【課題】ガラス板と、金属板と、該ガラス板及び該金属板を接着する粘着性シートとを含む構成体を、簡単な設備を用いて少ないエネルギーで安全に解体できる解体方法を提供する。
【解決手段】ガラス板３と、金属板１と、該ガラス板３及び該金属板１を接着する粘着性シート２とを含む構成体の解体方法であって、赤外線をガラス板３側から照射することを特徴とする、解体方法とする。 （もっと読む）

【課題】画素単位で輝度補正を行うことが可能な表示装置および電子機器を提供する。
【解決手段】表示パネル１０は、複数の画素１１と複数の光センサ（赤用センサ１２Ｒ，緑用センサ１２Ｇ，青用センサ１２Ｂ）とを備え、各画素１１は、赤色発光素子１１０Ｒ，緑色発光素子１１０Ｇ，青色発光素子１１０Ｂのうちのいずれかを含む。赤用センサ１２Ｒは赤色光、緑用センサ１２Ｇは緑色光、青用センサ１２Ｂは青色光をそれぞれ選択的に受光可能である。赤用センサ１２Ｒ，緑用センサ１２Ｇ，青用センサ１２Ｂでは、互いに異なる画素１１から発せられた色光を混在して受光しにくくなり、画素１１毎の発光に基づく受光信号を取得し易くなる。 （もっと読む）

【課題】部品削減を図ることができる表示装置及び電子機器を得る。
【解決手段】一つの形態に係る電子機器は、筐体と、前記筐体に収容された支持部と、前記支持部に取り付けられた回路基板と、前記回路基板と接した介在部と、絶縁部とを具備する。前記絶縁部は、前記介在部を間に介在させた位置で前記回路基板に面した第１部分と、前記介在部から伝わる前記回路基板からの押圧の力により変位される部分と、該部分の変位に伴い前記支持部に押し付けられた第２部分とを有する。 （もっと読む）

【課題】高い開口率となる薄膜トランジスタ装置を提供する。
【解決手段】溶液堆積（deposited）によって形成される下側導電性層と、前記下側導電性層の上に設けられかつそれと導電性相互接続を介して１つ以上の絶縁層を通じて電気的に接続されている上側導電性層とを備える電子装置を製造する方法であって、前記相互接続の作成は、下側導電性層と前記１つ以上の絶縁層とを区別する光溶発技術を使って少なくとも下側導電性層の一部へと下向きに延びる孔を前記少なくとも１つの絶縁層に定義する工程、およびその後前記孔に導電性材料を堆積する工程を含むことを特徴とする方法。 （もっと読む）

【課題】ガラスのイオン交換性能と耐失透性を両立させることによって、機械的強度の高いガラスを得ることを技術的課題とする。
【解決手段】本発明の強化ガラス基板は、表面に圧縮応力層を有する強化ガラス基板であって、ガラス組成として、質量％でＳｉＯ_２ ４０〜７１％、Ａｌ_２Ｏ_３ ３〜２１％、Ｌｉ_２Ｏ ０〜３．５％、Ｎａ_２Ｏ １０〜２０％、Ｋ_２Ｏ ０〜１５％を含有すると共に、内部の引っ張り応力が１５〜２００ＭＰａであることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】平板表示装置の上基板に一体として形成されるタッチスクリーンパネル及びその製造方法を提供すること。
【解決手段】透明基板上に結晶質ＩＴＯ（poly-ＩＴＯ）で実現される二重層の第１及び第２検出セルを形成し、前記第１検出セルまたは第２検出セルを接続する接続パターンを、前記第１、２検出セルの交差部上に形成された島状の絶縁層を含む領域上に形成し、前記絶縁層上に形成された接続パターンが非晶質ＩＴＯ（ａ−ＩＴＯ）で実現されるタッチスクリーンパネル及びその製造方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】電極ホール４６における有機ＥＬ材料の成膜不良によるＥＬ素子の発光不良を改善することを課題とする。
【解決手段】上記課題を達成するために、本発明では画素電極上の電極ホール４６に絶縁体を埋め込み、保護部４１ｂを形成させた後、有機ＥＬ材料を成膜することで、電極ホール４６における成膜不良を防ぐことができる。これにより、ＥＬ素子の陰極、陽極間の短絡により電流集中が生じるのを防ぎ、ＥＬ層の発光不良を防ぐことができる。 （もっと読む）

