【課題】ベチュリンから得られるポリマー、ポリエステル、ポリウレタン及びエステル化合物並びにそれらの製造法を提供し、更には、優れたベチュリンモノマーの抽出法を提供する。
【解決手段】下記式（Ｉ）


で示される繰返し単位を有するポリマー。 （もっと読む）

【課題】 耐溶剤性、硬度、寸法安定性、低吸水性、耐熱性に優れ、さらに硬化収縮が起こらず、光学材料に好適な光学物性を有する硬化物を与える硬化性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】 側鎖に（メタ）アクリロイル基を有する繰り返し単位と、側鎖に脂環骨格を有する繰り返し単位を含むビニルエーテル系共重合体を含有する硬化性樹脂組成物およびこれを硬化させてなる硬化物。 （もっと読む）

【課題】高周波用電子部品にも好適に使用できる、低誘電率かつ低誘電損失（低誘電正接）の新規な脂環式ビニルエーテル重合体を提供する。
【解決手段】下記〔I〕式（ｍは０又は１を示し、ｎは２〜３，０００の整数を示す。）で表される新規な脂環式ビニルエーテル重合体、及び下記〔I〕式に表される重合体におけるモノマー構造と所定のモノマー構造からなる新規な脂環式ビニルエーテル共重合体。
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【課題】水又は水に対する液浸媒体に対して高い撥水性及び耐水性を有し、剥離剤によって容易に剥離し、かつフォトレジスト層とのミキシングを起こさない保護膜を形成するための液浸リソグラフィー用レジスト保護膜形成用材料を提供する。
【解決手段】水又は水を主成分とする液浸媒体からフォトレジスト層を保護する非水溶性でかつ有機溶剤可溶性の保護膜を形成するための保護膜形成用材料であって、少なくとも下記一般式（１）


（式中、Ｘは少なくとも炭素数３〜１５の脂環骨格を有する基を示す）
で表される構成単位を有する樹脂を含むことを特徴とする液浸リソグラフィー用レジスト保護膜形成用材料。 （もっと読む）

ポリマーまたはプレポリマーを作るのに有用な化合物混合物であって、該化合物混合物は式Ｉ


（式中、Ｒ_１はＨ、アクリロイル、メタクリロイルまたはビニルであり、Ｒ_２はアクリロイル、メタクリロイルまたはビニルである。）
の化合物を含み、式Ｉの化合物はシスおよびトランス−１，３−および１，４−置換シクロヘキサンの混合物からなり、そして式Ｉの化合物のトランス−１，４−置換シクロヘキサン含有量は４０モル％未満である。式ＩＩ


の化合物を含む化合物混合物を製造する方法であって、式ＩＩの化合物はシスおよびトランス−１，３−および１，４−メタノール置換シクロヘキサンの混合物からなり、そして式ＩＩの化合物のトランス−１，４−メタノール置換シクロヘキサン含有量は２５モル％未満である。
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【課題】 液浸露光に適用した場合に、ドライ露光時に比較して感度の劣化が小さく、液浸液への酸の溶出が極めて少ない液浸露光に好適なレジストを提供する。
【解決手段】 （Ａ）フッ素原子を有する繰り返し単位を少なくとも１種含有しており、かつ酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂及び（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、を含有することを特徴とする液浸露光用ポジ型レジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】 新規なアルコキシ基含有環状化合物、これを含む重合性組成物及びその硬化物を提供する。
【解決手段】 本発明のアルコキシ基含有環状化合物は、下記式（１）
【化１】


［式中、環Ｚは単環又は多環の非芳香族性環を示し、Ｒ¹Ｏ−基及びＲ²Ｏ−（Ｗ）_n−基は環Ｚを構成する原子に結合している置換基であって、Ｒ¹は炭素数１〜５の直鎖状又は分岐鎖状アルキル基を示し、Ｒ²は、水素原子又は下記式（２）
【化２】


（式中、Ｒ³、Ｒ⁴及びＲ⁵は、同一又は異なって、水素原子又は有機基を示す）
で表される基を示し、Ｗは２価の有機基を示す。ｎは０又は１を示し、ｍは１〜８の整数を示し、ｋは１〜５の整数等を示す］
で表される。 （もっと読む）