【課題】本発明は光変換効率及び演色指数が高い紫色ＬＥＤを用いた白色発光装置を提供する。
【解決手段】紫色ＬＥＤを用いた白色発光装置は、筐体と、筐体内に設けられた支持板と、支持板上に少なくとも一つ設けられた発光波長２１０ｎｍ〜４１０ｎｍの紫色ＬＥＤ半導体光源と、筐体内に設けられ且つ紫色ＬＥＤ半導体光源と対向するＥｕイオンドープ高シリカ発光ガラス板と、高シリカ発光ガラス板の紫色ＬＥＤ半導体光源と対向する一面と反対側の面に設けられ且つ黄色蛍光粉末と赤色蛍光粉末との混合物、緑色蛍光粉末と赤色蛍光粉末との混合物、黄色蛍光粉末からなる群から選ばれる一種から形成される蛍光粉末層とを含む。 （もっと読む）

【課題】ドーパント濃度分布が小さい金属ドーパント含有多孔質石英ガラス体の製造方法の提供。
【解決手段】複数のガス供給ノズルが同心円状に配置された多重管バーナーの中央ノズルから、金属ドーパント前駆体、および、ＳｉＯ₂前駆体と、を供給し、該多重管バーナーの酸水素火炎中で加水分解してガラス微粒子を生成し、生成したガラス微粒子を基材に堆積、成長させて多孔質石英ガラス体を製造する方法であって、前記多重管バーナーは、前記基材のガラス微粒子堆積面に相当する位置における火炎温度の最高点Ｔ₁（℃）が該多重管バーナーの中心軸の延長線上にはなく、前記基材のガラス微粒子堆積面に相当する位置において、該火炎温度の最高点Ｔ₁（℃）となる部位（基端）と該多重管バーナーの中心軸の延長線（先端）とを結ぶ仮想線を引いた場合に、該仮想線の先端方向の延長線上における火炎温度の最高点をＴ₂（℃）とするとき、Ｔ₁−Ｔ₂≧３０℃であり、前記基材の回転軸と、前記多重管バーナーの中心軸と、が一致しないように前記多重管バーナーを配置し、製造される多孔質石英ガラス体におけるドーパント濃度分布に応じて、前記回転軸からの前記Ｔ₁となる部位までの距離と、前記回転軸からの前記Ｔ₂となる部位までの距離と、の大小関係を調整することを特徴とする多孔質石英ガラス体の製造方法。 （もっと読む）

【課題】
従来、半導体熱処理治具に一般に使用されてきた天然シリカ粉熔融石英ガラスは金属不純物、特に銅の拡散阻止能を持たない。金属不純物拡散阻止能を有し、高温粘性の高い石英ガラスを提供する。
【解決手段】
高純度の合成シリカ粉を電気炉中溶解やプラズマ溶解することにより、Ｓｉ孤立電子対含有濃度を０．５×１０^１６個／ｃｍ^３以下にし、さらに、ＯＨ基含有濃度を５０ｗｔ．ｐｐｍ以下にすることにより、金属不純物拡散阻止能を有し、半導体熱処理時に粘性率の高い石英ガラスが得られる。 （もっと読む）

【解決手段】硫黄をドープしたチタニアドープ石英ガラス部材。
【効果】本発明によれば、ＥＵＶリソグラフィの実用機に適したゼロ膨張となる温度を有し、広い低熱膨張温度域を有する、硫黄を共添加したチタニアドープ石英ガラス部材、その製造方法、及びこの硫黄を共添加したチタニアドープ石英ガラス部材からなるＥＵＶリソグラフィ用フォトマスク基板等のＥＵＶリソグラフィ用光学部材を提供することができる。 （もっと読む）

本開示は、シリカ系坩堝材料であって、焼結または焼成前に、その材料から製造された焼結または焼成坩堝に、改善された耐熱衝撃性および反復熱サイクルに耐える向上した能力を与える熱膨張安定化成分（Ｂ₂Ｏ₃およびＣａ₂ＳｉＯ₄）を選択された量含むシリカ系坩堝材料に関する。本発明を説明するための実施の形態は、その化学組成が、質量％で表して、約９１％から約９８％のＳｉＯ₂と、約１％から約８％の熱安定化成分と、約１．０％までの、ＭｇＯ、Ａｌ₂Ｏ₃、Ｆｅ₂Ｏ₃、ＣａＯおよびＺｒＯ₂を含む追加の酸化物とを含む坩堝材料を提供する。 （もっと読む）