【課題】液晶装置等の電気光学装置において、高密度な保持容量及びＴＦＴに対する高い遮光性能を実現する。
【解決手段】電気光学装置は、基板（１０）上に画素毎に設けられた画素電極（９ａ）と、基板と画素電極との間に画素電極に対応して設けられたトランジスタ（３０）と、画素電極とトランジスタとの間に設けられ、画素電極及びトランジスタに電気的に接続された第１容量電極（７１）と、画素電極と第１容量電極との間に、容量絶縁膜（７５）を介して第１容量電極と対向配置されており、所定の電位が供給される第２容量電極（７２）と、画素電極と第２容量電極との間にトランジスタと少なくとも部分的に重なるように設けられ、第２容量電極との間に配置された絶縁膜に開孔されたコンタクトホールを介して第２容量電極に電気的に接続される遮光膜（２００）とを備える。 （もっと読む）

【課題】効果的に不純物がドーピングされた多結晶シリコン膜をキャパシタの電極として使用した有機発光表示装置を提供する。
【解決手段】本発明の実施形態に係る有機発光表示装置は、基板本体と、前記基板本体上の同一層に形成され、それぞれ不純物がドーピングされた多結晶シリコン膜を含む半導体層及び第１キャパシタ電極と、前記半導体層及び前記第１キャパシタ電極上に形成されたゲート絶縁膜と、前記ゲート絶縁膜を介在して前記半導体層上に形成されたゲート電極と、前記ゲート絶縁膜を介在して前記第１キャパシタ電極上に形成され、前記ゲート電極と同一層に形成された第２キャパシタ電極とを含む。前記第２キャパシタ電極は、相対的に厚い厚さを有する電極凸部と、相対的に薄い厚さを有する電極凹部とを含む。前記第２キャパシタ電極の電極凹部は前記ゲート電極より相対的に薄い厚さを有する。 （もっと読む）

【課題】反射型液晶表示装置において、隣接する画素間にあって、画素電極が設けられていない間隙は、画素に占める表示領域の割合、所謂開口率の低下を招く。その結果、表示画像のコントラスト、及び明るさが損なわれてしまうという問題があった。表示画像のコントラストが高く、また表示画像が明るい液晶表示装置を提供することを課題とする。
【解決手段】液晶表示装置の画素電極の端部を、隣接する画素電極の端部に絶縁層を挟んで重ねて設け、隣接する画素間にある間隙を狭め、画素に占める表示領域の割合を高めればよい。 （もっと読む）

【課題】観察者が３次元画像を容易に、違和感無く観察できることを可能とする撮像装置付き画像表示装置を提供する。
【解決手段】撮像装置付き画像表示装置は、（Ａ）発光素子を含む画素を複数配置して成り、３次元画像を表示する画像表示部１０、（Ｂ）画像表示部１０に設けられた光透過領域３０、（Ｃ）画像表示部１０の背面側に配置された撮像装置２０、（Ｄ）光透過領域３０を通過した光を撮像装置２０に集光する集光手段２１、並びに、（Ｅ）撮像装置２０を介して取得された画像データに基づき、観察者の位置情報を求める位置検出手段７１を有する。 （もっと読む）

【課題】感圧センサを設けること無く、ポインティグデバイスの機能を付加することができる撮像装置付き画像表示装置を提供する。
【解決手段】撮像装置付き画像表示装置は、（Ａ）発光素子を含む画素を複数配置して成る画像表示部１０、（Ｂ）画像表示部１０に設けられた光透過領域３０、（Ｃ）画像表示部１０の背面側に配置された撮像装置２０、（Ｄ）光透過領域３０を通過した光を撮像装置２０に集光する集光手段２１、並びに、（Ｅ）撮像装置２０を介して取得された画像情報に基づき、被写体の位置情報を求める位置検出手段７１を有する。 （もっと読む）

【課題】小型の液晶表示装置において、表示画面を所定の値に保ちつつ、外形を小さくする。
【解決手段】液晶表示パネルがモールド３０に搭載されている。モールド３０は、導光板９０、および、導光板９０の側面に配置されたＬＥＤ５０等を含むバックライトを収容している。液晶表示パネルにはメインフレキシブル配線基板２０が接続し、モールド３０の背面に延在している。ＬＥＤ５０はＬＥＤ用フレキシブル配線基板６０に搭載されている。メインフレキシブル配線基板２０に搭載され、モールドの背面に配置された電子部品４０とＬＥＤ５０との間には絶縁シート７０を配置し、ＬＥＤ５０と電子部品４０とがショートしないようにしている。電気的な絶縁のために、モールド３０の隔壁を用いず、絶縁シート７０を使用しているので、液晶表示装置の外形を小さくすることが出来る。 （もっと読む）

【課題】静電破壊を防止するとともに装置の薄型化を図り、基板表面の汚れを防止することができる電気光学装置、その製造方法、電子機器を提供する。
【解決手段】入力パネル本体２１と、入力パネル本体２１に対向して配置された対向基体２２と、入力パネル本体２１と対向基体２２との間に配置され、入力パネル本体２１と対向基体２２のうち少なくとも一方に設けられた配線２３，２４と、入力パネル本体２１と対向基体２２との間に配置されるとともに、入力パネル本体２１と対向基体２２とを、配線２３，２４の少なくとも一部が露出した状態で接着固定する接着部材３０と、入力パネル本体２１と対向基体２２との間に配置され、配線２３，２４の露出した部位全体を覆って設けられた絶縁部材３１と、を有する。 （もっと読む）

