【課題】繰り返し操作をすることなく、簡単な工程で、断線しているパターン（配線）の欠陥部に対して、均一な膜厚の修正層を形成し、修正部の電気抵抗をより低くすることが可能なパターン修正方法を提供する。
【解決手段】基材の一方の主表面上に低融点金属からなる金属膜を、パターン（配線）の欠陥部に密着させた状態でレーザ光を照射して、転写部材の金属膜と、配線を形成する金属膜との密着境界面でそれらの合金層を形成して固着させる。また、配線を形成する金属膜が欠落した部分においては、その表面に露出したガラスあるいはシリコンオキサイドとの間で界面反応を起こして強固に固着させて、配線の欠陥部を修正する。 （もっと読む）

【課題】プラズマディスプレイパネルを流れる駆動電流に起因する電磁妨害波を低減することができるプラズマディスプレイ装置を提供すること。
【解決手段】複数の互いに平行な電極を持つプラズマディスプレイパネルと、前記電極に電圧を印加する駆動回路基板と、前記プラズマディスプレイパネルを保持し、かつ、前記駆動回路基板のグラウンドが接続されるシャーシ導体と、前記シャーシ導体と絶縁層を介して設けられ、前記駆動回路基板以外の回路基板のうち少なくとも１つ以上の回路基板のグラウンドが接続される第１追加導体板と、を備える。 （もっと読む）

【課題】耐久性を向上させることが可能な電気化学表示装置を提供する。
【解決手段】この電気化学表示装置は、ガラス基板２の所定面２ａ上に形成された画素電極６と、ガラス基板２および３の間に配置されているとともに、光変調物質が含有されている電解質層１とを備えている。そして、画素電極６は、表示領域２０内にエッジ部６ａを有しており、その画素電極６の表示領域２０内のエッジ部６ａを覆うように、ガラス基板２の所定面２ａ上に感光性の絶縁膜７が形成されている。 （もっと読む）

【課題】有機ＥＬ素子を構成する各有機物層や駆動回路への熱的ダメージを低減しつつ、有機ＥＬ素子が設けられた基板と、電極とを、高い寸法精度で強固に接合し得る発光装置の製造方法、かかる発光装置の製造方法により製造された特性に優れる発光装置、および信頼性の高い電子機器を提供すること。
【解決手段】本発明の発光装置の製造方法は、複数の陽極３が設けられた基板２０上に、シリコーン材料を含有する液状材料を、各陽極３を区画するように供給した後、乾燥することにより隔壁部３１を形成する工程と、隔壁部３１によって区画された各陽極３上に、正孔輸送層４および発光層５を形成する工程と、隔壁部３１の少なくとも一部の領域にエネルギーを付与することにより、隔壁部３１の表面付近に接着性を発現させ、隔壁部３１に発現した接着性によって、隔壁部３１と上基板９に設けられた陰極６とを接合する工程とを有する。 （もっと読む）

【課題】基板上に形成された２層のアモルファスシリコン層のレーザアニール時の干渉を低減する方法を提供する。
【解決手段】基板１上の第１のアモルファスシリコン層をパターニングし第１の活性層を基板１上に形成する。次いで、第１の絶縁層４が前記第１の活性層及び前記第１の活性層で覆われていない基板１の一部の上に形成される。次に、第２のアモルファスシリコン層が前記第１の絶縁層４の上に形成される。レーザーアニール工程が遂行され、第１のアモルファスシリコン層を微細結晶シリコン層７に結晶化させ、第２のアモルファスシリコン層をポリシリコン層６に結晶化させる。ポリシリコン層をパターニングすることにより、第１の活性層で覆われていない基板１の一部上に第２の活性層が形成される。良好な結晶の均一性を有する微細結晶シリコン層７は、ＯＬＥＤディスプレイにディスプレイ領域にＴＦＴの活性層として機能する。 （もっと読む）

【課題】確実なレーザリペアを可能とする構造のアレイ基板を備えた表示装置を提供することを目的とする。
【解決手段】複数の画素によって構成されたアクティブエリアを備えた表示装置であって、
アクティブエリアにおいて、絶縁層を介して互いに交差するように配置されたゲート線Ｇ及びソース線Ｓと、
各画素に配置され、ゲート線及びソース線と接続されたスイッチング素子２２０と、
スイッチング素子に重なるように配置された有機絶縁膜２４０と、
各画素に配置され、スイッチング素子に接続された表示電極２３０と、
を備え、
有機絶縁膜は、ソース線とスイッチング素子との接続部ＳＳの上、ゲート線とソース線とのＧＳ交差部を挟んだ両側に位置するゲート線の上、及び、ＧＳ交差部を挟んだ両側に位置するソース線の上の少なくとも１つに重ならないパターンに形成されたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】特性の向上を図ることのできる半導体装置（アレイ基板）の構成を提供する。
【解決手段】本発明に係る半導体装置は、基板上の下地絶縁膜上に形成された複数の薄膜トランジスタ（Ｔ）を有する半導体装置であって、前記複数の薄膜トランジスタは、前記下地絶縁膜（１５）上に形成された複数の半導体膜（１７）と、前記複数の半導体膜上にゲート絶縁膜（１９）を介してそれぞれ形成された複数のゲート電極（Ｇ）と、を有し、前記下地絶縁膜は、前記複数の半導体膜の少なくとも１つを含む領域に分割して形成されている。かかる構成によれば、下地絶縁膜を全面ではなく、半導体膜を含む領域に分割したので、下地絶縁膜へのクラックの発生を低減でき、その上部に形成される薄膜トランジスタの特性を向上させることができる。また、装置の生産性を向上させることができる。 （もっと読む）

