【課題】照射されたレーザー光を吸収し、均一な発熱を生じて安定したレーザー溶着をおこない、接合溶着部分が透明性を保持できるレーザー溶着用光吸収樹脂組成物、および、光吸収樹脂成形体を提供する。
【解決手段】３０℃以上のガラス転移温度を持つ高分子分散剤と、レーザー光吸収微粒子とを含有するレーザー溶着用光吸収樹脂組成物であって、当該レーザー光吸収微粒子が、一般式ＳｒＶＯ_３−Ｘ（但し、０≦Ｘ≦１）で表記されるメタバナジン酸ストロンチウム、一般式Ｓｒ（Ｔｉ，Ｎｂ）Ｏ_３−Ｘ（但し、０≦Ｘ≦１）で表記されるニオブチタン酸ストロンチウム、一般式ＣａＶＯ_３−Ｘ（但し、０≦Ｘ≦１）で表記されるメタバナジン酸カルシウムの群から選択される１種以上の微粒子であることを特徴とするレーザー溶着用光吸収樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、極めて高いバリア性能をもち、かつ経時安定性に優れたバリア性フィルムを安価に製造するための製造方法を提供すること、およびその方法により製造されたガスバリア性フィルムを用いた、極めて耐久性の高い有機光電変換素子や有機ＥＬ素子の様な有機電子デバイスを提供することにある。
【解決手段】樹脂基板の少なくとも一面上に、ポリシラザン骨格を有するシリコン化合物層を設け、該シリコン化合物層を少なくとも波長２００ｎｍ以下の真空紫外光を照射することにより改質して酸化ケイ素または酸窒化ケイ素からなるガスバリア性層を成膜するガスバリア性フィルムの製造方法に於いて、特定の式１を満足する条件でガスバリア性層を成膜することを特徴とするガスバリア性フィルムの製造方法。 （もっと読む）

【解決手段】以下の工程（１）〜（３）を以下に記載の順で含むことを特徴とするマイクロレンズの形成方法。（１）カルボキシル基を有する構造単位（ａ１）及びフェノール性水酸基を有する構造単位（ａ２）を有する重合体（Ａ）とキノンジアジド化合物（Ｂ）とを含有する感放射線性組成物の被膜を基板上に形成する工程、（２）該被膜に、グレースケールマスクを介して放射線を照射する工程、（３）放射線照射後の被膜を現像する工程。
【効果】本発明のマイクロレンズの形成方法によれば、グレースケールリソグラフィー法によって、グレースケールマスクの開口率のわずかな変化に対して残膜率を大きく変化させることなくマイクロレンズを形成することができる。このため、微細なマイクロレンズやマイクロレンズアレイを精密に形成することが容易であり、マイクロレンズ製造の簡易化、効率化を図ることができる。 （もっと読む）

【課題】高光沢の加飾シートにおいて、インサート成形、射出成形同時加飾等の３次元成形後も表面平滑性及び艶が保持され、意匠感が維持され、かつ、ロールに巻き取った場合であっても、異物を巻き込むことによる表面の凹みや傷が生じにくく、表面と裏面が互いに密着することによる擦り傷やシワが生じにくい加飾シート及びその製造方法を提供する。
【解決手段】基材上に意匠層と、電離放射線硬化性樹脂組成物を架橋硬化してなる表面保護層とをこの順に有する加飾シートであって、該表面保護層の表面が平滑であり、該加飾シートの裏面に、バインダー樹脂１００質量部に対して界面活性剤０．０１〜１質量部を含有する樹脂組成物より形成されてなる厚さ０．０１〜５μｍの帯電・ブロッキング防止層を有することを特徴とする加飾シート及びその製造方法。 （もっと読む）

【課題】塗布対象物に接着剤の塗布膜を所望する膜厚で形成する。
【解決手段】半導体装置の製造装置１は、塗布対象物Ｗの塗布面に紫外線を照射する照射部５と、照射部５により紫外線が照射された塗布面に接着剤を塗布する塗布部６とを備え、照射部により紫外線が照射された塗布面に接着剤を塗布する。また前記塗布対象物を支持するハンドを有し、前記ハンドにより前記塗布対象物を搬送する搬送部をさらに備え、前記照射部は、前記搬送部により移動する前記塗布対象物の前記塗布面に前記紫外線を照射する。前記照射部は、前記紫外線を発生させるランプと、前記ランプによって発生する前記紫外線の光量を検出する検出器と、前記検出器によって検出された前記紫外線の光量に基づいて前記塗布面に対する照射光量を設定値に維持するように調整する調整手段とを具備する。 （もっと読む）

