【課題】新規の２−（６−置換−１，３−ジオキサン−４−イル）酢酸誘導体の製造方法を提供する。
【解決手段】相間移動触媒およびオキシ化剤の存在下、相間始動触媒として４級ホスホニウムイオンを使用することによる、およびオキシ化剤としてＯＹイオンを使用することによる、下記式（２）の２−（６−置換−１，３−ジオキサン−４−イル）酢酸誘導体における基Ｘの、基ＯＹへの変換方法。[Ｘはハロゲンを表し、Ｒ^１およびＲ^２およびＲ^３はそれぞれ独立にＣ１−４アルキル基を表し、またはＲ^１およびＲ^２はそれらが結合するＣ−原子と一緒になって、５または６員シクロアルキルを表し；ＹはＲ^Ａ−ＣＯ−またはＲ^Ｂ−ＳＯ_２−を表し、ここでＲ^Ａ、Ｒ^Ｂは１〜１２のＣ−原子を有するアルキル基またはアリール基の群から選択される。]
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本発明は、治療薬を細胞にインビボ送達するための脂質粒子に有利に使用される脂質を提供する。特に、本発明は、以下の構造を有する脂質を提供し、


式中、Ｒ_１及びＲ_２は、各存在において各々独立して、随意に置換されたＣ_１０〜Ｃ_３０アルキル、随意に置換されたＣ_１０〜Ｃ_３０アルケニル、随意に置換されたＣ_１０〜Ｃ_３０アルキニル、随意に置換されたＣ_１０〜Ｃ_３０アシル、又は−リンカー−リガンドであり；Ｒ_３は、Ｈ、随意に置換されたＣ_１〜Ｃ_１０アルキル、随意に置換されたＣ_２〜Ｃ_１０アルケニル、随意に置換されたＣ_２〜Ｃ_１０アルキニル、アルキルヘトロ環、アルキルホスフェート、アルキルホスホロチオアート、アルキルホスホロジチオアート、アルキルホスホネート、アルキルアミン、ヒドロキシアルキル、ω−アミノアルキル、ω−（置換）アミノアルキル、ω−ホスホアルキル、ω−チオホスホアルキル、随意に置換されたポリエチレングリコール（ＰＥＧ、分子量：１００〜４０Ｋ）、随意に置換されたｍＰＥＧ（分子量：１２０〜４０Ｋ）、へテロアリール、ヘテロ環、又はリンカー−リガンドであり；及びＥは、Ｃ（Ｏ）Ｏ又はＯＣ（Ｏ）である。
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【課題】タンパク質イソプレニルトランスフェラーゼ（例えば、タンパク質ファルネシルトランスフェラーゼおよびタンパク質ゲラニルゲラニルトランスフェラーゼ）の阻害、並びに発癌遺伝子タンパク質Ｒasおよび他の関連した小さいｇタンパク質のファルネシル化またはゲラニルゲラニル化の阻害に有用な新規化合物の提供。
【解決手段】[4-(1-エチルチオ−３−シクロヘキシルプロパ-2-イルアミノメチル)-2-(2-メチルフェニル)ベンゾイル]メチオニンなどの化合物。
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除草剤としての使用に適切であるシクロヘキサンジオン化合物。

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【課題】パターン硬化可能なレジスト材料、レジスト膜を硬化させる工程を含むパターン形成方法を提供することにより、ダブルパターニングプロセス等により高度な微細加工を可能にする。
【解決手段】一般式（１）で表されるナフタレン環を有する単量体、及びその単量体に由来する繰り返し単位を含有する高分子化合物。


（Ｒ¹はＨ、Ｆ、メチル基又はトリフルオロメチル基。Ｒ²はＣ１〜１０の二価の有機基。Ｒ³、Ｒ⁴はＨ、又はＣ１〜１０の一価の有機基。Ｒ²とＲ³又はＲ²とＲ⁴は互いに結合してこれらが結合する炭素原子と共に環を形成してもよい。Ｒ³とＲ⁴は互いに結合してこれらが結合する炭素原子と共に環を形成してもよい。Ｘは水酸基、ハロゲン原子、又はＣ１〜１０の一価の有機基。ｎは０〜７。） （もっと読む）

水除去用の二次蒸留剤を用いることなく縮合反応においてパラホルムアルデヒドおよび粗グリセリンからグリセロールホルマールを製造する方法。
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【課題】フォトリソグラフィを利用した微細加工を行うために使用される新規なフォトレジスト用化合物、それを用いたフォトレジスト液、およびその液を使用するエッチング方法の提供。
【解決手段】一般式(I)で表される化合物またはその塩であるフォトレジスト用化合物。


［Ｒ¹およびＲ²はＨまたは置換基、L¹〜L³は置換基を有していてもよいメチン基を表し、Ｖ¹およびＶ²は少なくとも一方はハメットの置換基定数σｐが０．２〜０．９の範囲の置換基、またはＶ¹およびＶ²が窒素を含有するへテロ環を形成してもよく、ｎは0または１を表す。］ （もっと読む）

【課題】化合物に必要な一般的物性、熱、光などに対する安定性、液晶相の広い温度範囲、高い透明点、他の化合物との良好な相溶性、大きな屈折率異方性、および大きな誘電率異方性を有する液晶化合物、特に高い透明点および大きな誘電率異方性を有する液晶化合物を提供する。
【解決手段】 式（１）で表される化合物。



例えば、Ｒ^１は炭素数１〜２０のアルキルであり；環Ａ^１、環Ａ^２、環Ａ^３、環Ａ^４、環Ａ^５、および環Ａ^６は１，４−シクロヘキシレン、１，３−ジオキサン−２，５−ジイル、１，４−フェニレン、または任意の水素がハロゲンにより置き換えられた１，４−フェニレンであり；Ｚ^１、Ｚ^２、Ｚ^３、Ｚ^４、Ｚ^５、およびＺ^６は単結合であり；Ｌ^１、Ｌ^２、Ｌ^３、およびＬ^４は、水素またはハロゲンであり；Ｘ^１は水素またはハロゲンであり；ｌ、ｍ、ｎ、ｏ、ｐ、およびｑは０または１であり、これらの和は３である。 （もっと読む）

本発明は、アルキレンオキシドをホスホニウム触媒の存在下で二酸化炭素と反応させることにより炭酸アルキレンを生成するにあたり、（ａ）アルキレンオキシド、二酸化炭素およびホスホニウム触媒を反応帯域中に連続的に導入し、反応帯域から炭酸アルキレンおよびホスホニウム触媒を含有する生成物流を抜き取り；（ｂ）生成物流から炭酸アルキレンとホスホニウム触媒含有流とを分離し；（ｃ）段階（ｂ）において分離された炭酸アルキレンを生成物として回収し；ならびに（ｄ）段階（ｂ）において分離されたホスホニウム触媒含有流を反応帯域に再循環させる方法であって、含炭素収着剤による炭酸アルキレンおよび／または触媒の処理を実施する方法に関する。 （もっと読む）

本発明は、多様なＨＭＧ−ＣｏＡ還元阻害剤の製造において核心中間体である光学活性を有するｔ−ブチル（２，２−ジメチル−６−ヒドロキシメチル−［１，３］ジオキサン−４−イル）アセテートを商業的に大量生産することのできる方法およびそのための新規中間体に関する。
本発明の製造方法によれば、光学活性を有するｔ−ブチル（２，２−ジメチル−６−ヒドロキシメチル−［１，３］ジオキサン−４−イル）アセテートを経済的かつ効果的に製造することができる。 （もっと読む）