【解決手段】直接火炎加水分解法により得られ、０〜２５０℃における線熱膨張係数が−３００〜３００ｐｐｂ／℃の範囲内であって、２５℃における線熱膨張係数分布が１００ｐｐｂ／℃以下であるチタニアドープ石英ガラスを使用することを特徴とするナノインプリントモールド用チタニアドープ石英ガラス。
【効果】本発明によれば、微細パターン転写時のモールドの温度変化による変形を抑制することができ、位置精度の高いナノインプリントによる微細パターンの転写が可能となる。 （もっと読む）

SiO2を約82〜約99.9999 wt.%、並びにAl2O3、CeO2、TiO2、La2O3、Y2O3、Nd2O3、他の希土類酸化物、及びそれらの2つ又はそれ以上の混合物より選択される少なくとも1つのドーパントを約0.0001〜約18 wt.%含む高シリカガラス組成物。ガラス組成物は、600〜2,000℃の範囲の作用点温度を有する。これらの組成物は、純粋な溶融石英と同様の安定性を示すが、医薬品パッケージの費用効果の高い製造を可能にする適度の作用温度を有する。当該ガラスは、例えば、予め充填された注射器、アンプル及びバイアルなどの、薬学的適用のための包装材料として特に有用である。 （もっと読む）

【課題】希土類元素を高濃度で添加するのに適し、簡易かつ低コストである希土類元素添加光ファイバ母材の製造方法を提供すること。
【解決手段】気相合成法により、アルミニウムを添加したシリカ系ガラス微粒子堆積体であって、径方向のかさ密度が中心部よりも表面の方が小さい多孔質母材を合成する合成工程と、前記合成した多孔質母材の表面からかさ密が所定値より低い低密度部分を所定量除去する除去工程と、前記低密度部分を除去した多孔質母材に溶液含浸法により希土類元素を添加する含浸工程と、前記希土類元素を添加した多孔質母材を乾燥する乾燥工程と、前記乾燥した多孔質母材を脱水・焼結する脱水・焼結工程と、を含む。 （もっと読む）

【課題】グラファイト製成型容器の使用に起因する内部異物の発生や泡の巻き込みが解消されたＴｉＯ₂を含有するシリカガラスの成型方法の提供。
【解決手段】グラファイト製成型容器の成型面側の表面、および、該成型容器内に設置されるＴｉＯ₂を含有するシリカガラスの表面の少なくとも一方に、ＳｉＯ₂粒子を含む懸濁液を塗布した後、前記グラファイト製成型容器内にＴｉＯ₂を含有するシリカガラスを設置し、前記成型容器内で前記ＴｉＯ₂を含有するシリカガラスを、不活性ガス雰囲気下、１５００℃以上の温度で成型して、所望の形状の成型体を得ることを特徴とするチタニアドープト石英ガラスの成型方法。 （もっと読む）

【課題】耐失透性及び耐熱性に優れ、ランプ寿命を長く保持でき、紫外線問題を解消した放電灯用合成シリカガラス製バルブ、該バルブの製造方法及び該バルブを用いた放電灯装置を提供する。
【解決手段】バルブ中のＯＨ基含有量が２ｐｐｍ以上５０ｐｐｍ以下、バルブ中のアルカリ金属の合計含有量が０．０２ｐｐｍ以上１０ｐｐｍ以下であり、内表面から０．１ｍｍまでのＯＨ基含有量が１ｐｐｍ以下、内表面から０．１ｍｍまでのアルカリ金属の合計含有量が０．０１ｐｐｍ以下であり、２５０ｎｍでの酸素欠損型欠陥量が吸収係数で０．１〜２／ｃｍであり、１１００℃での粘度が１０^１４〜１０^１６ポアズであり、波長１５０ｎｍ以上２５０ｎｍ以下の光線の内部透過率が５０％／ｃｍ以下であるようにした。 （もっと読む）

