【課題】パターニングのための印刷装置を用いず、またそれによる複雑な処理工程を必要とすることなく、導電パターンの生成を簡易に行え、導電パターンの微細化を実現できる導電パターンの生成方法を提供する。
【解決手段】基板３の表面には、導電性粉体と熱硬化性樹脂を均一に分散した導電性ペーストによって、導電性ペースト膜４が塗着されている。基板３は導電性ペースト膜４を上方に向けて基台１の所定位置に載置されている。基台１の上方に配置されたレーザー描画装置１０による熱線レーザービームが導電性ペースト膜４に入射してペースト成分中の熱硬化性樹脂が熱硬化され、かつ導電性粉体も焼結される。レーザー未照射の部分では熱硬化及び焼結が生じない。この焼結と未焼結がドット状に形成され、焼結された回路パターン２が形成される。 （もっと読む）

【課題】 基板の一面上に、基板側から順に、着色層、オーバーコート層（平坦化層）、ＩＴＯ膜を積層し、ＩＴＯ膜を表面層としている液晶表示装置用のカラーフィルタ基板に対し、そのＩＴＯ膜に、所定のレーザ光を所定形状に選択的に照射することにより、ＩＴＯ膜を前記所定形状にパターンニングするＩＴＯ膜のパターンニング方法で、生産性の面、品質面、製造の費用の増加の面の問題を解決できるパターンニング方法を提供する。
【解決手段】 所定のレーザ光として、加工用基板の加工対象とするＩＴＯ膜に対して非熱的な光分解反応であるアブレーションを起し、ＩＴＯ膜およびＩＴＯ膜下の有機材層に対して低発熱の紫外線波長のエキシマレーザ光を用い、ＩＴＯ膜の下のＩＴＯ膜以外のものに損傷等の品質的なダメージを与えないレーザ光の照射条件にて、前記加工用基板のＩＴＯ膜に対して前記レーザ光を選択的に照射し、照射領域において、ＩＴＯ膜を除去し、抜きパターンをＩＴＯ膜に形成するものである。 （もっと読む）

支持体上の実質的に透明な伝導層構成の製造方法であって、層構成がいずれかの順序で場合により式（Ｉ）［式中、ｎは１より大きくそしてＲ^１およびＲ^２のぞれぞれは独立して水素または場合により置換されていてもよいＣ_１−４アルキル基を表わすか或いは一緒になって場合により置換されていてもよいＣ_１−４アルキレン基または場合により置換されていてもよいシクロアルキレン基、好ましくはエチレン基、場合によりアルキル−置換されていてもよいメチレン基、場合によりＣ_１−１２アルキル−もしくはフェニル−置換されていてもよいエチレン基、１，３−プロピレン基もしくは１，２−シクロヘキシレン基を表わす］により示される構造単位を含有してもよい真性伝導性重合体を含有する第一の層および伝導性銀の非連続層よりなる第二の層を少なくとも含んでなり、この方法が写真処理により第二の層を生成せしめる段階を含んでなる方法、並びにこの方法に従い製造される発光ダイオード、光電池装置、トランジスターおよびエレクトロルミネセント装置。
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所望のレイアウトで導電トレースを基板上に形成する方法であって、有機金属化合物を基板上に導電トレースの所望のレイアウトで、プリンターを用いて印刷する工程であって、有機金属化合物は電磁放射線に対して実質的に透過性であり、電磁放射線は少なくとも一部が基板によって吸収されるような印刷する工程と、基板を、有機金属化合物と基板との界面領域付近又は界面領域で、電磁放射線を用いて加熱する工程と、加熱する工程の結果として、導電トレースの少なくとも一部分を、基板上の加熱された界面領域付近又は界面領域に堆積させる工程とを含む、所望のレイアウトで導電トレースを基板上に形成する方法。
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親液性領域の所定パターンを残すためにウェブの表面に疎液性パターンを生成することによりフレキシブルな基板の適切に規定された離散的領域にコーティングする方法。コーティング溶液の層はパターニングされたウェブに対して置かれ、その溶液は、疎液性領域から後退し、親液性領域に集まる。 （もっと読む）