【課題】 優れた現像性と優れた液浸液追随性との両立を可能とする感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】 本発明に係る感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物は、フッ素原子及びケイ素原子の少なくとも一方を備えた樹脂（Ｂ）であって、下記一般式（Ｉ−１）又は（Ｉ−２）により表される繰り返し単位を含んだ樹脂（Ｂ）を含有している。
【化１】

【特許請求の範囲】
【請求項１】
フッ素原子及びケイ素原子の少なくとも一方を備えた樹脂（Ｂ）であって、下記一般式（Ｉ−１）又は（Ｉ−２）により表される繰り返し単位を含んだ樹脂（Ｂ）を含有した感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物。
【化１】

式中、
Ｒ_１は、各々独立に、水素原子、アルキル基又はハロゲン原子を表す。
Ｘ_１は、２価の有機基を表す。
Ｘ_２は、単結合又は２価の有機基を表す。
Ａｒ_１は、各々独立に、１価の芳香環基を表す。
Ａｒ_２は、２価の芳香環基を表す。
Ｌは、各々独立に、単結合又は２価の有機基を表す。
【請求項２】
前記樹脂（Ｂ）の含有量は、組成物の全固形分を基準として、０．０１質量％乃至２０質量％の範囲内にある請求項１に記載の組成物。
【請求項３】
前記樹脂（Ｂ）は、下記（ｘ）、（ｙ）及び（ｚ）からなる群より選択される少なくとも１つの基を備えた繰り返し単位を更に含んでいる請求項１又は２に記載の組成物。
（ｘ）アルカリ可溶基、
（ｙ）アルカリ現像液の作用により分解してアルカリ現像液に対する溶解度が増大する基、及び
（ｚ）酸の作用により分解してアルカリ現像液に対する溶解度が増大する基。
【請求項４】
前記樹脂（Ｂ）は、（ｙ）アルカリ現像液の作用により分解してアルカリ現像液に対する溶解度が増大する基を備えた繰り返し単位を更に含んでいる請求項１又は２に記載の組成物。
【請求項５】
前記Ａｒ_１により表される前記１価の芳香環基は、電子求引基により置換されている請求項１乃至４の何れか１項に記載の組成物。
【請求項６】
前記電子求引基は、ハロゲン原子、ハロゲン化炭化水素基、及びニトロ基からなる群より選択される少なくとも１つである請求項５に記載の組成物。
【請求項７】
酸の作用により分解してアルカリ現像液に対する溶解性が増大する樹脂（Ａ）と、
活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物（Ｃ）と
を更に含有した請求項１乃至６の何れか１項に記載の組成物。
【請求項８】
請求項１乃至７の何れか１項に記載の組成物を用いて形成されたレジスト膜。
【請求項９】
請求項１乃至７の何れか１項に記載の組成物を用いて膜を形成することと、
前記膜を露光することと、
前記露光された膜を現像することと
を含んだパターン形成方法。
【請求項１０】
前記露光は液浸液を介して行われる請求項９に記載の方法。

【公開番号】特開２０１２−４８０６７（Ｐ２０１２−４８０６７Ａ）
【公開日】平成２４年３月８日（２０１２．３．８）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１０−１９１３７３（Ｐ２０１０−１９１３７３）
【出願日】平成２２年８月２７日（２０１０．８．２７）
【出願人】（３０６０３７３１１）富士フイルム株式会社 (25,513)
【Ｆターム（参考）】