【課題】液晶表示画面内に他のディスプレイの表示する場合において、液晶画面と他のディスプレイの表示を違和感無く視認できるようにする。
【解決手段】液晶表示パネル１０とバックライト２０から構成される液晶表示装置３の画面内に他のディスプレイを表示するための孔４０を形成する。液晶表示パネル１０に形成された孔部には保護部材２９を形成し、バックライト２０に形成された孔部には保護部材３０を形成する。液晶表示装置に共通に形成される孔部４０にはさらに保護部材３１を形成する。 （もっと読む）

【課題】製造工程が増加せず製品コストの高騰を抑制すると共に、製造工程中に蓄積された電荷による静電気破壊から配線膜を保護する。
【解決手段】ＴＦＴ基板１０上の画素領域の周辺に設けられている周辺領域に、信号線膜２００と、この信号線膜２００の上層であって信号線膜２００に対して交差する方向に配設されている配線膜２０１と、この信号線膜２００と配線膜２０１との間に絶縁膜４１'，４２'を介して介装されると共に平面視において少なくとも信号線膜２００と配線膜２０１との交差する領域に配設されているシールド膜２０３とを備え、このシールド膜２０３が、画素領域において形成される蓄積容量７０の下部電極７１と同一の層であって、この下部電極７１をパターンニングする際に同時に形成される。 （もっと読む）

【課題】本発明は、コーヒーステイン現象による不具合を解消しえる機能膜を用いる装置の製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明の機能膜の形成方法は、基板上に液体材料を塗布して機能膜を形成する機能膜の形成方法において、上記基板上に液体材料を付与する工程と、上記液体材料の溶媒を蒸発させて該液体材料中の溶質によって上記機能膜を形成する工程と、を含み、上記溶媒を蒸発させる条件又は前記液体材料と前記基板との接触角を調整することによって前記機能膜の平坦化を図る。 （もっと読む）

【課題】半導体チップが搭載される領域において、隣接する配線層の間の距離を狭め、また、該半導体チップのバンプ電極と接続される端子の面積を大きくできる表示装置の提供。
【解決手段】
表示部と周辺部とを有する基板と、
前記基板の前記周辺部に搭載された半導体チップとを有する表示装置であって、
前記半導体チップは、第１のバンプ電極を有し、
前記基板は、第１の配線と、前記第１の配線に隣接して配置された第２の配線と、前記第１の配線と前記第２の配線とを被う絶縁膜と、前記絶縁膜に形成された第１のコンタクト孔と、前記第１のコンタクト孔を介して前記第１の配線と接続された第１の端子とを有し、
前記第１のバンプ電極は、前記第１の端子と接続されており、
前記第２の配線は、前記第１の端子と電気的に絶縁されており、
平面的に見た場合に、前記第１の端子は、前記絶縁膜を介して前記第２の配線と重畳して配置されている。 （もっと読む）

【課題】電気光学装置において、コンタクトオープンの発生を低減する。
【解決手段】電気光学装置の製造方法は、中継配線Ｈａ６、蓄積容量７０、補助中継配線Ｈｂ６及び画素電極９ａをそれぞれ形成する工程を備える。蓄積容量７０を形成する工程は、下側電極３０１の上層側にスペーサ絶縁膜４９を積層する工程と、スペーサ絶縁膜４９にエッチングを施し、下側電極３０１が露出するように開口部５１０を形成すると共に中継配線Ｈａ６と補助中継配線Ｈｂ６とを接続するためのコンタクトホール８２０を形成すべき領域におけるスペーサ絶縁膜４９を除去する工程と、上側電極３０２を開口部５１０の縁におけるスペーサ絶縁膜４９上に乗り上げるように形成する工程とを含み、補助中継配線Ｈｂ６を形成する工程は、コンタクトホール８２０を、層間絶縁膜４２及び４１を貫通して開孔する工程を含む。 （もっと読む）

【課題】本発明は、画像を表示する表示機能以外に、外部から信号を受信する入力機能も直接果たすことができる表示パネルを提供する。
【解決手段】本発明による表示パネルは、第１絶縁基板を含む第１表示板と、前記第１絶縁基板と対向配置された第２絶縁基板と該第２絶縁基板で前記第１絶縁基板と対向する面の反対面上に形成されたタッチ感知部とを含む第２表示板と、を具備し、前記タッチ感知部は前記第２絶縁基板上に形成された静電誘導絶縁層と、前記静電誘導絶縁層上の周縁に沿って形成された静電誘導パターン層と、前記静電誘導絶縁層及び前記静電誘導パターン層を覆う誘電体層と、を含む。 （もっと読む）