【課題】ナノ凹凸構造による反射防止機能を示すと共に、高い耐擦傷性、特にＪＩＳ Ｋ５６００−５−４に準じた鉛筆硬度試験で３Ｈ以上を示す積層体を提供する。
【解決手段】透明基材上に中間層を介して表層が積層された積層体であって、中間層の厚さが８〜４０μｍであり、表層の厚さが中間層の厚さの０.４〜１.５倍であり、中間層のｔａｎδ（損失正接）が２０℃、１Ｈｚにおいて０.２以上である積層体。特に、表層がナノ凹凸構造を有する層であり、また中間層は、圧縮破壊応力が２０ＭＰａ以上であり、圧縮率２０％における圧縮応力が１〜２０ＭＰａであり、圧縮後に応力を解放した場合元の厚さの９０％以上に戻る樹脂によって構成されていることが好適である。 （もっと読む）

【課題】塗装工程における加熱温度の低温化及び加熱時間の短縮が可能であり、さらに耐擦り傷性及び耐候性に優れる塗膜を得ることができる塗料組成物を提供する。
【解決手段】カプロラクトン変性ヒドロキシアルキル（メタ）アクリレートとポリイソシアネート化合物とを反応してなり、３００〜３，８００の範囲のイソシアネート当量を有するラジカル重合性不飽和基含有化合物（Ａ）、及び（Ａ）成分以外のラジカル重合性不飽和基含有樹脂（Ｂ）を含有する塗料組成物及び塗膜形成方法。 （もっと読む）

【課題】基材、特にプラスチック材料との付着性に優れ、しかも耐候性、耐擦り傷性に非常に優れた複層塗膜を形成しうる複層塗膜形成方法、及び該複層塗膜を有する塗装物品を提供する。
【解決手段】基材上に、光及び熱硬化性下塗り塗料組成物（Ｉ）を用いて下塗り塗膜を形成した後、その上に、ケイ素原子に直接に結合した有機基を有するシルセスキオキサン化合物であって、前記ケイ素原子に直接に結合した有機基の少なくとも１つがウレタン結合及び１つの（メタ）アクリロイルオキシ基を有する有機基であるシルセスキオキサン化合物（ａ）、及び光重合開始剤（ｂ）を含有する活性エネルギー線硬化型上塗り塗料組成物（II）を用いて上塗り塗膜を形成することを特徴とする複層塗膜形成方法。 （もっと読む）

【課題】加飾シートの耐薬品性及び三次元成形性と、プライマー層の転写性とを鼎立し得る加飾シートの製造方法、加飾シート及びそれを用いてなる加飾樹脂成形品を提供する。
【解決手段】剥離フィルム１１上にプライマー層１２を形成する工程（ａ）と、少なくとも該プライマー層を基材１４上に転写する工程（ｂ）と、該剥離フィルムを剥がす工程（ｃ）と、該基材上に形成された該プライマー層上に電離放射線硬化性樹脂組成物を積層する工程と、該電離放射線硬化性樹脂組成物を架橋硬化して表面保護層１５を形成する工程（ｄ）とを含む加飾シート１０の製造方法であって、さらに該プライマー層が、少なくともアクリルポリオール及びイソシアネートを含有するプライマー組成物を用いて形成されてなることを特徴とする加飾シートの製造方法、及び前記製造方法により形成されてなることを特徴とする加飾シート、並びに該加飾シートを用いてなる加飾樹脂成形品。 （もっと読む）

【課題】石油資源に対する依存度が少なく、層と層との間の界面剥離がない、酸素バリア性および水蒸気バリア性を同時に有するセルロースナノファイバー積層体を提供する。
【解決手段】少なくともセルロースナノファイバーからなるセルロースナノファイバー積層体の製造方法は、基材の少なくとも一方の面に、カルボキシル基を有するセルロースナノファイバーを含む分散液を塗布して、積層体を形成する工程と、該積層体に荷電粒子線を照射する工程とを備える。 （もっと読む）