【課題】表面の平滑性が高く、表面のうねりが少ない磁気記録媒体用ガラス基板を高い生産性で製造することができる磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法を提供する。
【解決手段】１次、２次及び３次ラップ加工には、それぞれダイヤモンドパッド２０Ａ，２０Ｂ，２０Ｃを用い、ダイヤモンドパッド２０Ａは、ダイヤモンド砥粒の平均粒径が４μｍ〜１２μｍ、ダイヤモンド砥粒の含有量が５〜７０体積％であり、ダイヤモンドパッド２０Ｂは、ダイヤモンド砥粒の平均粒径が１μｍ〜５μｍ、ダイヤモンド砥粒の含有量が５〜８０体積％であり、ダイヤモンドパッド２０Ｃは、ダイヤモンド砥粒の平均粒径が０．２μｍ以上２μｍ未満、ダイヤモンド砥粒の含有量が５〜８０体積％であり、１次ポリッシュ加工には、研磨剤として酸化セリウムを用いずに酸化ケイ素を用いる。 （もっと読む）

【課題】高強度と視域制御機能を両立し得るガラス板を創案することにより、３Ｄディスプレイの高精細化、高輝度化、低消費電力化に寄与すること。
【解決手段】本発明のガラス板は、ガラス組成として、質量％で、ＳｉＯ_２ ４０〜８０％、Ａｌ_２Ｏ_３ ０〜３０％、Ｂ_２Ｏ_３ ０〜１５％、アルカリ金属酸化物（Ｌｉ_２Ｏ、Ｎａ_２Ｏ、Ｋ_２Ｏの一種又は二種以上） ０〜２５％、アルカリ土類金属酸化物（ＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯ、ＢａＯの一種又は二種以上） ０〜１５％を含有し、且つ二次元ディスプレイの一部又は全部を覆う視域制御部材に用いることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】１ｎｇ/ｄｉｓｋ以下のＣｅＯ_２砥粒の残存量を検出することが可能な磁気ディスク用ガラス基板の製造方法を提供する。
【解決手段】酸化セリウムを含むＣｅＯ_２砥粒を用いて所定の形状に加工した複数のガラス基板を研磨する１又は複数のＣｅＯ_２砥粒研磨工程を備えた磁気ディスク用ガラス基板の製造方法であって、最後のＣｅＯ_２砥粒研磨工程後、該複数のガラス基板から少なくとも１枚を抜き取って酸と還元剤の混合液への浸漬により該ガラス基板に残存するＣｅＯ_２砥粒の残存量を検出する抜き取り検査工程を含む。 （もっと読む）

【課題】本発明は、少ない取代で高精度に面取部を鏡面研磨することにより、ナトリウムやカリウムの析出の発生を防止して信頼性と耐久性を向上させた磁気ディスク用のガラス基板および磁気ディスクを提供することを目的としている。
【解決手段】中心に内孔２を有する円盤状の磁気ディスク用ガラス基板であって、内周側の面取部２ｂが凹面をなすことを特徴とする。これによりラッチ（爪）などでガラス基板を把持する際に、保持性や確実性、位置精度などのハンドリング性を向上させることができる。 （もっと読む）

【課題】ガラスからなるベース基板２に複数の貫通電極８、９を高位置精度で形成することができるパッケージ１の製造方法を提供する。
【解決手段】板状ガラス３０に複数の貫通孔１３ａを形成し、２枚の基台１ａ、１ｂに複数の貫通孔１３ｂを形成する。次に、２枚の基台１ａ、１ｂの間に板状ガラス３０を挟持し、基台の複数の貫通孔１３ｂと板状ガラス３０の複数の貫通孔１３ａとの位置合わせを行い、導体から成るワイヤーを貫通させて２枚の基台１ａ、１ｂの間にワイヤー２を張る。次に、板状ガラス３０をその軟化点よりも高い温度に加熱して、基台間のワイヤー２をガラスに埋め込み、ガラスを冷却し、ワイヤーが埋め込まれたガラスインゴットを形成する。次に、このインゴットをスライスしてガラス基板１１を形成し、このガラス板１１を研磨し、表面と裏面にワイヤーを露出させて貫通電極１０とする研削工程とを備える。 （もっと読む）