【課題】保護膜に形成しようとするパターンの収率を向上させることができる表示装置の製造方法を提供する。
【解決手段】
本発明は表示装置用モールドとこれを利用した表示装置の製造方法に関する。本発明による表示装置の製造方法は、絶縁基板を備える段階と；絶縁基板上に保護膜を形成する段階と；支持フレームと、支持フレームの一面に備えられている少なくとも一つのパターン形成部と、支持フレームから突出してパターン形成部の周縁に沿って備えられている突出部とを含み、パターン形成部に向かう突出部の内壁面は支持フレームの板面に対して直立して形成されているモールドを前記保護膜上に整列配置させる段階と；モールドを加圧して、保護膜にパターン形成部に対応する凹凸パターンを形成する段階とを含むことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】サイズが大きく、高解像度、更に、製造容易でコスト面で有利なフラット・パネル・ディスプレイ装置とその製造法を提供する。
【解決手段】フラット・パネル・ディスプレイ装置を提示する。この装置は２セットの導電性部材の間に封入された活性媒体により形成されるマトリクス状の画素から成る、少なくとも１つのディスプレイ・モジュールを有する。このディスプレイ・モジュールは視聴者に向けられた前面側と、その反対側の電子制御回路が配置された背面側とを有し、２セットの導電性部材を備える。２セットの導電性部材は、２本の交差する軸にそれぞれ沿って延在して２次元的な交差部の列を形成することにより画素を提供する。少なくとも１セットの導電性部材は、ディスプレイ・モジュールの前面から、その反対側の背面に折り曲げられて延在する。 （もっと読む）

【課題】 共通の露光、現像、及び焼成によって樹脂膜の異なる位置に個別に必要な形状を設ける場合に、熱変形させたい形状と熱変形させたくない形状とを個別に熱変形させることができる電気光学装置を提供する。
【解決手段】 液晶層１２と、ガラス転移温度Ｇ１を有する感光性樹脂膜２２ａと、感光性樹脂膜２２ａの上に形成されたガラス転移温度Ｇ１よりも低いガラス転移温度Ｇ２を有する感光性樹脂膜２２ｂとを有する液晶装置である。露光処理及び焼成処理によって感光性樹脂膜２２ａと感光性樹脂膜２２ｂのそれぞれに必要な形状が正確に設けられる。必要な形状としては、反射光散乱用の凹凸パターンや、コンタクトホール２５や、液晶層１２の膜厚調整用の凹部２７等がある。樹脂膜２２ｂ上の凹凸パターンは比較的大きく平坦化し、樹脂膜２２ａ内のコンタクトホール２５の平坦化を少なくできる。 （もっと読む）

【課題】 第１導電膜／絶縁膜／第２導電膜の積層構造を有する素子基板の製造方法において、エッチング処理に伴うダメージを回復させて、素子特性の向上を図る。
【解決手段】 本発明の素子基板製造方法は、基体１０上に、第１導電膜２０、絶縁膜３０、及び第２導電膜４０を含む積層体２を形成する工程と、積層体２をエッチング処理により所定平面形状に形成する工程と、エッチング処理によって露出した積層体２の側壁２ａにラジカル状態又はイオン状態の改質ガス５５を供給する工程とを有する。 （もっと読む）

【課題】静電気等の外部ノイズが存在しても異常動作や駆動用ＩＣの破壊が生じることがなく、外部ノイズに対して安定な電気光学装置及び電子機器を提供する。
【解決手段】電気光学材料を備える電気光学パネル２と、当該電気光学パネル２に接続される配線基板３とを備える電気光学装置１であって、当該配線基板３は、電気光学パネル２の動作を制御する制御回路部１９を有し、当該制御回路部１９の少なくとも一部が、絶縁性部材４０によって被覆されていること、を特徴とする。 （もっと読む）

【課題】平板ディスプレイ装置及びその製造方法に係り、金属基板を利用してフレキシブルが可能で、外部からの電気的衝撃を受けない平面ディスプレイ装置。
【解決手段】基板１０の一面を覆う第１絶縁体１１、前記基板１０の他面に配置されたディスプレイ部２０、及び前記基板１０の端部が露出されないように前記基板１０の端部を覆う第２絶縁体１２を備えることを特徴とする平板ディスプレイ装置である。 （もっと読む）

【課題】マスクの枚数を増やすことなく、ストレージキャパシタの電極間から半導体パターンを除去して高画質化を実現させる表示装置及びその製造方法を提供する。
【解決手段】本発明によるＴＦＴパネルの製造では、半導体パターンとＴＦＴのドレイン電極とを、同じマスクを利用したエッチングで同時にパターニングする。一方、画素電極の直下に形成される絶縁膜のパターニングには別のマスクを利用する。ドレイン電極を覆う絶縁膜の領域では、中央部の全体を感光させ、周辺部を半分の厚みまで感光させる。ストレージ電極の上方を覆う絶縁膜の領域は薄い一部を残して感光させる。ドレイン電極を覆う誘電膜をエッチングしてドレイン電極を露出させるとき、絶縁膜のその薄い一部がその下地の誘電膜を保護する。その後、絶縁膜のその薄い一部を画素電極の一部に置換し、保護された誘電膜を隔ててストレージ電極と対向させる。 （もっと読む）

