パイロット流体供給源（２０９）とプロセス流体供給源（２２２）とを有する多段式弁システム（２００）が提供される。多段式弁システムは、パイロット流体供給源と連通する第一のポート（２０６）と、この第一のポートと選択的に連通する第二のポート（２０７）と有する第一のパイロット弁（２０１）を備えている。また、多段式弁システムは、第二のパイロット弁（２０２）をさらに備えている。第二のパイロット弁は、プロセス流体供給源と連通する第一のポート（２１３）と、この第一のポートと選択的に連通する第二のポート（２１４）と有しうる。第二のパイロット弁は、プロセス流体供給源と連通する第一の圧力駆動付勢部材（２１７）と、第一のパイロット弁の第二のポートと連通する第二の圧力駆動付勢部材（２１８）とをさらに有している。また、多段式弁システムは主制御弁（２０３）をさらに備えている。主制御弁は、プロセス流体供給源と連通する第一のポート（２２０）と、この第一のポートと選択的に連通する第二のポート（２２１）とを有しうる。また、主制御弁は、プロセス流体供給源と連通する第一の圧力駆動付勢部材（２２５）と、第二のパイロット弁の第二のポートと連通する第二の圧力駆動付勢（２２６）部材とを有しうる。
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【課題】気体の検出圧力と目標圧力との偏差が大きくなった場合に偏差を迅速に小さくすることのできる圧力制御装置および圧力の制御された気体を用いる流量制御装置を提供する。
【解決手段】電空レギュレータ４０は、エアの供給源に接続されるとともに所定周期を有するパルス信号により開閉駆動される給気用電磁弁４３と、電磁弁４３の下流に接続されるとともに所定周期を有するパルス信号により開閉駆動される排気用電磁弁４４とを備える。エア通路３５に導出されるエアの圧力センサ７２による検出圧力を目標圧力にするために、電磁弁４３，４４を各周期において駆動するパルス信号をエアの検出圧力と目標圧力との偏差に基づいてＰＩＤ演算により生成するともに、エアの検出圧力と目標圧力との偏差が判定値以上であることを条件に、電磁弁４３，４４が駆動される周期おいて偏差を小さくするように、ＰＩＤ演算により生成されるパルス信号を変更する。 （もっと読む）

【課題】応答性に優れ、かつ高精度・広範囲に流量を制御することができる流量制御装置を提供する。
【解決手段】流量制御装置１０は、圧力調整手段としてのパイロットレギュレータ２０とその下流側に配置されたエアオペレートバルブ４０とを備えている。エアオペレートバルブ４０は、カバー４１、シリンダ４２、ボディ４３からなる。ボディ４３には吸入通路５８と、排出通路５９と、各通路５８，５９を連通する円形溝６７と、吸入通路５８と円形溝６７とを連通する固定オリフィス６４とが形成されている。吸入通路５８の円形溝６７側端部は弁座オリフィス５８ａとなっており、その開口部周囲は弁座６３となっている。ダイアフラム弁体５５は圧縮コイルバネ４８の付勢力により常時弁座６３に着座されており、圧力制御室５１が操作エアにより加圧されると弁座６３から離れる。 （もっと読む）

【課題】検出手段の取付精度による弁開度の個体差を減少させて、高精度な流量制御を可能にした流量制御弁の制御方法を提供すること。
【解決手段】この流量制御弁１の制御方法では、ピストン２２が、弁閉に到達したことをオンからオフになること又はオフからオンになることで検出する検出手段２５を設け、検出手段２５がオンからオフになった又はオフからオンになったときの操作信号値と基準原点に対応する操作信号値との差を個体差値とし、基準曲線を、個体差値によって補整する。 （もっと読む）

【課題】第１及び第２ポートを通じて弁ボディを流通する流体の流量を高精度に制御する。
【解決手段】処理室３７に接続される第１ポート１２と真空ポンプ３９に接続される第２ポート１４とを有する弁ボディ１６には、前記第１ポート１２に臨む内壁面に第１弁体３０が着座する第１弁座部３２が形成され、前記第１弁座部３２より半径外方向に第２弁体３４が着座する第２弁座部３６が形成されている。そして、ガイドボディ２２の内部に設けられたピストン２０を圧力流体によって変位させることにより、第２弁体３４が第２弁座部３６より離間して第１弁体３０と第１弁座部３２との間を通じて流体が流通し、駆動部２４による駆動作用下に第１弁体３０と第１弁座部３２との間の離間距離を変化させることにより、前記第１ポート１２から第２ポート１４へと流通する流体の流量を制御している。 （もっと読む）

【課題】 可変オリフィス部での騒音の発生の抑制が可能な圧力補償付きの流量制御弁を提供する。
【解決手段】 流量制御弁１は、流体の流路２０に上流側から順に、軸方向に移動可能に支持されつつバネ３５によって一端へ向けて付勢され可変オリフィス部Ｅを形成するための互いに段差端面３０ｄを介して連続する大径軸部３１及び小径軸部３２を有するバランスピストン３０と、絞り弁４０とを備えて成る。バランスピストン３０が、バネ３５の反発力Ｋ及び絞り弁４０の下流の流体の圧力Ｐ３を一端へ向けて受けるとともに、バランスピストン３０の下流且つ絞り弁４０の上流の流体の圧力Ｐ２を他端へ向けて受けることで軸方向に釣り合いながら移動し、大径軸部３１の周囲から小径軸部３２の周囲に至る可変オリフィス部Ｅの開口隙間が調整される。大径軸部３１が小径軸部３２へ向けて１段縮径された縮径軸部５０を有する。 （もっと読む）

【課題】流体の圧力等の条件変動の影響を受けにくい流量制御を実現する。
【解決手段】 流体流制御装置５は、装置に流体を流入させるための注入口１２０と、装置から流体を流出させるための排出口１２５を含んでいる。この装置は、流体を受け取ってその流体を制御された圧力で送出するように構成された圧力調整部１５も含んでいる。更に、圧力調整部により送出された流体を受け取って、その流体を制御された流量で送出するように構成された流量制御弁調節部を更に含んでいる。更に、流体の流量を測定するように構成された流量計２５と、少なくとも流量計により測定された流量に従って少なくとも流量制御弁調節部を制御する制御装置１１５とを含んでいる。本装置は、流体を半導体処理工具に流入させるため及び／又は複数の流体を配合するために使用される。 （もっと読む）