【課題】原料として有機珪素化合物を用いる合成石英ガラスの製造方法において、石英ガラス中の水素分子濃度を高く維持しつつ有機珪素原料を十分に酸化して、優れたレーザー耐久性を備え、かつ紫外線透過率も高い石英ガラスを合成する。
【解決手段】有機珪素化合物を含有する原料ガスを噴出する原料管と、酸素含有ガスと水素含有ガスとからなる第１燃焼ガスを噴出する第１の燃焼管とを含む主バーナーと、酸素含有ガスと水素含有ガスとからなる第２燃焼ガスを噴出する第２の燃焼管を含む副バーナーと、を備えた合成石英ガラス製造装置を用い、前記原料ガス中の有機珪素化合物および前記第１燃焼ガス中の水素含有ガスの合計量の、前記第１燃焼ガス中の酸素含有ガスに対する当量比を、０．６以上０．９以下とする。 （もっと読む）

【課題】局所的欠陥の少ない合成石英ガラスインゴットの製造方法を提供する。
【解決手段】排気口を有する耐火物壁と、耐火物壁の最上部に配置されたバーナーとを備えた合成炉を用い、前記バーナーから珪素化合物、可燃性ガス及び支燃性ガスを噴出して燃焼させ、生成した酸化珪素微粒子をターゲット上に堆積させて合成石英ガラスインゴットを製造する方法において、前記ターゲット上に成長しつつあるインゴットの頂点を、前記排気口の上端より下方２００ｍｍ以内、かつ前記排気口の下端より上方２００ｍｍ以内の一定の位置に維持する。 （もっと読む）

【課題】
ガラス質中に脈理が生ずることなく、寸法制度に優れた石英ガラス製品を低コストで量産できるようにする。
【解決手段】
球状シリカにバインダを添加して造粒した原料粒子２を、
（１）Ｒａ≦ｄ／４
（２）Ｓｍ≧ｄ
Ｒａ：算術平均粗さで表わされた表面粗さ
Ｓｍ：粗さ曲線と平均線の交点に基づいて測定された凹凸１周期の平均間隔
ｄ ：原料粒子の平均粒径
の双方の条件を満たす表面粗さに仕上げられた成形面４ａ〜６ａを有する成形用金型３に充填し、これをプレス成形することにより得られた焼結用成形体Ｆを加熱焼結するようにした。 （もっと読む）

【課題】広い温度範囲において熱膨張係数がほぼゼロとなるＴｉＯ_２を含有するシリカガラスの製造方法の提供。
【解決手段】ガラス形成原料を火炎加水分解して得られるＴｉＯ_２−ＳｉＯ_２ガラス微粒子を基材に堆積、成長して多孔質ＴｉＯ_２−ＳｉＯ_２ガラス体を形成する工程（多孔質ガラス体形成工程）と、多孔質ＴｉＯ_２−ＳｉＯ_２ガラス体を、非還元性雰囲気下にて、１１００〜１６５０℃の温度まで昇温して、多孔質ＴｉＯ_２−ＳｉＯ_２から密度２．０〜２．３ｇ／ｃｍ^３のＴｉＯ_２−ＳｉＯ_２緻密体を得る工程（緻密化工程）と、ＴｉＯ_２−ＳｉＯ_２緻密体を、０．０１ＭＰａ以上の気圧下にて、１４００〜１７００℃の温度まで昇温して、高透過率ガラス体を得る工程（ガラス化工程）とを含むＴｉＯ_２を含有するシリカガラスの製造方法。 （もっと読む）

【課題】 僅かな透過率の変動を強調することで、ガラス基板の透過率を正確に測定してマスクブランク用ガラス基板を製造すること。
【解決手段】 合成石英ガラスインゴットから所定の板形状に切り出して加工した後、この合成石英ガラス板の対向する両端面２、３を、露光波長の光が導入できるように鏡面研磨して合成石英ガラス基板４を得る端面鏡面研磨工程と、鏡面研磨された一方の端面２から露光波長の光を入射して他方の端面３から光を出射させ、入射した光の入射光量と上記出射した光の出射光量との差を第１パワーメータ２５及び第２パワーメータ２６を用いて測定し、上記合成石英ガラス基板４の端面の面内方向各位置における露光波長に対する透過率を測定する測定工程とを有するものである。 （もっと読む）

【課題】シリカガラスルツボの上部域が内側に倒れこむのを防止して、単結晶化率を向上させ、かつ、耐久性があり、安全なシリカガラスルツボを提供する。
【解決手段】本シリカガラスルツボは、融液面レベルより上方のシリカガラスルツボの上部域内にこの上部域が内方に倒れこむのを防止するリング状部材が埋設され、このリング状部材は、その熱膨張係数がカーボンサセプタ材質の室温から１１００℃までにおける熱膨張係数の０．９倍〜１．１倍であるリング状部材が埋設されている。 （もっと読む）

【課題】石英ガラスルツボの除去対象物を自動的に除去できる石英ガラスルツボの除去対象物の除去装置を提供する。
【解決手段】本石英ガラスルツボの除去対象物の除去装置は、同一位置の深さが異なる点に各々焦点が合わされる複数の撮像単位からなる撮像手段と、各々発光波長の異なる光を発する照明手段と、除去対象物の３次元位置を検出する位置検出手段と、サイズ判定手段と、種類識別手段と、レーザ光の照射位置を制御する照射位置制御手段と、前記除去対象物のサイズおよび種類に応じて、出力が変化されるレーザ光発振手段を有する。 （もっと読む）

半導体を製造する工程で使用するシリカガラス治具において、その表面の一部又は全部に中心線平均粗さＲａで０．１〜２０μｍの凹凸が存在し、かつ軽微な表層エッチング処理に対しても表面状態の変化が小さいことを特徴とするシリカガラス治具であって、使用時に半導体素子を汚染するパーティクルの発生がなく、しかも使用を重ねても処理条件の変動の少ない。また、本発明のシリカガラス治具は、シリカガラスの表面に物理的表層除去手段と化学的表層除去手段による処理を交互に２回以上繰り返し適用すことで容易に製造できる。
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【課題】 本発明は、気泡膨れを効果的に抑止することのできるルツボを実現することを目的とする。
【解決手段】 本発明は、内周側に透明石英からなる透明層を有し、この外周側に多数の閉気孔を含んだ不透明石英からなる不透明石英層を有する石英ルツボにおいて、透明層の赤色蛍光強度が０．０５を超え０．５以下で、且つ不透明層と透明層における赤色蛍光強度の平均値の差が、０．９以上、同じく比が０．３以上であることを特徴とする石英ルツボである。 （もっと読む）

【課題】 中心部から周辺部にわたり、ＯＨ基濃度を均一に低減し易い合成石英ガラスを容易に製造する。
【解決手段】 同心円状に複数のガス噴出管１５ａが配置された多重管構造１５ｂを有し、中心から原料ガスが噴出されると共に、周囲のガス噴出管１５ｂから水素含有ガス及び酸素含有ガスが組合されて噴出され、合成用バーナ１５から水素が過剰となる流量比で各ガスを噴出させて酸水素火炎を形成し、酸水素火炎内で生成された合成石英ガラスを堆積させてインゴットを形成する際、多重管構造部１５ｂの同心円状に配置されたガス噴出管１５ａの数を調整すると共に、組合された水素含有ガスと酸素含有ガスとの流量比を調整することにより、インゴットの有効領域におけるＯＨ基濃度の変化を所定範囲にする。 （もっと読む）