【課題】反応性の高い成分を含有するガラス素材であっても、表面クラック、クモリ、キズ等が無く、充分な光学性能を有する光学素子を提供するプレス成形用ガラス素材を提供する。表面クラック、クモリ、キズ等が無く、充分な光学性能を有する光学素子とその製造方法を提供する。
【解決手段】多成分系の光学ガラスからなる芯部１と、少なくとも前記芯部の光学機能面となる部位を覆う表面ガラス層２とを有し、前記表面ガラス層２は、ＳｉＯ₂を９０質量％超含み、膜厚が５ｎｍ未満であるプレス成形用ガラス素材。このガラス素材を加熱し、軟化した前記ガラス素材を成形型によりプレス成形してガラス光学素子を得るガラス光学素子の製造方法。多成分系の光学ガラスからなる芯部１と、少なくとも前記芯部１の光学機能面を覆う表面ガラス層２とを有し、前記表面ガラス層２は、ＳｉＯ₂を９０質量％超含み、膜厚が５ｎｍ未満であるプレス成形されたガラス光学素子。 （もっと読む）

【課題】面粗さの小さい基板として適当なＴｉＯ_２−ＳｉＯ_２ガラスの提供。
【解決手段】屈折率の変動幅（Δｎ）が、少なくとも一つの面内における３０ｍｍ×３０ｍｍの範囲で２×１０^−４以下であること、または、ＴｉＯ_２濃度が１質量％以上であり、かつ脈理ピッチが１０μｍ以下であることを特徴とするＴｉＯ_２を含有するＳｉＯ_２ガラス。ＴｉＯ_２を含有するシリカガラスからなり、屈折率の変動幅（Δｎ）が、光の入射方向に垂直な面において２×１０^−４以下であること、または、ＴｉＯ_２濃度が１質量％以上であるＴｉＯ_２を含有するシリカガラスからなり、光の入射方向に垂直な面において、ＴｉＯ_２濃度の最大値と最小値との差が、０．０６質量％以下である特徴とするＥＵＶリソグラフィ用光学部材。 （もっと読む）

【課題】Ｌｉ_２Ｏ成分を含有していても低い平均線膨張係数を有し、熱間加工においても失透が生じず、比較的低温での溶融が可能であるガラスを提供すること。
【解決手段】 酸化物基準の質量％で、ＳｉＯ_２成分、Ｂ_２Ｏ_３成分、Ａｌ_２Ｏ_３成分およびＬｉ_２Ｏ成分を含有し、これらの成分の合量が９０％以上であり、これらの成分の質量％の比Ｌｉ_２Ｏ／Ａｌ_２Ｏ_３が０．９以上であり、０〜３００℃における平均線膨張係数が３０×１０^−７℃^−１以下であるガラス。 （もっと読む）

本発明は、低ドーパント濃度で、２５４ｎｍの動作放射線に対する少なくとも８０％／ｃｍの可能な限り高いスペクトル透過率、およそ２５０ｎｍ未満の波長範囲における可能な限り低い透過率及び２３０ｎｍ〜２５０ｎｍの波長範囲内の端波長λ_Cを示すドープ石英ガラス製の光学フィルタ材料に関する。２５０ｎｍ未満の波長範囲において吸収帯の極大を有し、したがって端波長λ_Cを決定するガリウム化合物を含むドーピングによりこの目的が達成されることが見出された。
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【課題】ケイ酸を少なくとも９９重量％超の含有量で含む高純度ケイ酸質多孔質ガラス及びその製造方法を提供する。
【解決手段】ケイ酸（ＳｉＯ_２）の含有量が９９重量％超である高純度ケイ酸質多孔質ガラスの製造方法であって、ＳｉＯ_２−Ａｌ_２Ｏ_３−Ｂ_２Ｏ_３−Ｎａ_２Ｏ組成系に、２種以上の２族元素成分とリチウム成分とを少なくとも混合して得られた原料組成物を加熱溶融して母ガラスを作製する第１工程と、前記母ガラスに加熱処理を施して分相する第２工程と、分相された母ガラスに対し酸処理を施しケイ酸以外の成分を溶出する第３工程と、を含むことを特徴とする高純度ケイ酸質多孔質ガラスの製造方法、及び該製造方法により製造されてなる高純度ケイ酸質多孔質ガラスである。 （もっと読む）