【課題】 ガラス管の延伸加工において、高い製造効率を維持しつつ、紫外光透過率の低下を抑制することができる新規な方法を提供する。
【解決手段】 ガラス管１，２の内側３の圧力を外側４の圧力より高く保ち、その状態でガラス管１を加熱し軟化させて延伸し、所望の外径、内径、厚さをもったガラス管２に形成する。ガラス管１，２の内側３と外側４の少なくとも一方の雰囲気を、酸素含有雰囲気とする。 （もっと読む）

【課題】ＥＵＶＬ用露光装置の光学系部材として好適な熱膨張特性を有するＴｉＯ₂−ＳｉＯ₂ガラスの提供。
【解決手段】ＴｉＯ₂含有量が３〜９質量％であり、熱膨張係数が０ｐｐｂ／℃となる温度が１５〜３５℃の範囲にあり、仮想温度が８５０℃以下であり、熱膨張係数が０±５ｐｐｂ／℃となる温度幅が７．８℃以上であることを特徴とするＴｉＯ₂を含有するシリカガラス。 （もっと読む）

【課題】ＥＵＶＬ用露光装置の光学系部材として使用した場合に、高ＥＵＶエネルギー光の照射時の線熱膨張係数がほぼゼロとなり、かつ超高平滑性を有するＴｉＯ₂−ＳｉＯ₂ガラスの提供。
【解決手段】ＴｉＯ₂含有量が７．５〜１２質量％であり、線熱膨張係数が０ｐｐｂ／℃となる温度が４０〜１１０℃の範囲にあり、脈理の応力レベルの標準偏差（σ）が０．０３ＭＰａ以下であることを特徴とするＴｉＯ₂を含有するシリカガラス。 （もっと読む）

【課題】ＥＵＶＬ用露光装置の光学系部材として好適な、高ＥＵＶエネルギー光の照射時の線熱膨張係数がほぼゼロとなるＴｉＯ₂−ＳｉＯ₂ガラスの提供。
【解決手段】ハロゲン含有量が１００質量ｐｐｍ以上であり、仮想温度が１１００℃以下であり、２０〜１００℃の平均線熱膨張係数が３０ｐｐｂ／℃以下であり、線熱膨張係数が０±５ｐｐｂ／℃となる温度幅ΔＴが５℃以上であり、線熱膨張係数が０ｐｐｂ／℃となる温度が３０〜１５０℃の範囲にあることを特徴とするＴｉＯ₂を含有するシリカガラス。 （もっと読む）

【課題】複数のガラス体を融着させることにより大質量ガラス体を作製することを可能とするＥＵＶリソグラフィ用ガラスの成型方法の提供。
【解決手段】２以上のガラス体を１０Ｔｏｒｒ以下の雰囲気で徐冷点〜軟化点のいずれかの温度に昇温し融着した後、１００Ｔｏｒｒを越える雰囲気で軟化点〜軟化点＋２５０℃にて成型することを特徴とするＥＵＶリソグラフィ用ガラスの成型方法。 （もっと読む）

【課題】低コスト、高寸法精度、高耐久性のシリカ容器及びその製造方法を提供する。
【解決手段】（１）シリカ粒子である第一原料粉、非晶質シリカからなり平均粒径が小さい第二原料粉、主成分がシリカであり、Ａｌ元素及び／又はＯＨ基を含有するか、結晶核材を含有する第三原料粉、及び、高純度結晶質シリカである第四原料粉の準備、（２）第一及び第二原料粉を含有する基体形成用混合スラリーの作製、（３）基体形成用混合スラリーを鋳込み型枠の中に導入、（４）鋳込み型枠内の基体形成用混合スラリーを加熱脱水して基体を仮成形、（５）基体の焼成、（６）基体の内側から第三原料粉を散布して供給しながら溶融し、基体の内表面上に中間層を形成、（７）中間層が形成された基体の内側から第四原料粉を散布して供給しながら溶融し、中間層の内表面上に内側層を形成、の各工程を有し、（５）と、（６）（７）とのいずれかを先に行うシリカ容器の製造方法。 （もっと読む）

【課題】 優れた複屈折および耐レーザー損傷特性を有する溶融シリカガラスを提供する。
【解決手段】 約１９３．３６８ｎｍの波長において１．５６０８３５以下の絶対屈折率を有する、約１０ppm 未満の、プロチウム含有ヒドロキシル基およびジュウテロキシル基の複合濃度を有する溶融シリカ物品を提供する。溶融シリカガラスのアニール方法も提供する。提供された溶融シリカガラスを、アニール点を上回る第１の温度まで加熱する。溶融シリカガラスを、歪み点を下回る第２の温度まで、溶融シリカガラスのアニール速度未満の徐々に低下する冷却速度で冷却する。この場合、徐々に低下する冷却速度は溶融シリカガラスのアニール速度よりも低い。溶融シリカガラスを、第２の温度から室温まで第３の冷却速度で冷却する。 （もっと読む）

【課題】現状のＡｒＦリソグラフィー用露光装置に好適なレーザー光誘起による熱収差発生を抑えた高品質のシリカガラス部材を提供する。
【解決手段】紫外線照射によって発生する熱収差を低減した紫外線光学用シリカガラス部材であって、波長２００ｎｍ以下の紫外光をシリカガラス部材中に透過させた時、シリカガラス部材内部で熱エネルギーに変換されて生じる光の減衰量が光路長１ｃｍあたり１／１０００以下であるようにした。前記紫外光がＡｒＦエキシマレーザー光であり、ＡｒＦリソグラフィー露光装置に使用される。 （もっと読む）

【課題】高温耐熱性、耐白色失透や耐黒色失透に優れ、作動電圧の上昇および再点弧スパイク電圧の発生が抑えられランプ使用寿命が長く保持できる上に、２３０ｎｍ以下の光線の内部透過率が３０％／ｃｍ以下の放電灯用合成シリカガラスを提供する。
【解決手段】放電灯用合成シリカガラスであって、そのＯＨ基濃度が５ｐｐｍ以下、Ｔｉ濃度が１ｐｐｍ〜５００ｐｐｍ、Ｔｉ以外の金属不純物濃度の総和が５５ｐｐｍ以下、２５０ｎｍでの酸素欠損型欠陥量が吸収係数で０．０１〜２／ｃｍ、１１００℃での粘度が１０^１４〜１０^１６ポアズで、かつ波長２３０ｎｍ以下の光線の内部透過率が３０％／ｃｍ以下であることを特徴とする放電灯用合成シリカガラス及びその製造方法。 （もっと読む）

【課題】半導体露光装置用の各種光学材料として好適に使用できる耐レーザー性の高い光学用合成石英ガラス部材及びその製造方法を提供する。
【解決手段】光学用合成石英ガラス部材の製造方法は、ａ）揮発性珪素化合物を酸水素火炎により加水分解し、微粒子シリカを耐熱性基体上に堆積させて多孔質母材を作成する工程、ｂ）真空、または不活性ガス含有雰囲気中にて脱水熱処理する工程、ｃ）加熱して透明な石英ガラス体を得る工程、ｄ）火炎加熱により帯状熔融回転攪拌処理して、脈理を除去する工程、ｅ）円柱状に成型する工程、ｆ）石英ガラス体の上下面、及び外周面を研削除去することによって外層を取り除く工程、ｇ）徐冷点以上の温度に一旦保持した後徐冷する工程、およびｈ）水素ガス含有雰囲気中で、圧力を０．００９８ＭＰａ〜０．９８ＭＰａの範囲で、かつ、７２３Ｋ以下の温度で熱処理を施し、水素分子を含有させる工程を含む。 （もっと読む）