【課題】容易にパターニングが可能で、かつ低コストで実現可能な低抵抗で透明性に優れた酸化スズ膜からなる透明電極の製造方法の提供。
【解決手段】基板上にパターニングされた酸化スズ膜を形成した透明電極の製造方法であって、
基板上にＳｎＯ_２−ｘ膜（０．３≦ｘ≦１．９５）を形成する工程、前記ＳｎＯ_２−ｘ膜の一部を除去してパターニングする工程、パターニングされた前記ＳｎＯ_２−ｘ膜を加熱処理し酸化スズ膜とする工程とを含む透明電極の製造方法、または、
基板上に膜の密度が６．５グラム／ｃｍ^３以下の酸化スズ膜を形成する工程、前記膜の密度が６．５グラム／ｃｍ^３以下の酸化スズ膜の一部を除去してパターニングする工程、パターニングされた前記膜の密度が６．５グラム／ｃｍ^３以下の酸化スズ膜を加熱処理し酸化スズ膜とする工程とを含む透明電極の製造方法。 （もっと読む）

【課題】レーザー照射による加工方法において、加工効率及び安定性が高く、しかも安全性に優れた新規な方法を提供することを課題とする。
【解決手段】基材層２と加工材層１とを有する多層構造体（ベースフィルムと金属層とからなるプリント配線基板、基材層と触媒インク層とからなる導電性部材形成用積層材など）において、該加工材層１にレーザー光５を、集光レンズ６等を通して照射するなどの方法により加工して所望のパターンを形成する際に、ステージ４上に水（イオン交換水３）などの冷媒を置き、前記基材層側に接触させて冷却する。 （もっと読む）

【課題】高周波電磁波を吸収する粒子を用いた直接回路描画法において、耐熱性の低い基板材料上においても低抵抗の実装部品を短時間に作成することが可能な、新しい技術手法を提供する。
【解決手段】熱分解性を有し且つ高周波電磁波を吸収する粒子を、各種基板上に表面塗布又は回路パターンニングを行った後に、高周波電磁波照射を行うことで、熱分解性粒子を選択的に加熱する熱分解性粒子の加熱分解相互融着方法とこの方法を用いて形成した導電材、導電路、アンテナ、バンプ、パッド、ビア等の電子実装部品である。 （もっと読む）

【課題】有機導電体の導電パターンが形成されているにもかかわらず、導電パターンが視認されにくい導電パターン形成基板を容易に製造できる導電パターン形成基板の製造方法を提供する。
【解決手段】本発明の導電パターン形成基板の製造方法は、透明基材Ａ_２の少なくとも一方の面に形成された有機導電体製の透明導電層Ａ_１に、パルス幅１ｐ秒未満の極短パルスのレーザ光Ｌを所定のパターンで照射する。 （もっと読む）

【課題】パターン見えを軽減させると共に、導電パターン膜を容易に形成することができる導電性ナノファイバーシート及びその製造方法を提供する。
【解決手段】導電性ナノファイバーシート１は、基体シート１０と、基体シート１０上に形成され、導電性ナノファイバー３を含み、導電性ナノファイバー３を介して導通可能であり、目視により認識することができない大きさの複数の微小ピンホール７を有する導電パターン層６と、基体シート１０上の導電パターン層６が形成されていない部分に形成され、導電性ナノファイバー３を含み、導電パターン層６から絶縁された絶縁パターン層５とを備えている。狭小溝９が導通可能状態にある導電性ナノファイバー３を断線させ、この狭小溝９により、絶縁パターン層５は導電パターン層６から絶縁されている。狭小溝９及び微小ピンホール７には、絶縁材料が埋められている。 （もっと読む）

【課題】パターン見えを軽減させると共に、導電パターン膜を容易に形成することができる導電性ナノファイバーシート及びその製造方法を提供する。
【解決手段】導電性ナノファイバーシート１は、基体シート１０と、基体シート１０上に形成され、導電性ナノファイバー３を含み、導電性ナノファイバー３を介して導通可能であり、目視により認識することができない大きさの複数の微小ピンホール７を有する導電パターン層６と、基体シート１０上の導電パターン層６が形成されていない部分に形成され、導電性ナノファイバー３を含み、導電パターン層６から絶縁された絶縁パターン層５とを備えている。絶縁パターン層５は、目視により認識することができない幅の狭小溝９を有している。狭小溝９が導通可能状態にある導電性ナノファイバー３を断線させ、この狭小溝９により、絶縁パターン層５は導電パターン層６から絶縁されている。 （もっと読む）

【課題】 導電性パターン部と非導電性パターン部との色相、光線透過率、ヘイズ値の差異を少なくし、導電性パターン部と非導電性パターン部とが明確に視認されることのない導電性パターン被覆体の製造方法および導電性パターン被覆体を提供するものである。
【解決手段】 導電性極細繊維を凝集又は絡み合うことなく分散配置して交差させ、当該交差した部分で互いに電気的に接触させてなる導電性繊維膜を形成する工程と、前記導電性繊維膜の所望の位置にレーザー光線を照射して、前記導電性極細繊維の一部を断線または消失させることにより導電性パターン部を形成する工程と、前記導電性極細繊維を基材表面に固定する工程を、少なくとも備えた導電性パターン被覆体の製造方法。 （もっと読む）

【課題】透明電極と金属電極との位置精度を向上させ、画像表示性能に優れた表示デバイスを低コストで実現する。
【解決手段】基板１上に透明電極と金属電極とが順次形成された映像表示装置の製造方法であって、基板１上に透明電極形成層２を形成するステップと、その後、透明電極形成層２の上に金属電極６をパターニング形成するステップと、その後、透明電極形成層２を所定パターンの透明電極９にパターニング形成するステップとを含み、透明電極形成層２をレーザーアブレーション法によりパターンニングする。 （もっと読む）

