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Fターム[4J100AL08]の内容

付加系(共)重合体、後処理、化学変成 (209,625) | 不飽和カルボン酸エステル (19,462) | 1つの不飽和基を持つ不飽和カルボン酸のエステル (15,201) | (メタ)アクリル酸からなる酸部分と、置換基を有するアルコール残基からなるエステル (8,148)

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【課題】ネガ型パターンを高解像性で、かつ、良好な形状で形成できるレジストパターン形成方法と、これに用いるのに好適なレジスト組成物の提供。
【解決手段】基材成分(A)及び光塩基発生剤成分を含有するレジスト組成物を用いてレジスト膜を形成する工程、レジスト膜を露光する工程、露光後にベークを行う工程、レジスト膜をアルカリ現像し、未露光部が溶解除去されたネガ型レジストパターンを形成する工程を含むレジストパターン形成方法、及びこれに用いるレジスト組成物であって、(A)成分は酸分解性基を含む構成単位、−SO−又はラクトン含有環式基を含む構成単位、式(a3−1)で表される構成単位(但し10モル%以下)を有する高分子化合物を含む。
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【課題】水/セメント比の大きな低乃至中強度の高炉スラグコンクリートにおいては、スランプロスが少なく、しかもブリーディング水の発生も少なく、また水/セメント比の小さな高強度の高炉スラグコンクリートにおいては、高炉スラグコンクリートの粘性を小さく抑えて高流動性のものを得ることができる高炉スラグコンクリート用混和剤及びこれを用いた高炉スラグコンクリートの調製方法を提供する。
【解決手段】比較的広範囲の高炉セメントの単位量及び水/セメント比とした高炉スラグコンクリート用の混和剤として、特定の水溶性ビニル共重合体と特定のポリアルキレンオキサイド付加物とを特定割合で含有するものを用いた。 (もっと読む)


【課題】矩形性の高い良好な断面形状、高い残膜率及びブリッジ欠陥の低減を鼎立し得る感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、該組成物を用いて形成されたレジスト膜及び該組成物を用いたパターン形成方法、並びに電子デバイスの製造方法及び電子デバイスを提供する。
【解決手段】(A)下記一般式(1)で表される繰り返し単位と、ラクトン構造又はサルトン構造を有する繰り返し単位と、酸の作用により分解してアルカリ可溶性基を生じる繰り返し単位とを有する樹脂、及び
(B)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物
を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物。


一般式(1)中、
Lは、単結合又は2価の連結基を表し、
は、水素原子又はアルキル基を表し、
Zは、環状酸無水物基を表す。 (もっと読む)


【課題】発光装置の防曇等に用いられる防曇構造、その形成方法およびそれを有する発光装置を提供する。
【解決手段】下記の第一モノマー、第二モノマー、第三モノマーまたはこれらの組合せと光開始剤とを混合して、混合物を形成する工程と、前記混合物で基材表面を被覆する工程と、前記混合物を固化して、前記基材表面上に防曇層を形成する方法、該方法により形成された防曇構造、該防曇構造を適用した透明カバーを有する発光装置であり、前記第一モノマーは:


で表され、前記第二モノマーは:ポリアルキレングリコールメチルエーテルのアクリル酸もしくはα−アルキル置換アクリル酸エステル、前記第三モノマー:ジアルキレングリコールアルキルエーテルのアクリル酸もしくはα−アルキル置換アクリル酸エステルであるもの (もっと読む)


【課題】 酸化ジルコニウム粒子及び有機ケイ素化合物を多量に配合しても低粘度であり、黄変を抑制することができ、透明性、耐熱性に優れた高屈折率の樹脂を形成する光学材料用樹脂組成物を提供する。
【解決手段】
平均粒子径が1〜30nmである酸化ジルコニウム粒子と、下記式(1)で示される化合物からなる分散剤と、有機ケイ素化合物と、重合性不飽和基を有する化合物とを含有することを特徴とする光学材料用樹脂組成物である。
ただし、式(1)のRは、分岐鎖を有し炭素数が3ないし24のアルキル基および/又はアルケニル基であり、AOは炭素数が1ないし4のオキシアルキレン基であり、nはアルキレンオキシドの平均付加モル数を示す3〜30の範囲の数値であり、Xは炭素原子、水素原子及び/又は酸素原子からなる連結基である。
【化1】
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【課題】 重合性液晶組成物を構成した場合に高い保存安定性、高いコレステリック配向性及び短いピッチを示す重合性化合物及び当該重合性化合物を含有する重合性液晶組成物を提供する。更に、当該重合性液晶組成物を重合させることで得られる重合体及び当該重合体を用いた光学異方体を提供する。
【解決手段】 一般式(I)
【化1】


で表される重合性化合物を提供する。更に、当該重合性液晶化合物を含有する重合性液晶組成物、並びに当該重合性液晶組成物を重合させることで得られる重合体及び当該重合体を用いた光学異方体を提供する。 (もっと読む)


【課題】 焦点深度ラチチュード(Depth Of Focus)が大きく、経時でのパーティクル発生が少ないという液物性を有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、該組成物を用いたレジスト膜、パターン形成方法、電子デバイスの製造方法及び電子デバイスを提供する。
【解決手段】 (A)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、及び(B)酸の作用により分解してアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物であって、
前記感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物が、前記化合物(A)として、特定の2種の化合物からなる組み合わせ(A−1)、又は、特定の2種の化合物からなる組み合わせ(A−2)を含有する、感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、該組成物を用いたレジスト膜、パターン形成方法、電子デバイスの製造方法及び電子デバイス。 (もっと読む)


【課題】ガスバリア性を向上できるガスバリア基材およびガスバリア積層体を提供する。
【解決手段】基材と、基材の少なくとも一主面にある樹脂層と、樹脂層の一主面にあり、無機酸化物を含む無機酸化物層とを備え、樹脂層は、シクロアルカン構造含有重合性化合物または高酸価フタル酸構造含有重合性化合物を含む樹脂組成物が硬化されたものであるガスバリア基材である。 (もっと読む)


【課題】感度、解像性及びリソグラフィー特性に優れるレジスト組成物、該レジスト組成物用として有用な高分子化合物、該レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】露光により酸を発生し、且つ、酸の作用により現像液に対する溶解性が変化する基材成分(A)を含有するレジスト組成物であって、前記基材成分(A)は、一般式(a5−0)で表される構成単位(a5)と、露光により酸を発生する構成単位(a6)とを有する高分子化合物(A1)を含むことを特徴とするレジスト組成物。
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【課題】低粘度かつ高屈折率であって、光学材料として利用可能な新規の(メタ)アクリル酸誘導体とその組成物、及び硬化物を提供する。
【解決手段】下記式(1)又は(2)で表されるターフェニル化合物の水素原子の少なくとも一つが下記式(3)で置換された(メタ)アクリル酸エステル誘導体






(式中、nは1−5の整数、Rは水素原子又はメチル基を表す。)とその組成物。 (もっと読む)


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