説明

国際特許分類[C03C19/00]の内容

国際特許分類[C03C19/00]に分類される特許

71 - 80 / 425


【課題】磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法において、ガラス基板の端面研磨装置間の移動やブラシの交換をすることなく、端面の加工傷を短時間で除去し、かつ端面を高品質に平滑化することが可能な端面研磨工程を提供する。
【解決手段】端面研磨工程では、回転自在の軸心31aと、剛性が相対的に高く、軸心31aからブラシ部の先端までの長さが相対的に短い第1ブラシ部31cと、剛性が相対的に低く、軸心31aからブラシ部の先端までの長さが相対的に長い第2ブラシ部31dとを有するブラシを用いてガラス基板の端面13を研磨する。端面研磨工程は、第1ブラシ部31cと第2ブラシ部31dとをガラス基板の端面13に接触させてブラシを軸心周りに回転させる第1研磨段階と、ガラス基板の端面13とブラシの軸心31aとの間の距離が第1研磨段階よりも長くなった状態で、第2ブラシ部31dのみをガラス基板の端面13に接触させてブラシを軸心周りに回転させる第2研磨段階とをこの順に含む。 (もっと読む)


【課題】ガラス基板の端面の表面状態を高いレベルで平滑に仕上げることができ、かつコストを抑制できる、情報記録媒体用ガラス基板の製造方法を提供する。
【解決手段】円形ディスク形状のガラス基板1の表面に磁気記録層が形成される情報記録媒体用ガラス基板の製造方法は、ガラス基板1を成形する工程と、ガラス基板1の端面に、遊離砥粒を含有した研磨液50を供給するとともに、表面が隙間なく密集した回転ブラシ4を回転させながら接触させて、端面を研磨する工程と、を備える。 (もっと読む)


【課題】磁気ディスク用ガラス基板の主表面の研磨のために従来から研磨剤として使用されてきた酸化セリウムよりも、主表面を平らにする点、主表面のスクラッチの生じにくさの点でより優れた研磨剤を使用した磁気ディスク用ガラス基板の製造方法を提供すること。
【解決手段】
研磨液を用いて磁気ディスク用ガラス基板の主表面を研磨するときに、研磨液として、主表面の算術平均粗さを0.5nm以下とし、かつ主表面のマイクロウェービネス(MW-Rq)を0.5nm以下とすべく、アルミニウム系の研磨剤として粒状のベーマイトおよび/またはギブサイトを含むものを使用する。 (もっと読む)


【課題】 主表面の表面凹凸を抑制した磁気ディスク用ガラス基板を、効率よく製造する方法及び磁気ディスク用ガラス基板を提供する。
【解決手段】 溶融ガラスの塊を、互いに対向しかつ略同じ温度に設定された一対の型の面を用いて挟み込みプレス成形することにより、ヘイズ率が20%以上の板状ガラス素材を成形する工程と、板状ガラス素材を固定砥粒を用いて研削する工程と、を有することを特徴とする磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。 (もっと読む)


【課題】良好な表面凹凸の精度と耐衝撃性を備えた磁気ディスク用ガラス基板を、効率よく製造する方法を提供すること。
【解決手段】溶融ガラスの塊を、互いに対向し、かつ、略同じ温度に設定された一対の型の面を用いて挟み込みプレス成形することにより、板状ガラス素材を成形する工程と、板状ガラス素材の主表面に研磨パッドを押圧させ、板状ガラス素材と研磨パッドとの間に研磨材を含む研磨液を供給しながら、板状ガラス素材と研磨パッドとを相対的に移動させて、板状ガラス素材の主表面を研磨する研磨工程と、を有することを特徴とする磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。 (もっと読む)


【課題】本発明は被研磨体の平面の表面うねりを抑制することを課題とする。
【解決手段】研磨装置を用いて台座10の上・下平面14、15を平滑に加工する。台座10の上平面14に微細なダイヤモンド砥粒を電着し、上平面14上に砥粒層18を所定パターンで形成し、本発明の研磨パッド用ドレッサー20が完成する。台座10の上・下平面14、15を平滑に加工しているため、ダイヤモンド砥粒が電着される平面精度が極めて高く、電着量を均一に制御することで砥粒層18の平面精度が高められる。台座10の上・下平面14、15の表面粗さは、Raが0.23μm以下であることが望ましい。 (もっと読む)


【課題】セリウムのみに依存しない新たな研磨材料を提供する。
【解決手段】 以下の組成物式(1)で表される酸化物を研磨材料として用いる。
A(Fe1-yy)Ox (1)
(ただし、Aは、Ca、Sr及びBaからなる群から選択される1種又は2種以上を示し、Bは、Al、Ti、V、Cr、Mn、Co、Ni、Cu、Zn、Ga及びZrから選択される1種又は2種以上を示し、2.5≦x≦3,0<y<1である。) (もっと読む)


【課題】複数の板状ガラスが積層された積層体から複数の磁気ディスク用ガラス基板を作製するときに、ガラス基板の真円度を所要のレベルまで向上させる。
【解決手段】複数の板状ガラスが積層された積層体を準備する積層体準備工程と、大径の円筒状の外周研削砥石と小径の円筒状の内周研削砥石とが同軸に配置される一体型コアドリルを軸を中心に回転させると共に、外周研削砥石と板状ガラスとが接触してなる外周研削面及び内周研削砥石と板状ガラスとが接触してなる内周研削面に研削液を供給させつつ、積層体の積層方向に移動させることで、積層体を研削加工する研削工程と、を有し、研削液が外周研削面に引き込まれるべく、コアドリルの回転方向と、外周研削面に対する研削液の供給方向とを調整することを特徴とする磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。 (もっと読む)


【課題】研削工程後の基板の主表面近傍に発生する内部クラック等の欠陥を除去することのできるマスクブランク用基板の製造方法を提供する。
【解決手段】対向する2つの主表面を有する基板からなるマスクブランク用基板の製造方法であって、前記基板の主表面に対して研削を行う工程と、研削が行われた前記基板の主表面に対して、前記基板の軟化点以上の燃焼温度の火炎を接触させる工程と、前記火炎を接触させる工程を行った後に、前記基板の主表面に対して研磨を行う工程とを有することを特徴とするマスクブランク用基板の製造方法である。 (もっと読む)


【課題】複数の板状ガラスが積層された積層体から複数の磁気ディスク用ガラス基板を作製するときに、外周研削面の真円度を向上させる。
【解決手段】複数の板状ガラスが積層された積層体を準備する積層体準備工程と、積層体を研削液に浸漬させる浸漬工程と、大径の円筒状の外周研削砥石と小径の円筒状の内周研削砥石とが同軸に配置される一体型コアドリルを軸を中心に回転させ、かつ、内周研削砥石と板状ガラスとが接触してなる内周研削面に研削液を供給しつつ、積層体の積層方向に移動させることで、積層体を円筒状に研削加工する研削工程と、を有することを特徴とする磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。 (もっと読む)


71 - 80 / 425