【課題】 二層に貼り合わされた透明導電性フィルムの内部の導電膜を任意の形状で、且つ、個別に加工できるレーザ加工方式、及びこの方式によって形成される静電容量式タッチパネルの提供を目的としている。
【解決手段】 本発明の静電容量式タッチパネルの加工方式は、紫外線吸収層を有する粘着層を用いて、予め貼り合わされた透明導電性フィルムの内部の導電層にレーザ光を照射し、二層の導電層を個別にパターニングすることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】効率よく製造することができる透明面状体、透明タッチスイッチ及び透明面状体の製造方法を提供する。
【解決手段】透明基板１１及び透明導電膜１２を有する透明面状体１であって、透明導電膜１２は、透明基板１１の一方面に有機導電性ポリマー組成物を塗布した後、所定領域に紫外線を照射して、前記所定領域における前記有機導電性ポリマー組成物の電気抵抗値を高めることによりパターニングされている透明面状体１。 （もっと読む）

導電性フィルムの形成は、基板表面上に複数の銅ナノ粒子を含む非導電性フィルムを堆積させる段階と、フィルムの少なくとも一部を露光して、その露光部分を導電性にする段階とを備える。フィルムの露光は、銅ナノ粒子を光焼結又は融合する。
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本発明は、導電路（１）をプラスチック部品（２）に形成するための製造方法に関する。前記導電路に沿ってエネルギー供給を移動させながら行うことにより、前記プラスチック部品（２）のプラスチック材料（１８）を導電性物質に変換することを提案する。本発明はさらに、プラスチック基板（１３）上に配置され導電路（１）を有する電気回路にも関する。
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【課題】レーザー描画により金属ラインを形成するための、および三次元パターンを直接描画するための低温プロセスを提供する。
【解決手段】予備核形成した金属ナノ粒子を複合材にして準備し、放射線への露光により金属イオンを還元することのより金属原子を生成し、前記金属原子を前記予備核形成した金属ナノ粒子と反応させ、それにより金属ナノ粒子を成長させる。 （もっと読む）

【課題】単一の低温プロセスで一次元または二次元パターンへのナノメータースケールの金属パターンの製造のためのプロセスを提供する。
【解決手段】金属ナノ粒子、金属塩、ポリーマーマトリックスから形成したフィルムにパターンをレーザー描画することにより連続的な、導電金属パターンを形成することができる。このパターンは一次元、二次元または三次元で、高い解像度であり、ミクロンからナノメーターのオーダーの特徴サイズをもたらす。 （もっと読む）

【課題】回路基板として、ガラス基板だけではなく、高分子系材料で構成される基板（被転写体）上などへ、十分な密着性、高透光性、低抵抗、高精細、高信頼性、絶縁性を有し、かつ低コスト、短納期、低環境負荷などの要求を満足させる透明配線を形成するための、金属酸化薄膜素子の転写方法を提供する。
【解決手段】基材上に形成された金属酸化薄膜素子を有する転写体の薄膜素子を選択的に被転写体に転写する方法であって、転写体は基材と薄膜素子の少なくとも一面に光熱変換層を備え、転写体と被転写体を接着層を介して対向し、光熱変換層にレーザ光を選択的に照射し、得られた熱により接着層を選択的に溶融・軟化させ、薄膜素子と被転写体とを選択的に接着させ、選択的に接着された薄膜素子を転写体から離脱させて被転写体に転写層を形成することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】レーザーエッチング性の良好となるレーザーパターニング用透明導電膜付きフラットパネルディスプレイ用ガラス基板、およびその製造方法を提供する。
【解決手段】 ガラス基板上に形成された透明導電膜をレーザー光によりパターニングすることによって透明導電膜パターンを形成するために使用される透明導電膜付き基板であって、前記透明導電膜を形成する材料が酸化インジウム、酸化スズまたは酸化亜鉛を主成分とし、波長１０６４ｎｍにおける式（１）にて求められる前記透明導電膜の吸収率が５％以上２０％以下である透明導電膜付き基板。
透明導電膜の吸収率＝｛１００−（透明導電膜付きガラス基板の透過率＋透明導電膜付きガラス基板の反射率）｝−｛１００−（ガラス基板の透過率＋ガラス基板の反射率）｝‥‥‥（１）式 （もっと読む）

【課題】高導電特性、高再生精度、印刷モデルの多様化を達成でき、かつ環境破壊を生じさせない導電性インク用組成物を提供する。
【解決手段】樹脂と、この樹脂中に分散された導電性物質を含む導電性インク用組成物の、前記導電性物質が、レーザ光線等の放射により、少なくとも部分的に解重合されることができる導電性ポリマーを含む。この導電性組成物はフィルム１に塗布される。 （もっと読む）

【課題】低いエネルギーのレーザ光の照射であってもアブレーション現象が起こり、問題なくパターニングできる酸化錫薄膜が付いた透明基板の製造方法の提供。
【解決手段】透明基板上にキャリア濃度が５×１０^１９／ｃｍ^３以上である透明導電膜を有する薄膜付き透明基板に、波長が１０６４ｎｍのレーザ光を照射して前記透明基板上に回路パターンを形成する、回路パターン付き透明基板の製造方法。 （もっと読む）

本発明は、半導体型、超伝導体型、又は金属型の伝導特性を有する有機基板上へのパターンの直接的デザインを可能にする化学的方法に関する。本発明は、該方法によって得られる有機材料であって、電子装置（例えば、抵抗器、キャパシター、トランジスター、センサー及び電極等）、又は導体域又は半導体域及び低伝導性域、非伝導性域又は絶縁性域の所定のパターンを必要とするその他の用途において使用するための該有機材料にも関する。
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