【課題】優れたレジストパターンのＣＤ均一性（ＣＤＵ）を有するレジスト組成物を提供する。
【解決手段】式（Ｉ）で表される化合物、その化合物に由来する構造単位を有する樹脂、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法。


［式（Ｉ）中、Ｑ^Ｉ１及びＱ^Ｉ２は、それぞれ独立に、フッ素原子又は炭素数１〜６のペルフルオロアルキル基を表す。ｎは、０又は１を表す。Ｘ^１は、単結合又は炭素数１〜１０のアルカンジイル基を表し、該アルカンジイル基を構成するメチレン基は、酸素原子又はカルボニル基に置き換わっていてもよいが、ｎが０のとき、Ｘ^１は単結合ではない。Ｗは、特定式（Ｉａ１−１）又は特定式（Ｉａ１−２）で表される構造を表す。Ｒ^１は、水素原子又はメチル基を表す。Ｚ^１＋は、有機対イオンを表す。］ （もっと読む）

【課題】優れたＣＤ均一性で、レジストパターンを製造することができ、得られたレジストパターンの欠陥の発生数も少ないレジスト組成物を提供する。
【解決手段】式（Ｉ）で表される構造単位を有する樹脂、アルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液で溶解し得る樹脂（但し、式（Ｉ）で表される構造単位を含まない）、式（ＩＩ）で表される酸発生剤を含有するレジスト組成物。
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【課題】優れたＣＤ均一性でレジストパターンを製造することができ、得られたレジストパターンの欠陥発生数が少ないレジスト組成物を提供する。
【解決手段】式（Ｉ）で表される構造単位を有する樹脂、アルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液で溶解し得る樹脂（但し、式（Ｉ）で表される構造単位を含まない）、式（ＩＩ）で表される酸発生剤を含有するレジスト組成物。
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【課題】フルオロアルカンスルホン酸塩から誘導されるフルオロアルカンスルホン酸の製造において、硫黄成分を効率的に低減し、工業的に有利に高純度なフルオロアルカンスルホン酸を提供する。
【解決手段】一般式［１］で表されるフルオロアルカンスルホン酸


（式中、Ｒ^ｆは炭素数１〜４の直鎖もしくは炭素数３〜４の分岐鎖のフルオロアルキル基を示す。）の製造方法において、以下の工程を含むことを特徴とする、フルオロアルカンスルホン酸の製造方法。（１）フルオロアルカンスルホン酸塩に、濃硫酸及び／又は発煙硫酸を反応させて酸分解し、フルオロアルカンスルホン酸と硫黄成分とを含む反応混合物を得る工程。（２）前記工程で得られた反応混合物に、酸化剤を添加し、続けて蒸留することにより該反応混合物からフルオロアルカンスルホン酸を得る工程。 （もっと読む）

【課題】高い収率で高純度のアルカンジスルホン酸バリウムの製造方法の提供。
【解決手段】ジハロアルカン化合物と亜硫酸ナトリウムおよび／または亜硫酸カリウムとを反応溶媒中で反応させ、式２で表されるアルカンジスルホン酸塩を含有する反応液を得る工程１と、該反応液に酸を加えた後、バリウム塩を加えて反応させる工程２とを有する式３で表されるアルカンジスルホン酸バリウムの製造方法。


式２中、Ｒ^１およびＲ^２は、Ｈ、炭素数１〜５のアルキル基、炭素数１〜５のアルコキシ基、炭素数１〜５のフルオロアルキル基、または、炭素数１〜５のポリフルオロアルキル基を示す。ｎは１〜６の整数を示し、ｎが２〜６である場合、ｎ個のＲ^１およびｎ個のＲ^２は、それぞれ互いに同一でもよく異なっていてもよい。ＭはＮaまたはＫを示す。


式３中、Ｒ^１およびＲ^２、ｎは、式２と同じ基、同じ値を示す。 （もっと読む）

【課題】抗ヒスタミン活性及び抗アレルギー活性が優れている（Ｓ）−４−〔４−〔（４−クロロフェニル）（２−ピリジル）メトキシ〕ピペリジノ〕ブタン酸のベンゼンスルホン酸塩の提供。
【解決手段】（±）−４−〔（４−クロロフェニル）（２−ピリジル）メトキシ〕ピペリジンをジアステレオマー塩に誘導し、これを分別結晶の方法で、光学分割して光学活性な（Ｓ）−４−〔（４−クロロフェニル）（２−ピリジル）メトキシ〕ピペリジンを得た後、ピペリジンのＮ−アルキル化反応およびエステルの加水分解反応さらにベンゼンスルホン酸の中和処理により合成した（Ｓ）−４−〔４−〔（４−クロロフェニル）（２−ピリジル）メトキシ〕ピペリジノ〕ブタン酸のベンゼンスルホン酸塩。 （もっと読む）

【課題】レジスト組成物用の酸発生剤等として用いられる塩の製造方法の提供。
【解決手段】有機塩基の存在下、式（ＩＩ）


［式中、Ｑ^１及びＱ^２は、フッ素原子又は炭素数１〜６のペルフルオロアルキル基を表す。Ｙは、置換基を有していてもよい炭素数１〜１８の脂肪族炭化水素基を表す。］で表される化合物と式（ＩＩＩ）


［式中、Ｚ^＋は有機カチオンを表し、Ｘ⁻はアニオンを表す。］で表される塩と水とを反応させる式（Ｉ）


で表される塩の製造方法。 （もっと読む）

【課題】純度が高く、有毒副産物の可能性が低く、例えばアミロイドーシス治療のために薬学的に有用である、スルホン酸誘導体化合物、例えば3-アミノ-1-プロパンスルホン酸および1,3-プロパンジスルホン酸2ナトリウム塩の新規な調製法を提供する。
【解決手段】下記の式によって表される、スルトン環を求核剤で開環する段階を含むスルホン酸誘導体化合物の調製法。


（式中、n＝1または2であり；Nuは求核剤であり；Mは水素または塩形成基であり；R1、R2、R3、R4、R5、およびR6は独立に水素、または置換もしくは無置換アルキル基である。） （もっと読む）

【課題】スルホン酸ホスホニウム帯電防止剤の一段と効率的な製造方法（特に一段階法）、並びにこれらの帯電防止剤を配合した熱可塑性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】以下の一般式（１）のスルホン酸ホスホニウム塩の製造方法であって、水性媒質中で高ハロゲン化スルホン酸のリチウム、あるいはナトリウム塩を化学量論的過剰量の四置換アルキルホスホニウム陽イオン化合物と混合する段階、及び媒質から式（１）の生成物を分離する段階を含んでなる方法。（式中、各Ｘは、ハロゲン／水素のモル比が約０．９０超であることを条件として、独立にハロゲン又は水素であり、ｑ＋ｒが８未満であること及びｐが０でないときはｒが０を超えることを条件として、ｐは０又は１であり、ｑ及びｒは０〜約７の整数であり、各Ｒは炭素原子数１〜約１８の同一又は異なる炭化水素基である。）
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【課題】分子内にスルホ基を有するジハロビフェニル化合物の製造方法を提供する。
【解決手段】式（１）


で表されるジアゾ化合物を銅及び／又は銅化合物に接触させて、式（２）


で表されるジハロビフェニル化合物を得る。 （もっと読む）