【課題】液晶装置等の電気光学装置において、配向膜の付きまわりを向上させて、高品質な画像を表示する。
【解決手段】電気光学装置は、基板（１０）と、前記基板上に形成されており、前記基板の面に対して、所定角度で切り立った側面（９ｈ）を夫々有する複数の画素電極（９ａ）と、前記基板上で平面的に見て、前記複数の画素電極の各々の周囲を少なくとも部分的に囲うように、前記側面に沿って形成されており、前記所定角度より緩やかな勾配を有する側壁（２１０）と、前記複数の画素電極上に形成された配向膜（４００）とを備える。 （もっと読む）

【課題】色純度の良い表示装置用後方発光パネルを提供する。
【解決手段】本発明は、画面の色再現範囲と色純度を向上させることができる表示装置を提供する。表示装置は映像を表示する表示パネルと、表示パネルに光を提供する発光パネルを含む。発光パネルは互いに対向配置される第１基板および第２基板と、第１基板の内面に位置し、電子放出部と駆動電極を含む電子放出ユニットと、第２基板の内面に位置し、アノード電極と蛍光層を含む発光ユニットと、第２基板の内面と外面のうちいずれか一面に形成されて４８０ないし５００ｎｍ波長帯と５８０ないし６００ｎｍ波長帯の光を選択的に吸収するフィルター層とを含む。 （もっと読む）

回路素子を含む電子基板と、電子基板を覆って配置されたウェル画定用ダブルバンク構造と、ウェル画定用ダブルバンク構造によって画定されたウェルに配置された有機半導体材料とを含む電子デバイス。ウェル画定用ダブルバンク構造は、絶縁材料からなる第１層およびこれを覆う絶縁材料からなる第２層を含み、絶縁材料からなる第２層が絶縁材料からなる第１層より低い濡れ性を有する。
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ａ） 透明支持体を用意する工程；ｂ） 少なくとも４つの異なる色パターンを有する多色マスクを形成する工程；そしてｃ） 第１導体、誘電体、半導体、及び第２導体を含む少なくとも４つのパターン化された機能材料層を有する画素回路の集積化された電子構成部品を形成する工程を含み、各パターン化された機能材料層が、該多色マスクの前記４つの異なる色パターンに対応する、画素回路を形成する方法を開示する。この機能材料は各色パターンに対応するフォトパターンを用いてパターン化される。
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【課題】ノイズを減少させることができる印刷回路基板及びその製造方法、並びにそれを具備する表示装置を提供する。
【解決手段】第１接地パターンを含む第１パターン構造と、第１配線パターンと該第１配線パターンと電気的に絶縁された第２接地パターンとを含み、前記第１パターン構造の上部に形成される第２パターン構造と、第３接地パターンと前記第３接地パターンと電気的に絶縁された第２配線パターンとを含み、前記第２パターン構造の上部に形成される第３パターン構造と、第４接地パターンを含み、前記第３パターン構造上に形成される第４パターン構造とを有し、前記第１配線パターンは、前記第１接地パターンと前記第３接地パターンとの間に形成配置され、前記第２配線パターンは前記第２接地パターンと前記第４接地パターンとの間に形成配置される。 （もっと読む）

【課題】有機ＥＬ素子を封止する無機物層を含む被膜を形成するときに、有機ＥＬ素子に与えるダメージを抑えることができる有機ＥＬ装置の製造方法を提供すること。
【解決手段】基板１０上に、少なくとも一方が透明または半透明の一対の電極間に発光層を含む有機ＥＬ層２２を挟んで構成した有機ＥＬ素子２０と、有機ＥＬ素子２０に接する少なくとも１層の無機物膜を含み、有機ＥＬ素子２０を封止する封止層３０と、を形成する際に、封止層３０中の有機ＥＬ素子２０に接する第１の封止膜３１を対向ターゲット式スパッタ法で形成し、封止層３０中の他の無機物膜を対向ターゲット式スパッタ法以外の他の成膜方法で形成する。 （もっと読む）

【課題】自動車の構造要素に装着される電子デバイスを提供する。
【解決手段】電子デバイスの２つの電子コンポーネント１と２を、伸縮性のコネクタ３を介して電気的に接続する。コネクタ３には、導電ブレード４を設け、この導電ブレード４の両端部７，８と、電子コンポーネントの接続パッド16,17との接触状態を保持する。この電子デバイスには、伸縮性コネクタ３の圧縮状態を推定しうる手段を設ける。 （もっと読む）

