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国際特許分類[C01B33/107]の内容

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国際特許分類[C01B33/107]に分類される特許

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【課題】 トリクロロシラン製造装置において、装置全体を大型化しなくても、転換反応に要する長いガス流路が得られ、十分な保持時間と加熱とを得ること。
【解決手段】 テトラクロロシランと水素とを含む供給ガスが内部に供給されてトリクロロシランと塩化水素とを含む反応生成ガスが生成される反応容器1と、加熱機構2と、ガス供給部3と、ガス排気部4と、反応容器1及び加熱機構2を収納する収納容器6とを備え、反応容器1の内部には、ほぼ同心配置された内径の異なる複数の反応筒壁9a〜9dによって仕切られた複数の小空間8a〜8dを、これら反応筒壁9a〜9dの下部と上部とに交互に形成した流通用貫通部10によって内側から順に連通状態としてなる反応流路20が形成され、各反応筒壁9a〜9dは、その下端面を収納容器6における底板部11の上面に接触させた状態に支持されている。 (もっと読む)


【課題】原料SiHCl3への炭素不純物の経時的蓄積を経済的、効率的に回避、緩和することにより、製品品質の悪化を低コストで回避することができる多結晶シリコン製造方法を提供する。
【解決手段】SiHCl3生成工程から取り出されるSiHCl3及びSiCl4を含む硅素塩化物Aを第1精留工程へ送って、SiHCl3を主成分とする低沸点の硅素塩化物Bと、SiCl4を主成分とする高沸点の硅素塩化物Cとに分離する。硅素塩化物Bについては、第2精留工程へ送ってSiHCl3純度を高めた後に、多結晶シリコン製造工程へ原料として供給する。第2精留工程で不純物として分離された硅素塩化物Dは第1精留工程へ戻す。硅素塩化物Cについては、SiHCl3生成工程へ戻す。第2精留工程に炭素塩化物が蓄積した時点で、SiHCl3生成工程へ戻す硅素塩化物C中のSiHCl3濃度を0.1%以上とし、その蓄積が解消された時点で、元に戻す。 (もっと読む)


種の供給源を、純粋でない液体のクロロシランの供給源に導入する工程、第1の撹拌された容器中で、液体のクロロシランから種上に塩化アルミニウム及びその他の金属塩化物の結晶化を開始させる工程、結果として生ずる液体及び固体の混合物を冷却器を通過させて追加の結晶化のために第2の撹拌容器に通す工程、結果として生ずる液体及び固体の混合物を固体除去デバイスに移す工程、固体含有量の減少した液体を更なる方法又は容器に移し、固体含有量の高い液体を廃棄物濃縮デバイスに移す工程、結果として生ずる固体含有量の減少した液体を更なる方法又は容器に送り、結果としての固体含有量の非常に高い液体を撹拌されている廃棄物貯蔵容器に送る工程を有する、液体のクロロシランから塩化アルミニウム及びその他の金属塩化物を取り除くための方法。
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本発明は、非常に高純度のハロゲンシラン、とりわけ非常に高純度のクロロシランを製造するために、工業的な純度のハロゲンシラン中にある元素周期表の第三主族の元素、とりわけホウ素とアルミニウムを含む化合物の含分を低減させるための方法に関する。本発明はさらに、当該方法を実施するための装置に関する。 (もっと読む)


本発明は、精製されたハロゲンシラン、とりわけ非常に高純度のクロロシランを製造するために、工業的な純度のハロゲンシラン中の周期表の第三主族の元素の含分、とりわけホウ素及び/又はアルミニウムを含む化合物の含分を低減させるための方法に関する。本発明はさらに、本方法を実施するための装置に関する。 (もっと読む)


