【課題】 溶融時に発泡のない、高純度かつ高品質の合成石英ガラスを提供しうるシリカゲルを得る。
【解決手段】 少なくとも反応容器を備えた反応装置を用い、該反応容器中でゾルゲル反応を行なうことにより、シリカゲルを製造する方法において、該反応容器の液又はシリカゲルが接する内壁部分を予めアルカリ洗浄することにより、該内壁部分に付着するスケール層を剥離限界厚み以下にした後、上記ゾルゲル反応を行なう。 （もっと読む）

【課題】 合成シリカ粉末供給材料中の不純物レベルを制御して、るつぼ中の気泡密度を低下させると共に気泡安定性を向上させるための経済的で効率的な方法の提供。
【解決手段】 溶融成形に際して合成石英ガラスから製造される物品の気泡密度の低下及び安定性の向上を達成するため、炭素夾雑物を実質的に含まない合成石英ガラス粉末を製造する方法であって、酸化雰囲気（例えば、３ｖｏｌ％以上のオゾンを含む雰囲気）中において合成シリカ粉末を１４００℃未満の温度に維持して炭素含有化合物を１０ｐｐｍ未満に低下させることを含んでなる方法。 （もっと読む）

シリコン単結晶の引上げに用いる石英ガラスルツボにおいて、その少なくとも湾曲部が、合成石英ガラスからなりＡｌ濃度の低い透明内層、天然又は天然合成混合石英ガラスからなりＡｌ濃度の高い透明又は不透明中間層、及び天然石英ガラスからなりＡｌ濃度が前記中間層より高い不透明外層の３層構造とすることで、透明内層の変形が少なく、かつ、単結晶の引上げに伴う石英ガラスルツボの溶け込み量の変化を抑え、単結晶の長さ方向の酸素濃度を均一化できるシシリコン単結晶引上げ用石英ガラスルツボである。
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【課題】合成ガラス材料の屈折率の均一性を改善する製造方法の提供。
【解決手段】０．１から１３００質量ｐｐｍのＯＨ濃度を有する合成ガラス材料であって、その軸の少なくとも１つに対して垂直な方向のＯＨ濃度のばらつきが２０質量ｐｐｍ未満である合成ガラス材料を製造する。(i)高純度シリカスート粒子を提供し、(ii)前記スート粒子から、０．２から１．６ｇ／ｃｍ³、好ましくは０．２５から１．０ｇ／ｃｍ³の嵩密度を持つ多孔質プリフォームを形成し、(iii)必要に応じて、前記多孔質プリフォームを浄化し、(iv)Ｈ₂ＯおよびＯ₂に対して不活性な固結雰囲気に露出される内面を有する炉内において、Ｈ₂Ｏおよび／またはＯ₂の存在下で、前記プリフォームを緻密なシリカに固結する。 （もっと読む）

【課題】
天然石英ガラスと同等以上の高温粘度特性を有する高耐熱性合成石英ガラスを安全且つ収率良く製造することができる高耐熱性合成石英ガラスの製造方法及びその高耐熱性合成石英ガラスの製造方法により容易に得られる高耐熱性合成石英ガラス体を提供する。
【解決手段】
水酸基を含むシリカ多孔質ガラス体と有機珪素化合物を共存反応させた後、加熱置換処理と、焼成処理をして緻密なガラス体とする合成石英ガラスの製造方法であって、該加熱置換処理の雰囲気が、水素と不活性ガスの混合ガス雰囲気であり、該混合ガス中の水素の体積比率が０．５％以上４％以下であるようにした。 （もっと読む）

本発明は、天然シリカ粉を溶融して形成した不透明な外層と、その内側に形成した透明層を有する石英ガラスルツボにおいて、前記透明層が厚さ０．４〜５．０ｍｍの天然石英ガラスからなり、石英ガラスルツボの内表面の底部中心から、ルツボ内表面に沿って上端面までの距離Ｌに対し少なくとも０．１５〜０．５５Ｌの範囲の内側に合成石英ガラスからなる透明層を形成した石英ガラスルツボである。
本発明により、融液表面の振動の発生が抑えられ、かつ、長時間の操業においてもルツボ内表面において荒れ面の発生率が低く、安定にシリコン単結晶を引き上げることができる。
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低い偏光誘起複屈折を有する合成シリカガラス、前記ガラスを製造する方法および前記ガラスから製造された光学要素を含むリソグラフィシステムが開示される。前記シリカガラスは、約４０μＪ・ｃｍ^−２・パルス^−１のフルエンスおよび約２５ｎｓのパルス長を有する約１９３ｎｍのエキシマーレーザーパルスに５×１０^９パルスかけられた時に、約０．１ｎｍ／ｃｍ未満の、６３３ｎｍにおいて測定された偏光誘起複屈折を有する。 （もっと読む）

本発明は、以下の、酸化または火炎加水分解によりＳｉＯ_２に変換できる気化可能な出発物質を含むガス流を形成する工程、前記出発物質を変換する反応域内にガス流を送って、アモルファスＳｉＯ_２粒子を形成する工程、前記アモルファスＳｉＯ_２粒子を支持体上に堆積させてＳｉＯ_２層を形成する工程、および前記ＳｉＯ_２粒子の堆積中または堆積後に前記ＳｉＯ_２層をガラス化してシリカガラスを得る工程を含む、合成シリカガラスを製造するためのこれまでに知られた方法に関する。本発明の目的は、短波ＵＶ放射に対する望ましい損傷挙動を特徴としつつ、２５０ｎｍ以下の波長を有する高エネルギー紫外線放射を透過させるために使用される光学部品を製造するのに特に好適な合成シリカガラスを製造するための経済的な方法を創案することである。この目的は、１個のＳｉ原子を含むモノマーケイ素化合物と数個のＳｉ原子を含むオリゴマーケイ素化合物との混合物を出発物質として使用する（ただし、前記混合物中のオリゴマーケイ素化合物が、総ケイ素含有量の７０％未満に寄与するものとする）ことにより達成される。
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【課題】
中空シリンダーの製造にあたり脱水、ドーピングもしくはガラス化プロセスにおいて中空シリンダーの純度を維持し、そして同時に、つくろうとする中空シリンダーの高い寸法安定性を保証し、内孔の事後処理を不要とする。
【解決手段】
保持体とスート体との間に合成石英ガラスのガス不透過性の包囲体を設ける。
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【課題】
光学用途に好適に用いられるＯＨ基濃度が最適値に制御され、かつ均質性に優れた合成シリカガラスの製造方法及び該方法により製造されるシリカガラス体を提供する。
【解決手段】
多孔質シリカガラス体を形成する多孔質シリカガラス体形成工程と、前記多孔質シリカガラス体を６００℃以上１２００℃以下の温度範囲で、ハロゲンを含む雰囲気にて熱処理する脱水処理工程と、前記脱水処理後のシリカガラス体を６００℃以上１２００℃以下の温度範囲で水蒸気を含む雰囲気にて熱処理する加水処理工程と、前記加水処理後のシリカガラス体を１４００℃以上２２００℃以下の温度範囲で、不活性ガス雰囲気または減圧雰囲気にて熱処理する透明ガラス化工程とを有するようにした。 （もっと読む）