【課題】簡単な工程で、安定した性能が得られるＴＦＴの製造方法を提供する。
【解決手段】ゲート電極層およびソース・ドレイン電極層の少なくともいずれか一方が形成された基板の上に成膜された感光性樹脂膜をフォトリソグラフィ法により所定のパターン形状に加工するパターンニング工程と、所定のパターン形状に形成された感光性樹脂膜の所定の領域部分を除去せず残留させ、後工程で用いるリフトオフレジストとするリフトオフレジスト形成工程と、リフトオフレジスト形成工程の後に、ソース電極およびドレイン電極に接合するように半導体膜を成膜し、該半導体膜および前記リフトオフレジストが形成された前記基板を覆うように半導体保護膜を成膜する保護膜成膜工程と、リフトオフレジストの上に成膜されている半導体保護膜を除去する保護膜除去工程と、を有する。 （もっと読む）

【課題】表示装置内に残存する水分の拡散を防止するだけでなく、パネル外部からの水や酸素の浸入を防止する表示装置を提供する。
【解決手段】支持基板１０上に有機ＥＬ素子Ａを配列形成してなる表示領域１Ａと、当該表示領域１Ａの周囲における支持基板１０上に有機ＥＬ素子Ａの駆動回路を設けてなる周辺領域１Ｂとを備え、対向基板３０により封止樹脂２０を介して有機ＥＬ素子Ａを封止してなる表示装置において、駆動回路が形成された支持基板１０上には、有機絶縁膜１２が表示領域を囲む位置に有機絶縁膜１２を分断する分離溝Ｂを有した状態で設けられているとともに、対向基板３０上には、分離溝Ｂに対向する位置に枠状の突出部３１が設けられており、突出部３１は、分離溝Ｂ内に封止樹脂２０を介して挿入されていることを特徴とする表示装置とその製造方法である。 （もっと読む）

【課題】半導体装置において、今後のさらなる高精細化（画素数の増大）及び小型化に伴う各表示画素ピッチの微細化を進められるように、複数の素子を限られた面積に形成し、素子が占める面積を縮小して集積することを課題とする。
【解決手段】同一基板上に第１のトランジスタと第２のトランジスタを有し、第１のトランジスタは、結晶構造を有する第１の半導体膜と、その上に順に積層して設けられた第１の絶縁膜と、結晶構造を有する第２の半導体膜と、第２の絶縁膜と、第１のゲート電極とを有し、第２のトランジスタは、結晶構造を有する第３の半導体膜と、その上に順に積層して設けられた第１の絶縁膜と、第３の絶縁膜と、第２のゲート電極とを有し、第２の絶縁膜と第３の絶縁膜は同一の材料からなる。 （もっと読む）

【課題】製品の信頼性を向上させるための表示基板とその製造方法、及びこれを具備した表示装置を提供する。
【解決手段】表示基板は、画素電極、パッド部、接着部、及び導電性接着部材を備える。画素電極は、ベース基板の表示領域に形成される。パッド部は、表示領域を取り囲む周辺領域に形成される。接着部は、パッド部と隣接した領域に形成された複数のホールを含む。導電性接着部材はパッド部及び接着部上に形成され、パッド部と集積回路の端子とを電気的に接続する。このように、パッド部と隣接した領域に接着部を形成することにより、パッド部とパッド部に実装される集積回路の端子との結合力を向上させることができる。 （もっと読む）

【課題】狭額縁化の妨げや信頼性の低下を生ずることなく、シール材に起因する品質不良の発生を抑制する。
【解決手段】本発明の一態様に係る表示装置の製造方法は、駆動素子基板９１上に配線パターンを形成し、配線パターンを覆うように絶縁膜を形成し、配線パターン上の絶縁膜を選択的に削ることより、第１基板と配線パターンとの段差を平坦化し、絶縁膜上にシール材４０を配設し、駆動素子基板９１と対向するように対向基板９２を配置して、シール材４０により駆動素子基板９１と対向基板９２とを貼り合わせる。 （もっと読む）

【課題】電極間分離膜と第二電極分離用隔壁の密着性を向上させ、陰極ラインの短絡等の不具合を防止する。
【解決手段】透明支持基板上に形成された色変換フィルター層と、その上に形成されたバリア層と、バリア層上に形成された、第一電極と、電極間分離膜と、第二電極分離用隔壁とを有し、当該第一電極に対向配置された第二電極と、前記第一電極と第二電極の間に配置された有機ＥＬ層とを備え、前記電極間分離膜は画素領域と、第二電極の引き出し線の接続部位と引き出し線と外部駆動回路との接続部位を除く領域とを被覆しており、その電極間分離膜の上に炭素層を有することを特徴とする有機ＥＬディスプレイ、及び、色変換フィルター層形成工程と、バリア層形成工程と、このバリア層の上に、第一電極と、電極間分離膜と、第二電極分離用隔壁と炭素膜とを形成する工程と、有機ＥＬ層形成工程と、該有機ＥＬ層上に第二電極を形成する工程を有することを特徴とする有機ＥＬディスプレイの製造方法。 （もっと読む）