【課題】多結晶シリコン製造プロセスから排出される四塩化珪素を水素と反応させて三塩化シランを生成する転換反応プロセスにおいて、この生成ガスから三塩化シランを分離回収した後に六塩化二珪素などを回収する転換反応ガスの分離回収方法を提供する。
【解決手段】四塩化珪素と水素ガスから三塩化シランを生成する転換反応プロセスにおいて、生成ガスを冷却して凝縮液とし、この凝縮液から三塩化シランおよび四塩化珪素を蒸留分離した後に六塩化二珪素を留出回収することを特徴とする転換反応ガスの分離回収方法であり、例えば、凝縮液から三塩化シランを留出させる第1蒸留工程と、第1蒸留工程の残液から四塩化珪素を留出させる第2蒸留工程と、第2蒸留工程の残液から六塩化二珪素を留出させる第3蒸留工程とを有する転換反応ガスの分離回収方法。 (もっと読む)


光ファイバーからSiClを含むかまたは含まないGeClを生成させるための方法が提供され、その方法は、ゲルマニウムおよび場合によってケイ素の酸化物を含む粉末状にした光ファイバーを、固体の炭素質還元剤、塩素およびホウ素化合物を含む反応物と、次の反応:2BCl(気体)+1.5GeO → 1.5GeCl(気体)+B;2BCl(気体)+1.5SiO → 1.5SiCl(気体)+BO;B+1.5C+3Cl → 2BCl(気体)+1.5CO;に従って反応させて、気体のGeCl、SiClおよび気体のBClを含む気体生成物を得るステップと、次に、該気体のGeCl、BClおよび場合によってSiClを、液体のGeCl、BClおよび場合によってSiClに凝縮させるステップとを含む。本発明は、光ファイバーの製造および廃棄した光ケーブルから得られるガラス質残分からSiCl(および場合によってGeCl)を生成させる方法をさらに提供する。その方法は、粉末状にしたガラス質残分を固体の炭素質還元剤、塩、ホウ素化合物を含む反応物と反応させて、SiCl、BCl、および場合によってGeClを含む気体生成物を得るステップと、次にその気体のSiCl、BCl(GeClを含むか含まない)を液体のSiCl、BClおよびGeClに凝縮するステップとを含む。SiOを含有する材料からSiClを製造する方法も提供される。
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【課題】塩化水素ガスを確実に分散させて、トリクロロシランの生産効率をさらに向上させ、四塩化珪素の発生を極力少なくさせることが可能なトリクロロシラン製造用反応装置及びトリクロロシラン製造方法を提供する。
【解決手段】金属シリコン粉末Mと、塩化水素ガスとを反応させてトリクロロシランを生成するトリクロロシラン製造用反応装置10において、金属シリコン粉末Mが供給される装置本体11と、この装置本体11の底部側から前記塩化水素ガスを装置本体11内へと噴出させる噴出口とを備え、噴出口の上側に、厚さ方向に貫通した貫通孔を備えた複数の有孔小片と、これら有孔小片同士の間に介在する複数の塊状部材とが混在した状態で堆積されていることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】反応炉の下部から導入される塩化水素ガスを反応炉の上部においても有効に反応に寄与させ、反応効率を高める。
【解決手段】反応炉2内に供給された金属シリコン粉末を塩化水素ガスによって流動させながら反応させ、この反応により生成されたトリクロロシランを反応炉2の上部から取り出すトリクロロシラン製造装置1において、反応炉2の内部空間に、複数本のガス流制御部材32が上下方向に沿って設けられていることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】金属シリコン粉末による目詰まりを抑制できるとともに、塩化水素ガスを広く分散させてトリクロロシランの生産効率を向上させることが可能な塩化水素ガス噴出用部材を提供する。
【解決手段】金属シリコン粉末に塩化水素ガスを反応させてトリクロロシランを生成するトリクロロシラン製造用反応装置に用いられる塩化水素ガス噴出用部材1であって、長手方向に向けて延びる軸部2と、この軸部2の前記長手方向に対して交差する方向に延在する頭部3とを有し、軸部2には、前記長手方向に向けて延びる供給孔4が設けられ、頭部3には、供給孔4に連通するとともに供給孔4の延在方向に対して交差する方向に延びて頭部3の外表面に開口した噴出孔5が複数形成されていることを特徴とする。 (もっと読む)


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