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Fターム[5F140AC18]の内容

絶縁ゲート型電界効果トランジスタ (137,078) | 動作、用途、素子構造 (4,642) | デュアルゲートMOS、四極MOS (8)

Fターム[5F140AC18]に分類される特許

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【課題】構造が簡単なトランジスタにより、サステイン耐圧を改善し且つサステイン耐圧のばらつきの抑制及びトランジスタ形成後のドレイン抵抗及び接合プロファイルの調整が可能な、自由度が高い半導体装置を実現できるようにする。
【解決手段】半導体装置は、p型ウェル102に形成され、互いに並行に延びると共に、ゲート長方向の幅が比較的に大きい第1ゲート電極125と、ゲート長方向の幅が比較的に小さい第2ゲート電極126と、p型ウェル102における第1ゲート電極125及び第2ゲート電極126同士の間に形成されたLDD低濃度領域135と、該p型ウェル102における第1ゲート電極125及び第2ゲート電極126のそれぞれの外側に形成されたLDD中濃度領域134とを有している。LDD低濃度領域135の不純物濃度は、LDD中濃度領域134の不純物濃度よりも低い。 (もっと読む)


【課題】 ICまたはLSIの標準電源電圧用のトランジスタ構成部分ないしはプロセス技術を活用して高電圧動作電界効果トランジスタを該IC中に作りこむ。
【解決手段】 電界効果トランジスタの動作電圧を大きくするために、ゲートにドレイン電位に応じて変化する電位分布を設ける手段をとる。 (もっと読む)


【課題】MOS動作とIGBT動作との切替りを高精度に検出でき、当該高精度検出により低損失駆動が可能である高耐圧半導体装置及びそれを備えた電流制御装置を提供する。
【解決手段】P-型基板1の表面に形成されたN型のリサーフ領域5と、P型ベース領域10と、N+型エミッタ/ソース領域14と、ゲート絶縁膜7と、リサーフ領域5内に形成されたN+型ドレイン領域32及びP型コレクタ領域31と、ゲート絶縁膜7上に形成されたゲート電極90と、P型コレクタ領域31及びN+型ドレイン領域32に電気接続されたコレクタ/ドレイン電極110と、P型ベース領域10に電気接続されたバックゲート電極62と、N+型エミッタ/ソース領域14に電気接続されたエミッタ/ソース電極61とを備え、P型コレクタ領域31及びN+型ドレイン領域32は交互に接触するように配置されている。 (もっと読む)


【課題】低コストかつ低抵抗の半導体装置およびその製造方法を提供すること。
【解決手段】基板と、前記基板上に形成された半導体層と、前記半導体層上に形成され、該半導体層の表面方向における幅が該半導体層の表面と垂直方向における高さ以上である櫛歯状の電極と、を備える。また、基板上に半導体層を形成する半導体層形成工程と、前記半導体層上に、前記半導体層の表面方向における幅が該半導体層の表面と垂直方向における高さ以上である櫛歯状の電極を形成する電極形成工程と、を含む。 (もっと読む)


半導体プロセス及び結果として得られるトランジスタであって、このプロセスでは、取り出し導電スペーサ(146,150)をゲート電極(116)の各側に形成する。取り出し導電部(146,150)及びゲート電極116を個別にドープして、これらの構造の各々がn型またはp型になるようにする。ソース/ドレイン領域(156)は、ソース/ドレイン領域がスペーサ(146,150)のいずれかの側に横方向に配置されるようにイオン注入により形成される。スペーサ(146,150)には、第1注入角のイオン注入(132)を使用して第1取り出しスペーサ(146)に不純物をドープし、そして第2注入角のイオン注入(140)を使用して第2取り出しスペーサ(150)に不純物をドープすることにより個別に不純物をドープすることができる。一実施形態では、異なる不純物のドーピングが行われる取り出しスペーサ(146,150)を使用することにより、しきい値調整用のチャネルイオン注入を行なう必要を無くすことができる。
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【課題】電力用デバイスにおいて双方向に電圧をブロックできるようにする。
【解決手段】大電流を搬送するチャンネルを得るAlGaN/GaNインターフェースを備えたIII族窒化物双方向スイッチであり、この双方向スイッチは、この双方向スイッチのために、電流を搬送するチャンネルを形成するための二次元電子ガスの発生を阻止したり、または可能にする少なくとも1つのゲートにより作動する。 (もっと読む)


III族窒化物スイッチは、凹型のゲートコンタクトを含み、ノミナリーオフの、すなわち、エンハンスメント型のデバイスを提供する。凹型のゲートコンタクトを提供することにより、ゲート電極が不活性状態である場合には、2つのIII族窒化物材料の界面に形成された伝導チャンネルが遮断され、デバイス中の電流の流れを防止する。ゲート電極は、ショットキコンタクト又は絶縁金属コンタクトである可能性がある。2つのゲート電極が提供され、ノミナリーオフ特性の双方向スイッチを形成することが可能である。ゲート電極と共に形成された凹部は、傾斜した側壁を持つ可能性がある。デバイスの電流伝達電極に関連して、多くの形状にてゲート電極を形成することが可能である。
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電源制御装置システム(25)は、電源制御装置システム(25)のスタートアップ動作を制御するために2つの別個の電流を使用する。2つの電流は、電源制御装置システム(25)の動作を抑止するために接地に分流され、2つの電流のうちの1つは電力消散を最小限にするためにディセーブルにされる。2つの独立した制御電流は、2つの別個の制御信号(23、24)に応答して、マルチ出力電流高電圧装置(12)によって生成される。
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