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国際特許分類[C03B20/00]の内容

国際特許分類[C03B20/00]に分類される特許

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【課題】直線偏光のUVレーザー放射での使用に好適であって、異方性密度変化により生じるコンパクションと複屈折とに対して最適化されている光学部材を提供する。この光学部材は作動波長が250nm以下である浸漬型リソグラフィのプロジェクションレンズシステムに使用するに適している。
【解決手段】石英ガラスは以下の特性の組合せを示す。本質的に酸素欠陥のないガラス構造、60wtppm以下のヒドロキシル基の平均含有量、10wtppm以下のフッ素の平均含有量、そして1wtppm以下の塩素の平均含有量。
この光学部材の製造方法は次の工程を備えている。還元条件の下でSiOスート体をつくり、乾燥する工程、そして石英ガラス構造の酸素欠陥と反応する反応物でその乾燥したスート体をガラス化前にもしくはガラス化中に処理する工程。 (もっと読む)


【課題】比較的大型形状のシリカガラス製品を安価に、かつ生産性よく製造する方法を提供すること。
【解決手段】(A)1μm以下のシリカガラス1次粒子と純水とを混合し、乾燥してシリカガラス顆粒を作成する工程、(B) シリカガラス顆粒を分級後純化処理する工程、(C)純化顆粒を焼結処理して焼結決粉とする工程、(D)焼結粉を純水と混合し、粉砕して70〜78質量%のスラリーとした後、乾燥してシリカガラス粒子の濃度が80〜85質量%の高濃度スラリーとする工程、(E)高濃度スラリーを成型に鋳込む工程、及び(F)成形体を成形型から取り出し、乾燥、純化処理し、さらにガラス化処理する工程、の各工程を清浄雰囲気で行うことを特徴とするシリカガラス製品の製造方法。 (もっと読む)


エッチング作用する環境において使用するウエハ保持器のための理想的な石英ガラスは、高い純度および高い乾式エッチング耐性の点で傑出している。この要求をかなりの程度まで満たす石英ガラスを提供するために、本発明によれば次のことが提案される。すなわち石英ガラスが、少なくとも表面に近い範囲において窒素によってドーピングされており、30重量ppm以下の準安定のヒドロキシル基の平均含有量を有し、かつその仮想温度が、1250℃より下であり、かつ1200℃の温度におけるその粘性が、少なくとも1013dPa・sである。このような石英ガラスを製造するための経済的な方法は、次の方法ステップを含んでいる:石英ガラス素材になるようにSiO原料を溶融し、その際、SiO原料または石英ガラス素材が、脱水処理を受け、アンモニアを含む雰囲気において1050℃と1850℃との間の範囲における窒化温度にSiO原料または石英ガラス素材を加熱し、石英ガラス素材の石英ガラスを1250℃またはそれより低い仮想温度に設定する熱処理を行い、かつ石英ガラス保持器を形成しながら石英ガラス素材の表面処理を行う。
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【課題】複屈折の低減を図った合成石英ガラスの製造方法及び光学部材用合成石英ガラスを提供する。
【解決手段】合成石英ガラスの製造方法は、下記工程(a)〜(d)を備える。 (a)ガラス原料を火炎加水分解して合成された石英ガラス微粒子を基材上に堆積させて多孔質石英ガラス母材を形成する工程。 (b)前記多孔質石英ガラス母材を仮焼する工程。 (c)仮焼された前記多孔質石英ガラス母材をガラス化温度以上に加熱して透明な合成石英ガラス体を得る工程。 (d)前記合成石英ガラス体を真空下で徐冷する工程。 (もっと読む)


【課題】高品質シリコンインゴットを低コストで製造するためのシリコン融解坩堝及びこれを用いたシリコン鋳造装置並びに多結晶シリコンインゴットの鋳造方法を提供する。
【解決手段】内部に収めたシリコン原料を加熱融解してシリコン融液を形成するシリコン融解坩堝1であって、シリコン融解坩堝1は、溶融シリカ粉末を主成分とする粉体原料を成形し焼成して形成された溶融シリカ焼結体から成る基体2と、基体2上の少なくともシリコン融液が接する箇所に設けられた、二酸化珪素を主成分とするガラス層から成る被覆層3と、を備える。 (もっと読む)


