本発明の実施形態によれば、光ファイバケーンを製造する方法は、（ｉ）比較的低粘度のガラス製のコアロッドを提供する工程と、（ｉｉ）ＳｉＯ_２系のスートをコアロッド周囲に堆積して、スートプレフォームを形成する工程であって、スートが、比較的高粘度の材料でできており、低粘度ガラスの軟化点が、高粘度の外側コア領域の軟化点より少なくとも２００℃低い、工程と、（ｉｉｉ）スートプレフォームのスートを、１０００℃〜１６００℃の温度で高温区域に露出することにより圧密する工程とを含む。スートは、スートプリフォームの外側部分を、スートを高密度化するのに十分な比較的早い加熱速度で加熱することにより高密度化されて、高密度化された材料に十分な剛性を与えて、パドリングを防ぐために、加熱コアロッドを閉じ込める。
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【課題】 十分な耐紫外線特性を有し、かつ紫外吸収端近傍における透過特性と製造性を高い次元で両立し得る新規な合成石英ガラスを提供する。
【解決手段】 波長１７０ｎｍから３８０ｎｍの全域における透過率が８０％以上、１６３ｎｍの吸収ピークが実質的に存在せず、ＯＨ含有量：３０ｗｔｐｐｍ以下、Ｃｌ含有量：１０ｗｔｐｐｍ以下、フッ素含有量：７０００ｗｔｐｐｍ以上、３００００ｗｔｐｐｍ以下、であることを特徴とする石英ガラスとした。 （もっと読む）

【課題】低レベルのストリエーションを有するチタニア含有シリカガラスでつくられた極紫外光光学素子、該極紫外光光学素子を製造する方法及び装置、及びガラス素子あるいは極紫外光光学素子内のストリエーションを測定するための方法及び装置を提供する。
【解決手段】５〜１０重量％、望ましくは６〜８重量％のチタニアを含有し、２０〜３５℃の間での熱膨張係数が＋３０ｐｐｂ/℃から−３０ｐｐｂ/℃、望ましくは＋２０ｐｐｂ/℃から−２０ｐｐｂ/℃の範囲であるシリカガラスとする。 （もっと読む）

【課題】短波長、特に、１９３ｎｍ以下で高透過率および他の所望の特徴を持つ光学部材を提供する。
【解決手段】光入射軸を持つ光学部材であって、１６５ｎｍ以下の吸収限界λ（限界）を有するＯＤドープトシリカガラスから構成された光学部材。ある実施の形態において、ＯＤドープトシリカガラスがフッ素をさらに含む。ある別の実施の形態において、ＯＤドープトシリカガラスが約５０００質量ｐｐｍ未満のフッ素を含む。さらにある別の実施の形態において、ＯＤドープトシリカガラスが約５０質量ｐｐｂ未満のＮａを含む。ある実施の形態において、前記光学部材は、１９０ｎｍ未満の波長で使用するためのフォトマスク基板である。 （もっと読む）

【課題】フルエンスが２５０μＪ・ｃｍ^−２・パルス^−１で、パルス長が３０ｎｓの、１５７ｎｍ直線偏光パルスレーザビームの１０００万パルスをかけた後でも低い偏光誘起複屈折を示し、あるいはさらに望ましくは、実質的に偏光誘起複屈折を示さない、約３００ｎｍより短波長で動作するリソグラフィ用途に適する石英ガラス材料を提供する。
【解決手段】５０ｐｐｍより少ないＣｌ、５０ｐｐｂより少ないＮａ、合計して５０ｐｐｂより少ない遷移金属、及び０.１ｐｐｍから５０００ｐｐｍのフッ素、を含有するＦドープ合成石英ガラス材料とする。 （もっと読む）

【課題】紫外域において、高屈折率、高透過率を有する光学ガラスを提供する。
【解決手段】Ｓｉ、Ａｌ、ＣａおよびＯを含有するガラスであって、Ｓｉを陽イオン％で７％以上９３％以下、Ａｌを陽イオン％で２％以上５７％以下、Ｃａを陽イオン％で２％以上５２％以下含有し、Ｓｉ、Ａｌ、Ｃａの合計の陽イオン％が、９９．５％以上であり、ＦｅおよびＮａの含有量がそれぞれ０．０１ｗｔｐｐｍ以下であり、かつ波長２４８ｎｍの光に対する透過率が厚さ５ｍｍで１６．９％以上である光学ガラス。 （もっと読む）

【課題】超紫外光リソグラフィにおけるマスクまたはミラー材等の光学用部材として好適に使用することができる、実質的に無気泡の透明なチタニア−シリカガラスを効率的に製造する方法を提供する。
【解決手段】ＶＡＤ法で作製したチタニア１〜１０重量％を含むチタニア−シリカ多孔体を、加熱処理してチタニア−シリカ仮焼体とし、前記チタニア−シリカ仮焼体を、カーボン製型を用いて、真空雰囲気下、１６００〜１８００℃、０．１〜１ＭＰａで透明化処理を行うことにより、チタニア−シリカガラスを製造する。 （もっと読む）

【課題】低熱膨張の透明ガラスであって、特に、超紫外光リソグラフィにおけるフォトマスクまたはミラー材として使用される際、その使用温度である０〜１００℃の広範囲の温度において熱膨張係数が低く、かつ、その面内均質性および安定性に優れたチタニア−シリカガラスを提供する。
【解決手段】チタニア８〜１０重量％およびシリカ９０〜９２重量％からなり、３価のチタンイオン濃度が１０〜６０重量ｐｐｍである構成を有するチタニア−シリカガラスを用いる。 （もっと読む）

【解決手段】（Ｉ）合成石英ガラスブロック中の水素分子濃度が５×１０¹⁷〜１×１０¹⁹分子数／ｃｍ³であり、
（ＩＩ）この合成石英ガラスブロックから製造される合成石英ガラス基板中での水素分子濃度が、５×１０¹⁵〜５×１０¹⁷分子数／ｃｍ³であり、
（ＩＩＩ）合成石英ガラス基板面内での波長１９３．４ｎｍにおける内部透過率のバラツキが０．２％以下、
（ＩＶ）合成石英ガラス基板の波長１９３．４ｎｍにおける透過率が内部透過率で９９．６％以上であることを特徴とするエキシマレーザ用合成石英ガラス基板。
【効果】本発明によれば、エキシマレーザ、特にはＡｒＦエキシマレーザ用、更にはＡｒＦ液浸技術等にも使用されるフォトマスク用合成石英マスク基板材用途、所謂レチクル材用に使用され、良好な透過率及び均一な透過率分布を有し、しかも劣化の少ないエキシマレーザ用合成石英ガラス基板及びその製造方法を提供できる。 （もっと読む）

【目的】本発明は、耐熱性に優れている上に、金属不純物の遮蔽効果の高い半導体製造用石英ガラス部材を提供すること。
【構成】少なくとも２層で形成される半導体製造用石英ガラス部材において、外層が１,２８０℃温度における粘度が１０^12.０ポイズ以上でナトリウム、カリウム及びリチウムのいずれも１ppm以下の天然石英ガラスからなり、最内層が１,２８０℃温度における粘度が１０^11.7ポイズ以上でナトリウム、カリウム及びリチウムのいずれも０．２ppm以下の合成石英ガラスからなる半導体製造用石英ガラス部材。 （もっと読む）