【課題】紫外発光ダイオード（LED）による波長365nm以上の紫外線で励起した場合にも高輝度な緑色蛍光を呈し、しかも耐久性に優れた新規な蛍光ガラスを提供する。
【解決手段】SiO₂を85mol％以上、Tbを0.04〜0.75mol％、Ceを0.09〜1.5mol％、及び希釈元素をTb量に対して０〜２倍モル含有するガラスであって、多孔質ガラスを焼成して得られるものであり、Ceの含有量がTbの含有量より多いことを特徴とする、紫外線による励起によって緑色発光する蛍光ガラス。 （もっと読む）

【課題】凹欠陥を有するＥＵＶＬ用光学部材の光学面を平滑化する方法を提供する。
【解決手段】ＴｉＯ₂を含有し、ＳｉＯ₂を主成分とする石英ガラス材料製のＥＵＶリソグラフィ（ＥＵＶＬ）用光学部材１０の凹欠陥を有する光学面１１に対して、波長１０．６μｍの炭酸ガスレーザ２１をピーク強度０．５〜１．５ｋＷ／ｃｍ²で照射する。炭酸ガスレーザ２１の照射により加熱された凹欠点の周囲の石英ガラスがリフローして凹欠点が埋まることによって、光学面１１が平滑化される。 （もっと読む）

【課題】透明性に優れ、かつ熱膨張係数がほぼゼロとなる温度領域をもつ透明超低熱膨張ガラスを得ることができるＴｉＯ₂を含有するシリカガラスの提供。
【解決手段】ＴｉＯ₂濃度が３〜１４質量％であり、かつ４００〜７００ｎｍの波長域で厚さ１ｍｍあたりの内部透過率Ｔ_400〜700が９７％以上であり、４００〜３０００ｎｍの波長域で厚さ１ｍｍあたりの内部透過率Ｔ_400〜3000が７０％以上であることを特徴とするＴｉＯ₂を含有するＥＵＶリソグラフィ光学部材用シリカガラス。 （もっと読む）

【課題】石英ガラス板材を均一な肉厚で接合でき、接合部における気泡の混入を抑制すると共に、接合部の垂れ下がりを抑制する。
【解決手段】石英ガラス板材Ａ，Ｂの接合端面の断面形状を、該石英ガラス板材の厚さ寸法をＤとしたとき、端面先端部からの寸法が０．２５Ｄ乃至０．７５Ｄの範囲内にある前記石英ガラス板材の上下面の２点と、前記石英ガラス板材の厚さ方向の中心を基準にＤの±１０％以内の端面先端部の１点を通る放物線によって構成される凸曲面に形成する工程と、接合する各石英ガラス板材を水平状態に支持し、接合する端面Ａ１，Ｂ１同士を対向させる工程と、前記石英ガラス板材の上下に、接合端面の長手方向に沿って所定ピッチで設けられた複数のバーナノズルを接合端面の長手方向に沿って揺動させながら接合端面に火炎を当て、接合端面を溶融する工程と、接合端面同士を押し合わせ、溶着する工程とを含む。 （もっと読む）

【課題】ＥＵＶＬ用露光装置の光学系部材として使用した場合に、高ＥＵＶエネルギー光の照射時の熱膨張係数がほぼゼロとなり、ガラスから水素を放出させることで多層膜の物性を長時間維持させることが可能なＴｉＯ₂−ＳｉＯ₂ガラスの提供。
【解決手段】仮想温度が１１００℃以下であり、水素分子濃度が１×１０¹⁶分子／ｃｍ³以上であり、線熱膨張係数が０ｐｐｂ／℃となる温度が４０〜１１０℃の範囲にあることを特徴とするＴｉＯ₂を含有するシリカガラス。 （もっと読む）

【課題】ＥＵＶＬ用露光装置の光学系部材として好適な、高ＥＵＶエネルギー光の照射時の線熱膨張係数がほぼゼロとなるＴｉＯ₂−ＳｉＯ₂ガラスの提供。
【解決手段】仮想温度が１０００℃以下であり、ＯＨ濃度が６００ｐｐｍ以上であり、線熱膨張係数が０ｐｐｂ／℃となる温度が４０〜１１０℃の範囲にあり、２０〜１００℃の平均線熱膨張係数が５０ｐｐｂ／℃以下であることを特徴とするＴｉＯ₂を含有するシリカガラス。 （もっと読む）

【課題】ＥＵＶＬ用光学部材の凹欠点を有する光学面を平滑化する方法の提供。
【解決手段】ＴｉＯ₂を含有し、ＳｉＯ₂を主成分とする石英ガラス材料製のＥＵＶリソグラフィ（ＥＵＶＬ）用光学部材の凹欠点を有する光学面に対して、波長２５０ｎｍ以下のエキシマレーザをフルエンス０．５〜２．０Ｊ／ｃｍ²で照射することにより、ＥＵＶＬ用光学部材の光学面を平滑化する方法。 （もっと読む）

【課題】 酸素欠乏欠陥による紫外光透過性の低下等が改善された新規なフッ素添加石英ガラスを提供する。
【解決手段】 ガラス内部１における平均フッ素濃度が１０００ｗｔｐｐｍ以上、平均ＯＨ基濃度が２ｗｔｐｐｍ以下で、且つ、ガラス表層部２の平均ＯＨ基濃度が３〜１５０ｗｔｐｐｍである構成のフッ素添加石英ガラスとした。これにより、Ｓｉ-Ｓｉ結合濃度が１×１０^１５個／ｃｍ^３であって、波長１６３ｎｍにおける紫外光透過率が８０％以上のフッ素添加石英ガラスを供することができる。 （もっと読む）

【課題】ＣＴＥが十分に制御されたシリカ・チタニアガラスを提供することを目的とする。また、本発明は、シリカ・チタニアガラスのＣＴＥを、試料寸法を限定することなく正確に求める方法を提供することを目的とする。また、本発明は、シリカ・チタニアガラスのＣＴＥを後処理によって制御する方法を提供する。
【解決手段】漏洩弾性表面波速度Ｖ_ＬＳＡＷと仮想温度Ｔｆを本発明に係る式（１）に代入して得られる線膨張係数ＣＴＥが２２℃において−５０ｐｐｂ／Ｋ以上５０ｐｐｂ／Ｋ以下であり、かつ、仮想温度Ｔｆの範囲が７００（℃）≦Ｔｆ≦１３００（℃）であるようにしたシリカ・チタニアガラスである。 （もっと読む）

【課題】 少なくとも約５０ｃｍ²の開口領域にわたり、約５ｐｐｍ以下の屈折率の均一性を有する溶融シリカガラス。溶融シリカガラスはまた、実質的にハロゲンを含まず、約１６０ｎｍ未満の吸収端を有する。
【解決手段】 ガラスを固結させる前に、シリカスートブランクを一酸化炭素に曝露することによってガラスを乾燥させ、Ｈが軽水素（¹₁Ｈ）である水酸基（すなわち、ＯＨ）、および、Ｄが重水素（²₁Ｈ）である重水酸基（ＯＤ）の混合濃度が、１つの実施の形態では約２０重量ｐｐｍ未満、別の実施の形態では５重量ｐｐｍ未満、第３の実施の形態では約１重量ｐｐｍ未満にまで低減させる。 （もっと読む）