【課題】焼結用ガラス材料を乾式プレス成形して得られた焼結用成形体を加熱焼結して反射鏡を製造する際に、不均一な変形を起こすことなく、光学特性の優れた高品質の反射鏡を低コストで量産できるようにする。
【解決手段】パラフィン系バインダ及びステアリン酸系バインダの一方又は双方を含むバインダがシリカを主成分とするコアの表面に隙間なくコーティングされて成るガラス原料粉末を集合させて顆粒状に形成した焼結用ガラス材料を用い、これを乾式プレス成形する際に、反射鏡型成形体Fを、そのランプ挿通口36側から反射光照射開口部31側に向って反射面33となる部分の肉厚分布を漸増させた形状又は均一にした形状に成形した。 (もっと読む)


【課題】合成石英ガラス中に残留する屈折率分布を考慮した合成石英ガラスの製造方法、当該製造方法に用いられる合成石英ガラス製造用治具、及び当該製造方法により製造された光学部材用合成石英ガラスを提供する。
【解決手段】ガラス原料を火炎加水分解して合成された石英ガラス微粒子を回転する基材上に堆積・成長させて略円柱状の多孔質石英ガラス母材を形成する工程と、前記多孔質石英ガラス母材を仮焼する工程と、仮焼された前記多孔質石英ガラス母材をガラス化温度以上に加熱して透明ガラス化する工程と、を備える合成石英ガラスの製造方法であって、前記透明ガラス化工程において、多孔質石英ガラス母材の成長軸を鉛直とした上で当該多孔質石英ガラス母材に鉛直に荷重を負荷する。 (もっと読む)


【課題】シリカガラス製品を精度よく、安価に、かつ生産性よく製造する方法を提供すること。
【解決手段】平均粒径が6〜15μmで、固形分濃度が70〜85質量%のシリカガラススラリーを成形型に鋳込み、乾燥し、純化処理したのち、ガラス状カーボン被覆及び/又は含浸カーボン支持体上で、高温加熱下でガラス化することを特徴とするシリカガラス製品の製造方法。 (もっと読む)


ガラスは、プリフォームの縦方向に対してほぼ平行に前後に動くプラズマトーチの前方で動かしてプリフォームに予備焼結組成物を堆積させることにより製造され、第1の供給ダクトはプラズマに予備焼結組成物の粒を供給し、場合により第2の供給ダクトはプラズマにキャリアガスと混合されたフッ素化合物又は塩素化合物、有利にフッ素化合物を供給し、その際、前記の予備焼結組成物は、30〜90m2/gのBET表面積、80以下のDBPインデックス、25000nm2より低いアグリゲート平均面積、1000nmより低いアグリゲート平均周長を有し、その際、前記アグリゲートの少なくとも70%は1300nmより低い周長を有する熱分解二酸化ケイ素粉末、又は火炎加水分解法により30ppbよりも低い金属含有量を有する四塩化ケイ素の反応により製造された0.2μg/gよりも低い金属含有量を有する熱分解法により製造された高純度の二酸化ケイ素の金属酸化物又はメタロイド酸化物の顆粒からなる。 (もっと読む)


【課題】
少なくとも一方向に脈理が存在せず、かつシリカ・チタニアの成分濃度が部材全体に渡って均一である均質なシリカ・チタニアガラスを製造する方法、及び一方向又は三方向に脈理が存在せず、部材に渡って濃度が均一である均質なシリカ・チタニアガラスを提供する。
【解決手段】
シリカ原料及びチタニア原料を酸水素火炎中に導入し、シリカ・チタニアガラス微粒子を回転する基体上に垂直方向に堆積、成長して多孔質ガラス体を作製し、該多孔質ガラス体を加熱して透明化し、円柱状のシリカ・チタニアガラス体を作製する作製工程と、前記シリカ・チタニアガラス体を半径に沿って成長軸方向に切断し、棒状ガラス体を形成する切り出し工程と、前記棒状ガラス体を、該ガラス体の成長軸に対して垂直な方向にせん断応力が作用するように帯域溶融法を適用して脈理を除去する均質化処理を施す第1の均質化処理工程と、を含むようにした。 (もっと読む)


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