【解決手段】布地又はファブリック（２）であって、第１の光放出構成要素（４）と、第２の感圧構成要素（６）とを備え、第１の構成要素を介して第２の構成要素に加えられた適用圧力のパラメータに依存して、出力信号を放出するように構成されている出力装置を備えている。 （もっと読む）

【課題】 少なくとも有機絶縁膜を有する層間絶縁膜上に透明導電膜をパターン形成する液晶表示装置の製造方法において、プラズマ処理による抵抗増大を防止する。
【解決手段】 層間絶縁膜は無機絶縁膜３２上に有機絶縁膜３３を有する構成である。層間絶縁膜を介してスイッチング素子に接続される透明電極７１、７２を層間絶縁膜上に形成する工程を有する。その工程は、有機絶縁膜３３をパターン形成する工程と、有機絶縁膜３３を含む基板にプラズマ処理を施す工程と、無機絶縁膜３２にコンタクトホール２６，２７を開口する工程と、層間絶縁膜上に透明導電膜を堆積する工程と、透明導電膜をパターニングして透明電極７１、７２を形成する工程とを含む。 （もっと読む）

【課題】内部温度の上昇を抑制し、特性を向上したプラズマディスプレイ装置を提供することを目的としている。
【解決手段】熱部品ユニット２８を回路基板に装着した回路ユニット２６をプラズマパネル２２の裏面に配置した金属パネル２４に装着しており、熱部品ユニット２８は、回路基板３０に対向させた金属平板３６に絶縁体３８を積層するとともに絶縁体３８に金属パターン４０を積層して形成した放熱板４２と、金属パターン４０に面接触させた発熱部品４４とを有し、金属パネル２４に圧入部品を圧入するとともに回路基板３０を圧入部品に固定し、金属平板３６を金属パネル２４に面接触させつつ回路ユニット２６を金属パネル２４に装着した構成である。 （もっと読む）

【課題】 有機層間膜ないしはＳｉＮからなる絶縁膜とＩＴＯ層との間の密着性を改善するとともに電蝕が生じないようにした、端面が順テーパ状のＩＴＯ層からなる透明導電層を有する液晶表示装置、有機エレクトロルミネッセンス表示装置等の表示装置を提供すること。
【解決手段】 有機層間膜１９又は窒化珪素からなる絶縁膜３３の表面にＩＴＯ（Indium Tin Oxide）からなる透明導電層を形成する際に、有機層間膜１９又は窒化珪素からなる絶縁膜３３の表面に変性層３４を形成し、この変性層３４上にアモルファスＩＴＯからなる透明導電層３１を形成した後に所定のパターンにエッチングして端部が順テーパ状態となるようにし、単一のＨｅのプラズマ処理を行うことにより変性層を形成すること。 （もっと読む）

【課題】製造工程の増加や信頼性の低下を招くことなく、ＴＦＴ基板と対向基板の接続強度を高め、額縁の幅を狭くすることができるアクティブマトリクス型表示装置及びその製造方法の提供。
【解決手段】少なくとも、薄膜トランジスタのゲート電極を覆う無機系材料からなる第１層間絶縁膜６と、第１層間絶縁膜上の配線及びドライバと接続するための接続配線８ａを覆う第２層間絶縁膜９と、アクリル、エポキシ系などの有機系材料からなる平坦化膜１０と、スルーホールを介して上記配線に接続される画素電極とを少なくとも備えるＴＦＴ基板において、上記スルーホールの形成と同時に、シール領域の接続配線８ａを除く領域の一部の平坦化膜１０及び第２層間絶縁膜９を除去して凹部１４を形成して、該凹部１４の底部において無機系材料からなる第１層間絶縁膜９とシール材３０とを接触させて接続強度を向上させる。 （もっと読む）

本発明は剥離工程を簡略化し、且つ大型基板に対する剥離・転写を均一に行う方法を提供する。本発明は剥離工程における第１の接着剤の剥離と、第２の接着剤の硬化と、を同時に行って、作製工程を簡略化することを特徴とする。また本発明は、半導体素子の電極まで形成された被剥離層を所定の基板に転写するタイミングを工夫することを特徴とする。特に大型基板に複数の半導体素子を形成した状態で剥離を行う場合、圧力差を利用して基板を吸着して剥離を行うことを特徴とする。
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【課題】基板上に誘電体層等の絶縁層を設け、その上に種々の層を形成する際に、絶縁層のエッジの段差に起因して生じる上層の欠陥の解消を図り、段差を少なくした基板およびその製造方法を提供することを課題とする。
【解決手段】基板２上に電極層および絶縁層３が順次積層された積層構造において、絶縁層３の端部から１００μｍ以内の縁部における最大厚みを５μｍ以下とすることにより、また、このため、基板上の絶縁層積層予定区域の外側に接する非予定区域に、絶縁層よりも薄いマスキング層を積層し、マスキング層上も含めて絶縁層形成用組成物を塗布し、固化する以前に、マスキング層ごと除去することにより、課題を解決することができた。 （もっと読む）