【課題】 本発明は、リソグラフィーで用いられる多層レジスト膜のレジスト下層膜、特には３層を有する多層レジスト膜のレジスト下層膜、又は、レジストパターンの側壁に直接珪素酸化膜を形成したり、レジストパターンに珪素酸化膜を形成してポジネガ反転を行う際に用いるレジスト下層膜であり、反射率を低減でき、エッチング耐性が高いレジスト下層膜を形成するためのレジスト下層膜形成方法及びこれを用いたパターン形成方法を提供することを目的とする。
【解決手段】 リソグラフィーで用いられる多層レジスト膜のレジスト下層膜を形成するためのレジスト下層膜材料であって、少なくともフッ素原子を有するスチレン誘導体単位を、繰り返し単位として含有する重合体を含むものであることを特徴とするレジスト下層膜材料。 （もっと読む）

【課題】 優れた現像性と優れた液浸液追随性との両立を可能とする感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】 本発明に係る感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物は、フッ素原子及びケイ素原子の少なくとも一方を備えた樹脂（Ｂ）であって、下記一般式（Ｉ−１）又は（Ｉ−２）により表される繰り返し単位を含んだ樹脂（Ｂ）を含有している。
【化１】
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【課題】イオン交換樹脂用のモノマー、および、該モノマーから得られるイオン交換ポリマーに関するものであり、特に、フューエルセル、アルカリクロリドプロセスのような電気化学用途、並びに、有機化学における不均一触媒のような膜に結合したアニオン中心の解離に関連したカチオンイオン交換樹脂を提供する。
【解決手段】一般式〔Ｔ−ＳＯ2−Ｙ−ＳＯ2Ｔ’〕-Ｍ+（式中、ＴおよびＴ’は同一であるかまたは異なり、不飽和基または開環可能な環のような重合活性官能基を少なくとも１つ有する有機基、Ｍ+はカチオン、ＹはＮまたはＣＱ、ＱはＨ、ＣＮ、Ｆ、ＳＯ2Ｒ3、Ｃ1-20アルキル、Ｃ1-20アリール、Ｃ1-20アルキレン、置換基は１以上のハロゲン、そして、鎖は１以上の置換基Ｆ、ＳＯ2Ｒ、アザ、オキサ、チアまたはジオキサチアを含み、そして、Ｒ3は特定の置換基）の二官能性モノマー、およびこれから誘導されるポリマー。 （もっと読む）

【課題】液浸露光用として好適なレジスト組成物、当該レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法、および当該レジスト組成物に用いる添加剤として有用な含フッ素化合物の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が変化する基材成分（Ａ）と、露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）と、アルカリ現像液に対して分解性を示す一般式（ｃ−１）［式中、Ｒ^１は有機基であって、重合性基を含んでいてもよい。ただし、当該重合性基は、炭素原子間の多重結合を有するものであって、その炭素原子のいずれもが、式（ｃ−１）における−Ｃ（＝Ｏ）−の炭素原子に直接結合しない基である。Ｒ^２はフッ素原子を有する有機基である。］で表される含フッ素化合物（Ｃ）とを含有することを特徴とする液浸露光用レジスト組成物。
［化１］
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本発明は、導電性ポリマー組成物、およびそれらの有機電子デバイスへの使用に関する。
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【課題】塗布性に優れ、面状均一性の高いフイルムを形成しうる有機溶剤系塗布組成物に用いられれる増粘剤またはチキソトロピー付与剤を提供する。
【解決手段】下記一般式（１）で表される繰り返し単位を有するポリマーを含む有機溶剤系増粘剤ならびにチキソトロピー付与剤。
【化１】


式中、Ｒは、炭素数4以上の少なくとも８個のフッ素原子で置換されたアルキル基を表し、Ｚは（ｔ＋１）価の連結基を表す。ｔは2〜6までの整数である。Mは繰り返し単位を表す。 （もっと読む）

官能性フルオロモノマーをオルガノボラン開始剤で重合し、官能性フルオロポリマーと、アリル系プロトン、Ｓｉ−Ｈ基およびオレフィン基を有するモノマーから製造される官能性ポリマーを含む共重合体とを得る。 （もっと読む）