【課題】高い機械的強度を有しつつ、軟化点が低い強化ガラスを創案することにより、特定形状、例えば曲面形状を有する強化ガラスを得ること。
【解決手段】本発明の強化ガラスは、ガラス組成として、質量％で、ＳｉＯ_２ ４５〜７５％、Ａｌ_２Ｏ_３ ０〜３０％、Ｌｉ_２Ｏ＋Ｎａ_２Ｏ＋Ｋ_２Ｏ ０〜３０％含有し、且つβ‐ＯＨ値が０．３〜１／ｍｍであることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】高い機械的強度が得られるように、圧縮応力層の圧縮応力値と厚みを適正化することができ、しかも熱加工を容易に行うことができる強化ガラスの製造方法を創案すること。
【解決手段】本発明の強化ガラスの製造方法は、徐冷点から歪点までの温度域を２００℃／分以下、好ましくは５０℃／分以下の冷却速度で冷却した後、強化処理を行うことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】複数のガラス体を融着させることにより大質量ガラス体を作製することを可能とするＥＵＶリソグラフィ用ガラスの成型方法の提供。
【解決手段】２以上のガラス体を１０Ｔｏｒｒ以下の雰囲気で徐冷点〜軟化点のいずれかの温度に昇温し融着した後、１００Ｔｏｒｒを越える雰囲気で軟化点〜軟化点＋２５０℃にて成型することを特徴とするＥＵＶリソグラフィ用ガラスの成型方法。 （もっと読む）

【課題】ＥＵＶＬ用露光装置の光学系部材として使用した場合に、高ＥＵＶエネルギー光の照射時の線熱膨張係数がほぼゼロとなり、かつ超高平滑性を有するＴｉＯ₂−ＳｉＯ₂ガラスの提供。
【解決手段】ＴｉＯ₂含有量が７．５〜１２質量％であり、線熱膨張係数が０ｐｐｂ／℃となる温度が４０〜１１０℃の範囲にあり、脈理の応力レベルの標準偏差（σ）が０．０３ＭＰａ以下であることを特徴とするＴｉＯ₂を含有するシリカガラス。 （もっと読む）

【課題】プレス成形によって製造される光学素子において、非光学有効部分で融着等の不良を発生させることなく迷光防止用の黒塗りの被膜を簡単に形成する。
【解決手段】転写面を有する上型と下型の間にガラス素材を配置する第１工程と、前記上型、下型及びガラス素材を加熱する第２工程と、前記上型及び下型によって前記ガラス素材をプレス成形する第３工程とを少なくとも備えた、光学素子の製造方法において、前記ガラス素材は、Ｓｉ、Ｐ及びＢからなる群より選択される少なくとも１種のガラス網目形成成分と、Ｔｉとを含み、かつ該ガラス網目形成成分に対するＴｉの比率がカチオニック％表示で２９％以上１００％以下であり、前記上型及び下型の転写面における非光学有効部分転写域の少なくとも１つの面の表層は、炭素を含む素材からなっており、前記第３工程において、前記ガラス素材の、前記上型及び下型の前記炭素を含む素材からなる非光学有効部分転写域と接触する部分が発泡することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】観察時及び撮像時の画質や測定時の測定精度を高めた光学ガラス、試料保持器具及び光学素子を提供する。
【解決手段】この光学ガラスは、酸化物換算組成のガラス全質量に対して、質量％でＳｉＯ_２成分の含有量が４５．０％を超え且つ８０．０％以下であり、質量和（Ａｓ_２Ｏ_３＋Ｓｂ_２Ｏ_３）が０．１％未満であり、Ｆ成分を２０．０％以下含有する。また、試料保持器具及び光学素子は、この光学ガラスが用いられたものである。 （もっと読む）

【課題】レーザ照射により発生する組成分布が光学特性の変化を発生させうる、特定の成分を含有するガラス部材を提供する。
【解決手段】ガラス部材は、元素分布を有しない均一ガラス材料にパルスレーザを集光照射することにより、ガラス内部のレーザ照射領域及びその周辺領域に、他の領域とは異なる、ガラス組成の空間的な分布が存在する異質領域を有する。異質領域は、前記ガラス組成の空間的な分布により、他の領域とは異なる屈折率分布を有することが好ましい。 （もっと読む）

本発明は、ガラス材料を含み、電子装置ハウジング／エンクロージャまたは保護カバーとしての使用に適切なガラス物品に関する。特に、以下の特性を示すイオン交換されたガラスを含むハウジング／エンクロージャ／カバー：（１）１５ＭＨｚから３．０ＧＨｚまでの周波数範囲において０．０３未満の損失正接により定められるラジオおよびマイクロ波周波数透明性；（２）赤外線透明性；（３）０．６ＭＰａ・ｍ^１／２より大きい破壊靭性；（４）３５０ＭＰａより大きい４点曲げ強度；（５）少なくとも４５０ｋｇｆ／ｍｍ^２のビッカース硬度および少なくとも５ｋｇｆのビッカース中央／放射亀裂開始限界；（６）約５０から１００ＧＰａの間のヤング率；（７）２．０Ｗ／ｍ℃未満の熱伝導率；および（８）以下の特性の少なくとも１つ：（ｉ）２０μｍより大きい層の深さ（ＤＯＬ）および４００ＭＰａより大きい圧縮応力を有する圧縮表面層、または（ｉｉ）２０ＭＰａ以上の中央張力。 （もっと読む）

【課題】プレス成形を行った後において、ガラス成形体の表面の凹凸や曇りを低減することのできるガラス成形体の製造方法、及びガラス成形体の曇り低減方法を提供する。
【解決手段】ガラス成形体の製造方法は、軟化したガラスに対して金型内でプレス成形を行うガラス成形体の製造方法において、Ｓｂ成分を実質的に含有しないガラスを用いるものである。また、ガラス成形体の曇り低減方法は、軟化したガラスに対する金型内でのプレス成形によって作製されるガラス成形体の曇り低減方法であって、プレス成形前のガラスに含まれるＳｂ成分を低減するものである。 （もっと読む）

【課題】透明性に優れ、かつ熱膨張係数がほぼゼロとなる温度領域をもつ透明超低熱膨張ガラスを得ることができるＴｉＯ₂を含有するシリカガラスの提供。
【解決手段】ＴｉＯ₂濃度が３〜１４質量％であり、かつ４００〜７００ｎｍの波長域で厚さ１ｍｍあたりの内部透過率Ｔ_400〜700が９７％以上であり、４００〜３０００ｎｍの波長域で厚さ１ｍｍあたりの内部透過率Ｔ_400〜3000が７０％以上であることを特徴とするＴｉＯ₂を含有するＥＵＶリソグラフィ光学部材用シリカガラス。 （もっと読む）