【課題】薄膜等が形成されていないにも関わらず、高い透過率を有するディスプレイ基板を提供する。
【解決手段】無アルカリガラスからなるディスプレイ基板であって、波長４００ｎｍにおいて、基板の両表面をそれぞれ３０μｍ除去したとき（基板肉厚が０．１ｍｍ以上の場合）、或いはそれぞれ肉厚の１／３除去したとき（基板肉厚が０．１ｍｍ未満の場合）の透過率と、除去前の透過率との差△Ｔ_４００が、０．５〜５．０％の範囲にあることを特徴とする。また本発明のディスプレイ基板は、内部とは組成の異なる異質層を表面に有している。異質層は、厚みが１０ｎｍ〜３０μｍであり、またＳｉＯ_２含有量が、基板内部のそれよりも高いことが好ましい。 （もっと読む）

【課題】本発明は、表面異物欠陥が少ないガラス基板製品の提供を目的とする。また、表面異物欠陥が少ないガラス基板製品にガラス基板を研磨する両面研磨装置、及びガラス基板の研磨方法、及び該研磨方法を用いたガラス基板の製造方法の提供を目的とする。
【解決手段】本発明は、上下主平面と側面からなる板形状を有するガラス基板の主平面を研磨するガラス基板の研磨工程において、
ガラス基板に対して霧状の液体を噴霧する霧発生ノズルを有する両面研磨装置と、該両面研磨装置を用いたガラス基板の研磨方法と、該ガラス基板の研磨方法を用いた研磨工程を有するガラス基板の製造方法を提供する。本発明によれば、表面異物欠陥を大幅に低減したガラス基板製品を提供できる。 （もっと読む）

【課題】本発明は、できるだけ生産設備や設置スペース等を少なくしつつも、ガラス板の生産のタクトタイムを短くして、製品一つ当たりの生産コストを削減し、さらにガラス板の取扱いも簡略化することができるガラス板の加工方法及びその加工装置を提供することを目的とする。
【解決手段】一枚の大判のガラス板Ｇａを切断、研削研磨して、複数の小片のガラス板Ｇｄを生産するガラス板の加工方法において、初めに、一枚の大判のガラス板Ｇａを第一スクライブヘッド１４ａと第一折り曲げ機構１４ｂ等で、複数の小片のガラス板Ｇｃに切断して、その切断した複数の小片のガラス板Ｇｃを、マガジンラック４で同時に搬送して、さらに、その搬送した複数の小片のガラス板Ｇｃを、第一スクライブヘッド１４ａ等よりも数多くの加工ステージ３１…を備えた研削装置３で、同時に研削研磨するようにしている。 （もっと読む）

【課題】ガラス基板の表裏面と端面とに連接される境界面の面性状を適切に規定して当該規定を満たさせることにより、強化処理が施されているか否かに拘わらず、ガラス基板の撓みや不当な温度分布に起因する破損の発生を確実に防止すると共に、ガラスパーティクルの問題をも解消する。
【解決手段】ガラス基板１の表面２ａおよび裏面２ｂと、その両面２ａ、２ｂの外周端相互間に存する端面３との間に存する少なくとも一方の境界部に、面取り面４を形成すると共に、その面取り面４における二乗平均平方根粗さＲｑを、０．３μｍ以下とする。 （もっと読む）

【課題】大型基板の研磨時の大きな研磨抵抗が小さくなるよう改善してより高い荷重で効率よく研磨できるようにする。
【解決手段】研磨布を貼り付けた定盤と、マスクブランク用基板とを、一定荷重をかけた状態で相対的に移動させ、その際研磨液を研磨布とマスクブランク用基板との接触面間に供給してマスクブランク用基板の研磨を行う工程を有するマスクブランク用基板の製造方法であって、 前記研磨布を貼り付けた定盤は、定盤１の研磨布貼り付け面に溝を有し、この溝の断面形状は、少なくとも溝の開口周縁部において曲線状又は曲面状に形成されてなる定盤と、 前記定盤１の研磨布貼り付け平面及び前記所定の開口周縁部形態を有する溝の形態に沿って貼り付けられた研磨布２と、で構成され、この「研磨布を貼り付けた所定の定盤」３を用い、マスクブランク用基板４の研磨を行うことを特徴とするマスクブランク用基板の製造方法。 （もっと読む）