【課題】感度、解像度及び密着性に優れる感光性樹脂組成物、並びにこれを用いた感光性エレメント、レジストパターンの形成方法及びプリント配線板の製造方法を提供すること。
【解決手段】本発明は、（Ａ）バインダポリマーと、（Ｂ）光重合性化合物と、（Ｃ）光重合開始剤とを含有する感光性樹脂組成物であって、（Ｃ）光重合開始剤が、特定の式（１）で表される化合物を含む感光性樹脂組成物に関する。 （もっと読む）

【課題】一液若しくはフィルム状態での安定性と、絶縁信頼性を得るのに十分な硬化性とを両立する硬化システムの実現を可能とする光重合性化合物及び光アミン発生剤、並びに、感光性樹脂組成物及び感光性フィルムを提供すること。
【解決手段】光重合性化合物は、式（１）または（２）で表される化合物である。


［式（１）中、Ｒ^１及びＲ^４は、エチレン性不飽和結合を有する光重合性基を示し、Ｒ^２は、水素原子又は炭素数１〜２０の有機基を示し、Ｒ^３は、炭素数１〜２０の有機基を示し、ｎは、１〜５の整数を示す。］
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【課題】優れた露光マージンを有するパターンを得ることができるレジスト組成物を提供する。
【解決手段】式（Ｉ）で表される化合物と、酸に不安定な基を有し、かつアルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液で溶解し得る樹脂と、酸発生剤とを含有するレジスト組成物。［式（Ｉ）中、Ｒ^１は、炭素数３〜２０の飽和環状炭化水素基、炭素数１〜６のアルキル基又は炭素数１〜６のフッ化アルキル基を表す。Ｒ^２は炭素数６〜２０の芳香族炭化水素基を表し、該芳香族炭化水素基に含まれる水素原子は、ハロゲン原子、ニトロ基、ヒドロキシル基又はシアノ基で置換されていてもよい。Ｒ^３は炭素数１〜２０のフッ素原子を有する飽和炭化水素基又は炭素数６〜２０のフッ素原子を有する芳香族炭化水素基を表し、該飽和炭化水素基に含まれる−ＣＨ_２−は−Ｏ−、−ＣＯ−又は−ＳＯ_２−で置き換わっていてもよい。］
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【課題】優れた露光マージンを有するパターンを得ることができるレジスト組成物を提供する。
【解決手段】式（Ｉ）で表されるモノマー、式（Ｉ）で表されるモノマーに由来する構造単位からなる重合体、並びに、式（Ｉ）で表されるモノマーに由来する構造単位及び式（ＩＩ）で表されるモノマーに由来する構造単位からなる重合体からなる群から選ばれる１種以上と、式（Ｉ）で表されるモノマーに由来する構造単位を有さず、酸に不安定な基を有し、かつアルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸と作用してアルカリ水溶液で溶解しえる樹脂と、酸発生剤とを含むレジスト組成物。［Ｒ^１及びＲ^３は水素原子又はメチル基を表す。Ｗ^１はＣ_３〜Ｃ_２０２価の飽和環状炭化水素基を表す。Ａ^１は単結合又は−Ｏ−ＣＯ−Ｒ^２−を表す。Ａ^２は単結合又は−Ｏ−ＣＯ−（ＣＨ_２）_ｎ−を表す。Ｒ^４は置換基を有していてもよいＣ_３〜Ｃ_２０飽和環状炭化水素基を表す。］
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【課題】波長３６５ｎｍや４０５ｎｍの光に対する感度が高く、膜内部硬化性に優れた硬化膜を形成可能な重合性組成物を提供する。
【解決手段】芳香環および複素芳香環から選択される単環構造と、カルボニル基と直接結合したオキシム基を含んでなる脂肪族単環構造と、から形成された縮環構造を有するオキシム系重合開始剤、および、（Ｂ）重合性化合物を含有する重合性組成物である。 （もっと読む）

【課題】リソグラフィー特性が向上し、良好な形状のレジストパターンを形成することができるレジスト組成物およびレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が変化する基材成分（Ａ）、露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）、および露光により塩基を発生する光塩基発生剤成分（Ｆ）を含有するレジスト組成物であって、前記酸発生剤成分（Ｂ）が、下記一般式（Ｉａ）で表されるアニオン部を有する酸発生剤（Ｂ１）を有し、前記光塩基発生剤成分（Ｆ）が下記一般式（ｆ１）で表される化合物からなる光塩基発生剤（Ｆ１）を含むことを特徴とするレジスト組成物。
［化１］
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本発明は、次のもの：（i）α−ヒドロキシケトン、モノアシルホスフィンオキシド、ビスアシルホスフィンオキシド、ケトスルホン、ベンジルケタール、ベンゾインエーテル、フェニルグリオキシレート、ボレート及びチタノセンから成るグループから選択される少なくとも１つの化合物、及び（ii）式（I）と（I’）［式中、R₁、R’₁、 R₂、R_'2及びR₂、R_’9は、互いに独立に、例えば水素、又はＣ₁〜Ｃ₁₂−アルキルであり、R₇、R₈、 R₉、R’₈及びR’₉は、互いに独立に、例えば、水素、場合により置換されているＣ₁〜Ｃ₁₂−アルキルであるか、又は場合により置換されているフェニルである］を含む光開始剤混合物に関し、これは優れた光開始特性を示す。
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【課題】リソグラフィー特性が向上し、良好な形状のレジストパターンを形成することができるレジスト組成物およびレジストパターン形成方法、並びに、当該レジスト組成物用の光塩基発生剤および当該光塩基発生剤として有用である新規な化合物の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が変化する基材成分、露光により酸を発生する酸発生剤成分、および特定構造の露光により塩基を発生する光塩基発生剤を含有するレジスト組成物。
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式（Ｉ）の化合物および他の化合物が、与えられている。これらの化合物を含んでいる医薬組成物も、与えられている。加え、哺乳類におけるマクロファージ転位阻害因子（ＭＩＦ）活性を阻害していくとの方法も、与えられており、哺乳類における炎症を処置もしくは予防していくとの方法、ならびに、敗血症（ｓｅｐｓｉｓ）、敗血症（ｓｅｐｔｉｃｅｍｉａ）、および／または内毒素（エンドトキシン）ショックを持っている哺乳類を処置していくとの方法もである。
【化１】

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【課題】重合性組成物に添加することで、保存時は重合を生じることなく保存安定性に優れ、エネルギー線、特に光の照射により活性ラジカルを発生して効率的に重合を開始し、該重合性化合物が短時間で効率的に重合し得ることが可能な新規なオキシム化合物の提供。
【解決手段】下記一般式（１）で表されることを特徴とするオキシム化合物。
【化１】


上記一般式（１）中、Ｒ^１は、水素原子、置換基を有してもよいアシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基のいずれかを表し、Ｒ^２は、それぞれ独立に、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、アルキルオキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、及びアミノ基のいずれかを表す。ｍは、０〜４の整数を表し、２以上の場合は、互いに連結し環を形成してもよい。Ａは、４、５、６、及び７員環のいずれかを表す。 （もっと読む）