説明

国際特許分類[C03C19/00]の内容

国際特許分類[C03C19/00]に分類される特許

81 - 90 / 425


【課題】研削工程後の基板の主表面近傍に発生する内部クラック等の欠陥を除去することのできるマスクブランク用基板の製造方法を提供する。
【解決手段】対向する2つの主表面を有する基板からなるマスクブランク用基板の製造方法であって、前記基板の主表面に対して研削を行う工程と、研削が行われた前記基板の主表面に対して、前記基板の軟化点以上の燃焼温度の火炎を接触させる工程と、前記火炎を接触させる工程を行った後に、前記基板の主表面に対して研磨を行う工程とを有することを特徴とするマスクブランク用基板の製造方法である。 (もっと読む)


【課題】本発明は、平行度に優れる磁気記録媒体用ガラス基板の提供を目的とする。
【解決手段】ガラス基板を研磨する前の両面研磨装置の上定盤の研磨面と下定盤の研磨面の形状を、内周端における上定盤の研磨面と下定盤の研磨面との距離をDinとし、外周端における上定盤の研磨面と下定盤の研磨面との距離をDoutとしたとき、DoutからDinを引いたΔD(=Dout−Din)を−30μm〜+23μmとしてガラス基板を研磨する工程を有する磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法により、レーザ干渉計を用いて測定する磁気記録媒体用ガラス基板の少なくとも記録再生領域における前記両主平面の平行度が2.8μm以下である磁気記録媒体用ガラス基板を提供できる。 (もっと読む)


【課題】所定値以下の高い平坦度であり、研磨後の基板の主表面が対称性の高く、しかも、主表面の表面欠陥が抑制された基板を製造することができる研磨パッド、並びにこの研磨パッドを用いたマスクブランク用基板の製造方法、マスクブランクの製造方法および転写用マスクの製造方法を提供する。
【解決手段】基板主表面の研磨に用いられる研磨パッドであって、
基材と、
前記基材上に形成され、表面に開孔を有する発泡した樹脂からなるナップ層とから、少なくともなり、
前記研磨パッドの圧縮変形量が40μm以上であり、
前記ナップ層を形成する樹脂の100%モジュラスが14.5MPa以上である
ことを特徴とする研磨パッド及びこの研磨パッドを用いたマスクブランク用基板の製造方法。 (もっと読む)


【課題】表面の平滑性が高く、表面のうねりが少ない磁気記録媒体用ガラス基板を高い生産性で製造することができる磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法を提供する。
【解決手段】1次、2次及び3次ラップ加工には、それぞれダイヤモンドパッド20A,20B,20Cを用い、ダイヤモンドパッド20Aは、ダイヤモンド砥粒の平均粒径が4μm〜12μm、ダイヤモンド砥粒の含有量が5〜70体積%であり、ダイヤモンドパッド20Bは、ダイヤモンド砥粒の平均粒径が1μm〜5μm、ダイヤモンド砥粒の含有量が5〜80体積%であり、ダイヤモンドパッド20Cは、ダイヤモンド砥粒の平均粒径が0.2μm以上2μm未満、ダイヤモンド砥粒の含有量が5〜80体積%であり、第1、第2及び第3のラップ加工には、研削液として有機アミン水溶液を用い、1次ポリッシュ加工には、研磨剤として酸化セリウムを用いずに酸化ケイ素を用いる。 (もっと読む)


【課題】ポリッシュ工程において酸化セリウムを用いることなく、又はその使用量を低減しつつ、十分な耐衝撃強度が得られると共に、そのような磁気記録媒体用ガラス基板を高い生産性で製造できる磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法を提供する。
【解決手段】中心孔を有する円盤状のガラス基板の内外周端面に対して少なくとも、研削加工を施す工程と、エッチング加工を施す工程と、ポリッシュ加工を施す工程とを、この順で含む。 (もっと読む)


【課題】硝片に起因する外観欠点の発生が少ない固体撮像装置に用いられるカバーガラスや近赤外線カットフィルタガラスとして有用な板状ガラスを提供すること。
【解決手段】ガラス板の板厚方向に対向する2つの透光面の少なくとも一方の面に機能膜を形成する機能膜形成工程を備え、面取りされたガラス板を前記機能膜形成工程の前にエッチングする工程を備えたことを特徴とする固体撮像装置に用いられる板状ガラスの製造方法である。 (もっと読む)


【課題】表面の平滑性が高く、表面のうねりが少ない磁気記録媒体用ガラス基板を高い生産性で製造することができる磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法を提供する。
【解決手段】1次ラップ加工及び2次ラップ加工には、ダイヤモンド砥粒が結合剤で固定されたダイヤモンドパッド20A,20Bを用い、このダイヤモンドパッド20A,20Bのラップ面20aは、平坦な頂部を有するタイル状の凸部21が複数並んで設けられた構造を有し、1次ラップ加工に用いるダイヤモンドパッド20Aは、ダイヤモンド砥粒の平均粒径が4〜12μmであり、凸部21におけるダイヤモンド砥粒の含有量が5〜70体積%であり、2次ラップ加工に用いるダイヤモンドパッド20Bは、ダイヤモンド砥粒の平均粒径が1〜5μmであり、凸部21におけるダイヤモンド砥粒の含有量が5〜80体積%であり、第1及び第2のラップ加工には、研削液として有機アミン水溶液を用いる。 (もっと読む)


【課題】アルカリ土類金属を含むガラスを効率的に研磨する方法、及び本発明の研磨方法を利用した光学素子の製造方法を提供すること。
【解決手段】アルカリ土類を含有するガラスの表面を硫酸イオン及び/または炭酸イオンで修飾する。修飾は、硫酸イオン及び/または炭酸イオンを含有した溶液に浸漬するか、二酸化硫黄、三酸化硫黄、炭酸ガスからなる群から選ばれる一種以上のガス雰囲気下におくことにより行う。 (もっと読む)


【課題】矩形状の基板の両主表面を研削する場合に、研削後の基板の主表面形状を良好にし、かつ、当該研削を行う定盤の平坦度低下を抑制できるようにする。
【解決手段】両面研削装置の回転する上下両定盤3,4の研削面間にキャリアで保持された矩形状の基板20を挟持して前記基板20の両主表面を研削する研削工程において、前記キャリアは、1枚の基板20を保持する基板保持部17を備える内側キャリア16と、前記内側キャリア16を回動自在に保持するキャリア保持部15を複数有する外側キャリア13とからなり、前記研削工程は、前記外側キャリア13を前記定盤3,4の回転軸を中心に公転かつ自転させ、前記基板20の両主表面の一部領域が前記定盤3,4の外周端部よりも外周側を通過させて前記基板20の両主表面を研削する。 (もっと読む)


【課題】耐衝撃性に優れた情報記録媒体用ガラス基板の製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】ガラス素板の表面を、研磨剤を用いて研磨する研磨工程と、前記研磨工程の後に、研磨されたガラス素板の表面を、化学強化処理液を用いて強化する化学強化工程とを備え、前記ガラス素板として、そのガラス組成が、SiO、Al、B、LiO、NaO、KO、ZrO、CeO、SiOとAlとBとの合計、LiOとNaOとKOとの合計、MgOとCaOとBaOとSrOとZnOとの合計がそれぞれ所定量であるものを用い、前記研磨剤として、希土類酸化物を含み、CeOの含有量が、前記希土類酸化物の含有量に対して99〜99.9999質量%であり、アルカリ土類金属の含有量が、前記研磨剤全量に対して10ppm以下であるものを用いる情報記録媒体用ガラス基板の製造方法を用いる。 (もっと読む)


81 - 90 / 425