【課題】ＣＣＩＭ法を用いて、健全な長尺の鋳塊を安定して製造することができる長尺鋳塊の溶解製造方法を提供することを課題とする。
【解決手段】溶湯４を芯金用鋳型９に注湯して軸状の芯金鋳塊１を作製する第一工程と、溶湯４を棒状原料鋳型１０内に立設した芯金鋳塊１の周囲に複数回に分けて注湯することで棒状原料２を作製する第二工程と、るつぼ底６が上下方向に移動自在に形成された水冷銅製るつぼ５内に棒状原料２を装入して誘導加熱で溶解し下方に引き抜くことで、その引抜方向の長さが直径に対して１．５倍以上の長尺鋳塊３を製造する第三工程とよりなる。 （もっと読む）

【課題】Ｔｉなどからなる鋳塊を良好な鋳肌にして確実に造塊できるＴｉ、Ｔｉ合金、またはＴｉＡｌの造塊方法、およびこれに用いられる造塊装置を提供する。
【解決手段】Ｔｉ、Ｔｉ合金、またはＴｉＡｌを溶解し且つこれらの溶湯Ｍ１を炉底４の出湯ノズル６から出湯させる誘導溶解炉２と、係る誘導溶解炉２の下方に配置され、当該溶解炉２に対して相対的に下降可能とされた鋳型１０と、上記溶解炉２の炉底４付近から上記鋳型１０の内側に垂下されたＴｉなどの金属製のパイプ８と、を含み、上記鋳型１０は、油圧シリンダ１６上端のテーブル１２上に支持されている、Ｔｉ、Ｔｉ合金、またはＴｉＡｌの造塊装置１。 （もっと読む）

【課題】モールドを基板から取り外すことなく、また、モールドを破損または破壊することなく、基板に装着された複数のモールドから複数の金属燃料成型体を一挙に容易に取り出すことのできる、金属燃料成型体を製造するための射出成型装置を提供すること。
【解決手段】両端に開口部を有する筒状のモールド２と、前記モールド２の上端側の開口部内に挿入することにより、前記モールド２内で固化した金属燃料を前記モールド２から押出可能に形成された押出部材１２を備えると共に前記基板１の上方を覆蓋するように配置された上部蓋体１−１と、 前記モールド２の上端側の開口部内に挿入された前記押出部材１２をさらにモールド２内に進入させる押出部材移動手段（ネジつき締付部材１１）と、 前記基板１と前記上部蓋体１−１との間に形成される空間を気密に封止する伸縮自在の気密封止部材１４とを備えて成ることを特徴とする射出成型装置。 （もっと読む）

【課題】金属材料をキャスティングする方法及びその鋳造装置において、ダイ型空洞部の形状の複雑さが制限されないようにし、また、鋳造品に亀裂が生じるのを回避することにある。
【解決手段】非金属の鋳型を、一つ以上の相対移動可能な第１、第２部材内に設けた鋳型収容のチャンバに配置する工程と、鋳型内の鋳型空洞部と一つ以上の第１、第２部材に設けたゲート通路とを連絡させる工程と、ゲート通路とショットスリーブとを連絡させる工程と、圧力下にある金属材料をショットスリーブからゲート通路を介して非金属の鋳型へ流入させる工程とからなる。 （もっと読む）

【課題】 合金溶湯との反応が少なく、かつ、安価なチタンアルミ合金用鋳型を提供するものである。
【解決手段】 本発明に係るチタンアルミ合金用鋳型４０は、チタンアルミ合金製の鋳造品６０を製造するためのものであって、
鋳型４０を構成する鋳型本体４１のキャビティ表面４３の少なくとも初層４４ａを、酸化セリウムを主成分とする骨材と、少なくともジルコニアゾルを主成分とするバインダで構成されるスラリの焼成物で形成したものである。 （もっと読む）

【課題】鋳造中に半導体融液とＣＯガスの反応を極力防止して、不純物濃度が低く高品質の半導体インゴットを鋳造するのに適した鋳造装置を提供する。
【解決手段】内部に半導体材料又は融液を保持する容器体と、該容器体上方に配置された不活性ガス供給排気機構と、を有してなる鋳造装置において、前記不活性ガス給排気機構は、ガス供給孔及び該ガス供給孔の上方に形成されたガス排気孔とからなることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】不純物濃度の高い領域は凝固点が低下し、周囲の凝固進行に取り残されて固液界面の凹型界面の内部へ不純物が偏析され、不純物濃度が著しく高くなっているため、凝固後の冷却の際に不純物濃度が過飽和となり異物として析出する問題があった。
【解決手段】一部が開放した鋳型内部にシリコン融液を保持しつつ凝固させる凝固工程を備えた多結晶シリコンインゴットの鋳造方法であって、前記凝固工程において、シリコン融液表面温度と融液高さの半分の位置における側面融液温度差を５０℃以上とする。 （もっと読む）

【課題】 保管期間中に充填される不活性ガスが吸湿していても、その影響による融解金属の酸化を防止する。
【解決手段】 不活性ガスの供給状態で坩堝４内の金属を融解し、鋳型６に鋳込む鋳造作業が実行された後、次に鋳造作業が再開されるまでの保管期間中には、チャンバ２内を真空ポンプ４５で排気し、その後、不活性ガスを不活性ガスボンベ５０から封入し、チャンバ２内を無酸素状態に維持する。鋳造作業の再開直前に、チャンバ２内を真空ポンプ４５で排気し、不活性ガスボンベ５０から新たに不活性ガスを供給する鋳造前工程を複数回にわたって繰り返す。 （もっと読む）