【課題】 半導体製造装置内などへの設置、配管及び配線接続が容易であり、配管接続による圧力損失を低減し、各モジュールの配置変更を容易に行なうもので、また流体に腐食性流体を使用しても腐食が起こることがなく、流入する流体が脈動していても流量の制御が可能な流体制御装置を提供する。
【解決手段】 本発明の流体制御装置は、超音波を流体中に発信する超音波振動子１２と超音波振動子１２からの超音波を受信し信号を流量計アンプ部６４に出力する超音波振動子１３とを有する流量計センサ部４と、流体の圧力を制御する圧力制御弁５とを有し、流量計センサ部４と圧力制御弁５とが、流体流入口３と流体流出口６とを有するケーシング２内に設置されてなることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 半導体製造装置内等への設置、配管及び配線接続が容易であり、流体に腐食性流体を使用しても腐食が生じない流体制御装置を提供する。
【解決手段】超音波を流体中に発信する第一超音波振動子（１２）と、第一超音波振動子（１２）から発信した超音波を受信し、信号を流量計アンプ部（５８）に出力する第二超音波振動子（１３）とを有する流量計センサ部（４）と、操作圧により流体の流量を調節する調節弁（５）とを具備し、少なくとも流量計センサ部（４）と調節弁（５）とを、流体流入口（３）と流体流出口（６）を有する１つのケーシング（２）内に接続して設置する。 （もっと読む）

【課題】 流体に腐食性流体を使用しても各部品の腐食を防止でき、半導体製造装置内などへの設置および配管や配線接続が容易であり、流入する流体が脈動していても流量の制御が可能な、電気駆動による流体制御装置を提供する。
【解決手段】 本発明の流体制御装置は、電気式駆動部１１と流量制御部５からなる電動制御弁と、超音波を流体中に発信する超音波振動子１８と超音波振動子１９から発信した超音波を受信し信号を流量計アンプ部９に出力する超音波振動子１８、１９を有する流量計センサ部４と、流量計センサ部４の信号によって流量を演算する流量計アンプ部９と、流量計アンプ部９で演算された流量値に基づいて電動制御弁の開度を調整しフィードバック制御するための制御部１０とを具備し、少なくとも流量計アンプ部９と制御部１０と電気式駆動部１１とを具備する電装モジュール７が１つのケーシング８内に設置される。 （もっと読む）

【課題】
多数のポンプ場がある複雑な下水道に通流する下水を平準化させ、終末処理場に送水される下水流入量の変動、使用エネルギー量、運用費用、環境負荷が最小になるように制御するポンプ制御装置を提供する。
【解決手段】
各ポンプの起動停止状態をランダムに設定し（ステップＳ１，Ｓ２）、ＰＳＯ(Particle Swarm Optimization)を用いてポンプ運転計画データを生成し、このポンプ運転計画データにおける目的関数値を算出する。続いて、各エージェントの位置（探索点）を修正して（ステップＳ３）、変更されたポンプ運転計画データによる目的関数値が評価される（ステップＳ４）。以下修正・評価を繰り替えし、最適なポンプ運転計画が立案される。 （もっと読む）

制御装置（３０）は、フローを受け入れるための流入口（３２）；フローをフロー・システムの他の構成要素に導くための流出口（３４）；圧力低減エレメント（３６）；上流の圧力を測定するよう構成された、圧力低減エレメント（３６）の上流の圧力センサ（３８）；下流の圧力を測定するよう構成された、圧力低減エレメント（３６）の下流の圧力センサ（４０）；プロセッサ、メモリ、及び流体の流量を算定しバルブ制御信号を発生させるためのソフトウエア命令を包含させることが可能なコントローラ（４２）；ならびに、バルブ制御信号に反応して流体フローを調節する、ちょう型バルブ、油圧駆動バルブなどのバルブ（４４）を含む。
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【課題】
連続生産において電磁且つ機械特性における出来るだけ僅かな偏差を有する弁を提供すること。
【解決手段】
流体の流量を制御するのに適している電磁制御可能なアクチュエータを製造及び／又は調整する方法と装置は、アクチュエータが励起コイル（９）によって作動できる電磁装備を包含し、これが少なくとも一つの可動アーマチュア（６）を有し、そして電磁装備は機械的にアクチュエータを開閉する弁作動装置に作用し、弁作動装置が少なくとも一つの閉鎖要素（５）、励起コイルが励起されないと閉鎖要素を開放するか、或いは閉鎖するリセット要素と、閉鎖要素がアクチュエータを開放するか、或いは閉鎖するよう作用する弁座（４）を包含し、アクチュエータの少なくとも一つの電磁特性が測定され、測定された電磁特性自体或いは測定電磁特性から導かれた値は調整量を制御する実効値として使用されて、この調整量は直接にアクチュエータを製造或いは調整するよう考慮されることを特徴とする。
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流路に差圧を発生させ、半導体デバイスに用いられるガスの流量を制御する差圧式流量制御器が提供される。差圧発生要素は半導体デバイスの製造に用いられるガスの流路に差圧を発生させ、流路上のバイパスに設置される圧力センサは差圧を検出し、中央処理装置（ＣＰＵ）はガスの流量を測定および制御する。その結果、本発明は、ガスの流量を精密かつ迅速に制御することができるとともに、差圧発生要素自体のフィルタリング機能によってガスの純度を高めることができる。

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【課題】 高精度な汚水流入量の予測を実現しうる汚水流予測制御装置を提供すること。
【解決手段】 汚水ポンプ４を制御することによって汚水の揚水量を制御している汚水揚水計画制御装置において、管理区域からの汚水流量を予測する汚水流入量予測演算部１と、この汚水流入量予測演算部１による演算結果によって汚水揚水量を制御する汚水揚水計画制御部３とを備え、さらに前記汚水流入量予測演算部１では管理区域での人口分布データ、工場の有無等の環境条件及び下水排水設備の状態とを考慮に入れた演算パラメータに基いて汚水流入量の予測を行う。 （もっと読む）