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Fターム[5F110NN41]の内容

薄膜トランジスタ (412,022) | その他の構成要素 (47,691) | 遮光膜 (1,533)

Fターム[5F110NN41]の下位に属するFターム

複数層 (106)
遮光以外の機能 (361)
材料 (786)
製法 (237)

Fターム[5F110NN41]に分類される特許

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【課題】比較的簡易な構成により表示パネルの周囲の明るさを検出する。
【解決手段】複数の画素を備えた表示パネルの基板上にフォトセンサが形成される。このフォトセンサは、並列接続された複数TFTからなる受光TFT50と、この受光TFT50に並列に接続された保持容量54を有する。そして、受光TFT50に入射した光によって生じる光電流によって、保持容量54の充電状態が変化し、この変化を入射光量を示す信号として出力する。 (もっと読む)


【課題】 ストレージ容量を低下させることなくオフ電流を低減させ、画素の高精細化を実現するとともに、簡便な工程で高効率に製造することが可能な電気光学装置を提供する。
【解決手段】 液晶装置(電気光学装置)100は、半導体層3と該半導体層3にゲート絶縁膜2を介して対向するゲート電極31,32とを備えた薄膜トランジスタ30と、該薄膜トランジスタ30と接続されたストレージ容量70とを具備し、前記薄膜トランジスタ30のゲート絶縁膜2が、第1絶縁膜24と第2絶縁膜26との積層膜からなり、前記ストレージ容量70が、ゲート絶縁膜2のうち、第2絶縁膜26のみを誘電体膜として有する構成となっている。 (もっと読む)


【課題】大型基板と層間絶縁膜との間に発生する応力を緩和し、大型基板の反りを防止する。
【解決手段】大型基板100上に導電層15,15bと層間絶縁膜13,14,19,25とが交互に積層して複数の素子基板を形成する工程において、大型基板100に成膜した各層間絶縁膜13,14,19,25の互いに隣接する素子基板領域10の境界位置に、大型基板100の一端から他端へ貫通する分断溝180を複数本平行に形成する。各層間絶縁膜13,14,19,25に分断溝180を形成したので、大型基板100と層間絶縁膜13,14,19,25との間の応力が緩和され、大型基板100の反りが解消される。 (もっと読む)


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