【課題】ガラス基板やプラスチックフィルム等の可撓性基板上へ、高精細パターンを潰れの発生せず、平坦性を損なわずに形成する印刷方法を提供するものである。
【解決手段】インキ剥離性のフィルム基材上に、インキ液膜を塗工する工程と、該インキ液膜を予備乾燥し、予備乾燥インキ膜を得る工程と、必要な画像パターンを凹部とした凸版を該予備乾燥インキ膜に押し当て、該予備乾燥インキ膜から不必要な画像パターンを該凸版の凸部に転移させる工程と、該インキ剥離性のフィルム基材上に残された予備乾燥インキ膜による画像パターン上に受像層を塗工する工程と、該受像層を予備乾燥し、予備乾燥受像層膜を得る工程と、該インキ剥離性のフィルム基材上に残された予備乾燥受像層膜を、該予備乾燥インキ膜による画像パターン諸共、目的の被印刷基板表面上へ転写する工程と、を備えることを特徴とする印刷方法である。 （もっと読む）

【課題】印刷ムラ、異物混入が無く、微細な薄膜パターンを製造可能な印刷装置を提供し、特に、この印刷装置を用いることで、非表示画素の無い有機ＥＬ素子の製造方法を提供する。
【解決手段】被印刷基板に微細パターンを印刷する凸版印刷装置であって、少なくとも、凸版を装備して回転する版胴と、前記被印刷基板を載置する基板定盤と、前記凸版の版上にインキを塗布するアニロックスロールと、前記アニロックスロールにインキを供給するためのインキ供給手段を備えた凸版印刷装置において、前記アニロックスロールはその円筒部表面に多数の微細な凹部が並列に彫刻され、且つ、前記円筒部表面に前記インキに対して撥液性の表面処理層が形成されている。 （もっと読む）

【課題】フォトリソ法では、現像処理時に除去される銀ペーストの量が非常に多いし、その回収・再利用工程にコストがかかり、経済性に難点があり、この銀ペーストの利用率の低さが製造コストを上昇させる原因にもなっている。
【解決手段】本発明の印刷物は、複数の印刷パターン線を有する印刷物であって、前記複数の印刷パターン線の各々の線幅が５μｍ〜６０μｍであり、前記複数の印刷パターン線の各々の線高／前記複数の印刷パターン線の各々の線幅が０．５〜２．０である。 （もっと読む）

【課題】印刷により、ストライプ状の従来より幅の広いライン電極を形状精度及び寸法精度良く形成することができるオフセット印刷による電極形成方法を提供する。
【解決手段】版に導電性インクを充填後、ドクターナイフによって余剰な導電性インクを掻き取るドクタリング工程を含むオフセット印刷により、印刷用基材上にストライプ状のライン電極を形成する電極形成方法において、オフセット印刷に用いる版として、形成するライン電極に対応し、版の導電性インクを充填する凹形状のパターン内に、各々が凹形状の複数の彫刻部１１を有し、形成するライン電極の面積に対する彫刻部の合計面積の比率ＴＳ（％）が、７０％≦ＴＳ＜１００％で、かつ、個々の彫刻部の面積Ｓ（μｍ^２）が、０＜Ｓ≦８００００μｍ^２を満足する版、を用いる。 （もっと読む）

【課題】化学強化されたカバーガラス用ガラス基板の表面に直接印刷を施すことが可能で、しかも印刷時のガラス基板の傷発生を防止することが可能な電子機器用カバーガラスの製造方法を提供する。
【解決手段】電子機器に用いられるカバーガラスの製造方法であって、カバーガラス用ガラス基板１の表面に印刷を施す印刷工程を含み、カバーガラス用ガラス基板１の全面に保護膜２を形成する工程と、前記印刷工程の前に、少なくとも印刷を施す領域に相当する前記保護膜２の表面を印刷が可能となるように改質処理する工程とを有する。前記印刷工程では、改質処理された領域のうち前記印刷を施す領域に印刷を施す。 （もっと読む）

【課題】印刷法を用いて有機発光層が形成された有機ＥＬ素子の製造方法について、画素間での膜厚差や膜形状の偏りといった膜不良の発生が少ない、発光ムラの無い有機ＥＬ素子の製造法及び有機ＥＬ素子を提供する。
【解決手段】基板上に画素電極と、隣接する前記が素電極同士をサブピクセルである画素に画定する隔壁と、前記画素に有機化合物からなる有機ＥＬ層の少なくとも一層を凸版印刷法によって、形成してなる有機ＥＬ素子の製造方法において、前記パターニングに用いられる印刷用凸版のパターンがストライプもしくはドットパターンであって、前記パターンの長辺の方向と印刷方向とがなす角度のうち、鋭角θが４５°以上９０°以下である事を特徴とする有機ＥＬ素子の製造方法としたもの。 （もっと読む）

【課題】金属基材のような反射率の高い基材を用いた凸版であっても、良好なエッジ検出ができる版材が得られ、さらには欠陥検査機も併用できることで、安定的かつ高精度の印刷用刷版の管理を行うことを可能とする高精細パターン形成用凸版を提供する。
【解決手段】印刷用凸版１００の樹脂層により形成される凸部パターン１０１と凸部パターン１０１を支持する金属製の基材１０５との間に、少なくとも４００ｎｍから８００ｎｍの波長領域の光を乱反射する層とそれに積層させ１０４の端部及び端面が印刷用凸版１００の端部及び端面から外方に露出しないように覆う光透過層１０３と表面調整剤が付与されている耐油、耐水、あるいは耐溶剤性を持つ層１０２とが順次積層されている層構造を有する。 （もっと読む）

【課題】高品質かつ異物が少ない高分子ＥＬ素子の製造方法を提供する。
【解決手段】高分子ＥＬ素子の製造方法であって、基材上に形成された、少なくとも一方が透明または半透明の２つの電極間に高分子発光材料を含む有機発光層を挟持した高分子ＥＬ素子において、前記有機発光層をロールコート法による塗工または印刷によって形成し、前記塗工または印刷にインキドクターを用い、該インキドクターはゴムロール及びエアーナイフであることを特徴とする高分子ＥＬ素子の製造方法。 （もっと読む）

【課題】反転オフセット印刷のパターンの縁が急峻であるという問題を解決するために、当該印刷に使用する凸版の凸部縁部分の形状を規定した。この凸版に好適なパターン形成方法及び高品質の薄膜トランジスタを提供する。
【解決手段】インク剥離性を有するブランケットにインク液膜を形成する工程と、ブランケット上のインク液膜に凸版を接触させて凸部形状にインク液膜を除去する工程と、残ったインク液膜に基材を接触させてインク液膜パターンを基材に転写させる工程と、を有するパターン形成方法に使用する凸版３であって、該凸版の凸パターンは、凸パターン６の縁の外側に複数の微小凸パターン７を備えることを特徴とする凸版である。 （もっと読む）

【課題】 塗布材を基板上に転写する際に、転写されて塗布材の転写幅を均一にするとともに、このような印刷版の製造を容易にしつつ、生産性の低下を防ぐことができる印刷版および該印刷版を備えた印刷装置を提供する。
【解決手段】 印刷版５０の表面には、所望の画像パターンに対応する複数の版突部５１が樹脂により形成されており、複数の版突部の両端部に位置する両端版突部５１ａの担持面ＳＦが、中央版突部５１ｂの担持面ＳＦよりも大きくなるように形成されている。特に、両端版突部５１ａの担持面の幅Ｄが中央版突部５１ｂの担持面の幅Ｅに対して１．５倍ないし１．７倍の大きさになるように形成されている。 （もっと読む）