【課題】液晶装置等の電気光学装置において、例えば基板上の積層構造における最上層側の段差を低減し、高品位な画像を表示する。
【解決手段】電気光学装置は、基板上の画素領域に設けられ、所定の形状にパターニングされた透明電極（９）と、透明電極の下地となる絶縁膜（４５）と、この絶縁膜上における画素領域のうち透明電極が形成された透明電極形成領域を除く透明電極非形成領域に設けられ、透明電極の上層側表面と絶縁膜の上層側表面との段差を低減するための段差低減膜（６１０）と、基板上の積層構造における透明電極及び段差低減膜と絶縁膜との間に基板上で平面的に見て絶縁膜に重なるように形成され、透明電極の屈折率と絶縁膜の屈折率との間の屈折率を有するエッチングストッパー膜（７１０）とを備える。 （もっと読む）

【課題】絶縁層による光透過率の低下を防止することができる表示装置及びその製造方法を提供する。
【解決手段】表示装置は、第１基板１１０上に位置する第１絶縁層１１６と、第１絶縁層１１６上に位置する下部電極１１８ｂと、下部電極１１８ｂの上面及び側面を囲むように形成された誘電体層１２０ａと、誘電体層１２０ａ上に位置する上部電極１２２ａと、を備える。第１絶縁層１１６は、誘電体層１２０ａに対してエッチング選択比を有してもよい。第１絶縁層１１６は、シリコン酸化物を含み、誘電体層１２０ａは、シリコン窒化物を含んでもよい。 （もっと読む）

【課題】薄膜トランジスタ及びＭＯＳ（Ｍｅｔａｌ−Ｏｘｉｄｅ−Ｓｅｍｉｃｏｎｄｕｃｔｏｒ）構造のキャパシタを備える平板表示装置及びその製造方法を提供する。
【解決手段】第１領域の基板上に半導体で形成された活性層と、第２領域の基板上に半導体で形成された下部電極と、活性層及び下部電極を含む上部に形成された第１絶縁層と、活性層上の第１絶縁層上に第１導電層及び第２導電層で形成されたゲート電極と、下部電極上の第１絶縁層上に第１導電層で形成された上部電極と、ゲート電極及び上部電極を含む上部に形成され、活性層及び上部電極が露出するようにパターニングされた第２絶縁層と、露出した活性層に接続されるソース電極及びドレイン電極とを備える。 （もっと読む）

【課題】 有機保護膜と無機保護膜との積層からなる封止構造の表示装置の製造方法において、有機保護膜をウェットプロセスで形成する場合、プロセス誤差によって、表示装置の額縁幅を十分に低減することができない。
【解決手段】 表示装置の表示領域の外周に沿って、前記表示領域の外周と交差する方向に、複数の溝が設けられた領域と、前記溝が設けられた領域の外周に溝の設けられていない領域とを設ける。 （もっと読む）

【課題】例えば液晶装置等の電気光学装置の製造方法において、基板上に精度よく導電層を形成することによって、高品位な画像表示の可能な電気光学装置を製造する。
【解決手段】電気光学装置の製造方法は、基板（１０）上に、導電層（９）を形成する工程と、導電層上に第１の絶縁層（４１）を形成する工程と、第１の絶縁層を部分的に除去することにより導電層が部分的に露出するように開口部（４３）を形成する工程と、第２の絶縁層（４２）を形成する工程と、開口部の内側面に第２の絶縁層が部分的に残存するように、第２の絶縁層を除去する工程と、第１及び第２の絶縁層をマスクとして導電層を部分的に除去する工程とを含む。 （もっと読む）

【課題】遷移金属の酸化物からなる正孔注入層上に、アルカリ溶液を用いるフォトリソグラフィ法にてバンクを形成したときに、正孔注入層の溶解などによるダメージを抑制することを目的とする。それにより、高品質な電子デバイスの製造方法を提供する。
【解決手段】遷移金属の酸化物からなる薄膜上に配置された感光性樹脂膜８２を、フォトリソグラフィプロセスにてパターニングして、有機樹脂層を形成する工程を含む、電子デバイスの製造方法であって、前記フォトリソグラフィプロセスにおいて用いる現像液は、テトラアルキルアンモニウムハイドロオキサイドと、強酸の塩とを含む水溶液であり、かつｐＨが１０．５〜１１．５である、電子デバイスの製造方法を提供する。 （もっと読む）