の電荷を注入することを特徴とする不揮発性半導体記憶装置の駆動方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】バラツキの小さい安定したトランジスタ特性が得られ、十分なしきい値電圧、オン電流の変動が得られる不揮発性半導体記憶装置を提供すること。
【解決手段】半導体基板１表面に形成されたソース２及びドレイン３と、ソース２とドレイン３の間の半導体基板１上にゲート絶縁膜４を介して形成されたゲート電極５と、を備え、ゲート電極５の一部の領域はポリシリコンに不純物が注入されていないノンドープ領域１０となっており、ゲート電極５のその他の領域がポリシリコンに不純物が注入されているドープ領域９となっている。 （もっと読む）

【課題】不揮発性メモリ素子のプログラム方法を提供する。
【解決手段】（イ）メモリセルにプログラム電圧を印加し、次いで、第１検証電圧で検証する第１プログラミングステップと、（ロ）第１検証電圧を利用した検証を通過したメモリセルに電荷の安定化を促進するための摂動パルスを印加するステップと、
（ハ）摂動パルスの印加後に第１検証電圧より高い第２検証電圧で検証するステップと、を含むことを特徴とする不揮発性メモリ素子のプログラム方法である。 （もっと読む）

【課題】電極間絶縁膜に生じるシームなどの埋込み欠陥の露出を抑制できるようにしてゲート電極間ショートを防止できるようにする。
【解決手段】多結晶シリコン層６ｂを種として選択成長された選択成長部６ｃがシリコン酸化膜８、９上に突出して張り出して形成される。その後、多結晶シリコン層６ｂ、６ｃをシリサイド化することで、金属反応領域を拡大することができ、制御ゲート電極ＣＧ（ワード線ＷＬ）を低抵抗化することができる。 （もっと読む）

【課題】微細化に有利な、二重ウェル、及びこの二重ウェルから離れたウェルを備えた不揮発性半導体記憶装置を提供する。
【解決手段】不揮発性半導体記憶装置は、第１導電型の半導体基板１内に形成された第１導電型の第１ウェル１０と、第１ウェル１０に形成された複数のメモリセルトランジスタＱ５−１、Ｑ５−２と、第１ウェル１０の側面領域を囲む第１部分７、及び第１ウェル１０の下部領域を囲む第２部分９を有し、第１ウェル１０を半導体基板１から電気的に分離する第２導電型の第２ウェルと、半導体基板１内に形成された第２導電型の第３ウェル領域５と、を備える。 （もっと読む）

【課題】高い誘電定数と大きいエネルギーバンドギャップとを有するブロッキング絶縁膜を有する電荷トラップ型メモリ素子及びその製造方法を提供する。
【解決手段】基板上に形成されたトンネル絶縁膜と、トンネル絶縁膜上に形成された電荷トラップ層と、電荷トラップ層上にランタン族元素を含む物質からなるブロッキング絶縁膜と、を備える電荷トラップ型メモリ素子である。ブロッキング絶縁膜は、アルミニウム及び酸素をさらに含み、この時のランタン族元素とアルミニウムとの比率は、１より大きい。すなわち、ランタン族元素とアルミニウムとの比率は、約１.５ないし約２.０でありうる。電荷トラップ型メモリ素子は、電荷トラップ層とブロッキング絶縁膜との間に提供されたバッファ層と、ブロッキング絶縁膜上に提供されたゲート電極とをさらに備えうる。 （もっと読む）

【課題】信頼性の高い半導体装置を歩留まり良く製造する技術を提供する。
【解決手段】基板上に設けられ、一対の不純物領域の間に設けられたチャネル形成領域を含む島状の半導体層と、半導体層の側面に接して設けられた第１絶縁層と、チャネル形成領域上に設けられ、半導体層を横断するように設けられたゲート電極と、チャネル形成領域及びゲート電極の間に設けられた第２絶縁層と、半導体層及び前記ゲート電極上に形成された第３絶縁層と、第３絶縁層を介して、不純物領域と電気的に接続される導電層と、を有する。不純物領域はチャネル形成領域と比較して膜厚が大きい領域を有し、且つ該膜厚が大きい領域で導電層が接続されている。第２絶縁層は、少なくともゲート電極が重畳する領域の半導体層の側面に設けられた第１絶縁層を覆う。 （もっと読む）

【課題】面積を大幅に削減しつつ、信頼性の高い書き換え動作や読み出し動作ができる半導体記憶装置を提供する。
【解決手段】ｍ(＝１０)段のメモリセル３３m1、３３m2、３３m3、…、３３m1が直列に接続されたメモリセルアレイを備える。上記ｍ段のメモリセルは、連続する２段毎のメモリセル対に分ける。そして、奇数番目のメモリセル対３３m1,３３m2、３３m5,３３m6、３３m9,３３m10のゲート電極を、第１のワード線３１w21に電気的に接続する。一方、偶数番目のメモリセル３３m3,３３m4、３３m7,３３m8のゲート電極を、第２のワード線３１w22に電気的に接続する。 （もっと読む）

【課題】半導体膜のチャネル形成領域の端部の特性がトランジスタの特性へ及ぼす影響を低減することを課題とする。
【解決手段】基板上に半導体膜とゲート絶縁膜と第１の導電膜を順に積層した積層体を形成し、積層体を除去することによって、島状に設けられた複数の積層体とし、島状に設けられた積層体を覆うように絶縁膜を形成し、第１の導電膜の表面と高さが概略一致するように絶縁膜の一部を除去して第１の導電膜の表面を露出させ、第１の導電膜上及び残存した第１の絶縁膜上に第２の導電膜を形成し、第２の導電膜上にレジストを形成し、レジストをマスクとして、第１の導電膜及び第２の導電膜を選択的に除去する。 （もっと読む）

ソース領域およびドレイン領域、フィン本体、電荷トラップ積層、およびゲートを有する、半導体基板上のｆｉｎＦＥＴベース不揮発性メモリデバイスである。フィン本体は、接触部としてソース領域とドレイン領域との間に延在する。電荷トラップ積層は、フィン本体の一部を被覆し、ゲートは、フィン本体のこの位置で電荷トラップ積層を被覆する。フィン本体は、明確な結晶質表面およびこの結晶質表面の間の遷移ゾーンが欠如するフィン本体の外周の少なくとも３／４にわたり角部のない形状を有する。
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