【課題】合成石英ガラスに対してＵＶレーザ光やＵＶ光の長期照射に対する耐性を備えるのに必要な水素を効率的に含浸させ、ガラス内の水素濃度分布の平準化を図る。
【解決手段】合成石英ガラスを、水素を含む雰囲気中で、第１温度で加熱する第１加熱工程と、前記合成石英ガラスを、水素を含まない雰囲気中で、前記第１温度以上の第２温度で加熱する第２加熱工程と、前記合成石英ガラスを、水素を含む雰囲気中で、前記第２温度以下の第３温度で加熱する第３加熱工程と、を有する。 （もっと読む）

【課題】 シリカ−チタニアガラス製のＥＵＶＬ鏡（または、他の）基材のＴｚｃを、所望の特定の範囲に調節できるようにする。
【解決手段】 ＥＵＶＬ鏡基材のＴｚｃを、基材のＴｚｃを所望のＴｚｃ値にシフトさせる選択された最終アニールを行うことによって、特定の範囲になるように調節することができる方法が記載されている。また、セットを構成する個々の鏡が、異なる値のＴｚｃに指定され得ることから、この方法は異なるＴｚｃ値を有する部品を単一のガラスブールから製造するためのガラスサンプルまたはガラス片の製造に使用することができ、これにより、注文に応えるために要求される個々のブール数を低減することができる。 （もっと読む）

一定の外面形状を有し、反射コーティングが設けられるように意図され、かつミラー基板を意図されるように使用する際に高い負荷を受ける帯域として規定される、表面区域（surface region）を有する、ＥＵＶリソグラフィに使用されるミラー基板用の、高シリカ含有量を有するチタンドープガラス（ガラス）のブランクを製造する既知の方法に基づき、低コストで製造することができるにもかかわらず、均一性並びにブリスタ及び脈理がないことについて高い要件を満たすブランクを提供するために、（ａ）外面形状を包含するのに十分な大きさよりも大きい寸法を有するチタンをドープした高品質のガラスの前部体を作製する方法工程と、（ｂ）チタンドープガラスから円筒形の支持用基体（supporting body）を作製する方法工程と、（ｃ）前部体と支持用基体とを結合させる方法工程であって、複合体を形成する、前部体と支持用基体とを結合させる方法工程と、（ｄ）複合体を加工する方法工程であって、ミラー基板用ブランクを形成する、複合体を加工する方法工程とを含む手法が提案され、ここで、前部体を作製する工程は、ケイ素含有化合物の火炎加水分解によってストランドの形態で得られる出発用基体（starting body）をねじり加工して、前部体ブランクを形成することを伴う均一化プロセスを含み、支持用基体は、前部体よりも均一性の低い一体構造のガラスブロックとして形成される。 （もっと読む）

【課題】 現行の「ＵＬＥ」ガラスに可能なよりも広い温度範囲に亘り安定な熱膨張を有し、表面粗さ要件を満たすように研磨できる低熱膨張ガラスを提供する。
【解決手段】 この低膨張ガラスは、前面５、背面７および厚さＴを有する基礎ガラス材料３であって、１０質量％から２０質量％のチタニアおよび８０質量％から９０質量％のシリカから実質的になる基礎ガラス材料３、および基礎ガラス材料３の少なくとも前面５に施された、チタニアおよびシリカから実質的になるガラス被覆材料９であって、ガラス被覆材料９中のチタニアの総量が基礎ガラス材料３中のチタニアの総量より少ないガラス被覆材料９を有してなる。基礎ガラス材料３が、ほぼ１０℃から１００℃の温度範囲において実質的にゼロである熱膨張係数を有することが好ましい。 （もっと読む）

【解決手段】直接火炎加水分解法により得られ、０〜２５０℃における線熱膨張係数が−３００〜３００ｐｐｂ／℃の範囲内であって、２５℃における線熱膨張係数分布が１００ｐｐｂ／℃以下であるチタニアドープ石英ガラスを使用することを特徴とするナノインプリントモールド用チタニアドープ石英ガラス。
【効果】本発明によれば、微細パターン転写時のモールドの温度変化による変形を抑制することができ、位置精度の高いナノインプリントによる微細パターンの転写が可能となる。 （もっと読む）