【課題】１回のジェッティングで比較的厚い膜（２μｍ以上）を形成することができる、ポリイミド形成成分を高濃度で含有するインクジェット用インクを提供すること。
【解決手段】酸無水物基を有する化合物（ａ１）と、該化合物（ａ１）以外の、下記一般式（１）で表されるモノアミン化合物（ａ２）とを用いて得られるアミド酸（Ａ）、およびアミノ基を有する化合物（ｂ１）と、該化合物（ｂ１）以外の、下記一般式（２）で表される、酸無水物基を１つ有する化合物（ｂ２）とを用いて得られるアミド酸（Ｂ）からなる群より選ばれる少なくとも１種のアミド酸を含む熱硬化性組成物：
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本願において開示される実施態様は、ポリビニルエステルに基づいたラテックスであって、予め決定された程度で部分的に加水分解された、ビニルエステル基を備えたポリビニルエステルに基づいた粒子状物質を有するもの、および本願明細書に開示されるポリビニルエステルに基づいたラテックスを変成し形成する方法に関する。本願明細書に開示される実施態様は、本願明細書に開示されるポリビニルエステルに基づいたラテックス、および蛍光増白剤（ＯＢＡ）を含むコーティング組成物であって、ポリビニルエステルに基づいた粒子状物質が印刷メディア基体用のコーティング組成物中のＯＢＡのためのキャリヤの役割をするコーティング組成物に関する。

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【課題】高感度、高解像度であり、焦点深度余裕が広く、光線透過率が高く、ディフェクトが少なく、十分なドライエッチング耐性を有するレジスト膜を形成できるレジスト組成物、レジスト用重合体および該レジスト組成物を用いる微細パターンが形成された基板の製造方法を提供する。
【解決手段】下記式（１−１）で表される構成単位（Ａ１）を有するレジスト用重合体を用いる。
［化１］

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【課題】レジスト組成物に用いた場合に、高感度、高解像度であり、焦点深度が広く、光線透過率が高く、現像時のディフェクトが少なく、レジスト膜の薄膜化に耐え得るドライエッチング耐性を有するレジスト用重合体を提供する。
【解決手段】式（１−１）で表される酸脱離性基が結合しているナフタレン骨格を有する構成単位Ａ１を含むレジスト用重合体。なお、Ｙが酸脱離性基である。
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【課題】レジストのラインエッジラフネスの改善に寄与するための親水性基含有ナフチル基骨格を持ち、（メタ）アクリル酸又は（メタ）アクリル酸エステル等の重合性モノマーと共重合させた場合に共重合性が良好で、組成が均一であり、波長１９３ｎｍの光線透過率が高い重合体を得ることができる重合性モノマー及びその製造方法を提供する。
【解決手段】特定のナフタレン骨格を有する重合性モノマー及び特定のモノマーを特定の条件下で反応させる重合性モノマーの製造方法。 （もっと読む）

【課題】発光性に優れ、主鎖に光学活性ならせん構造を有する新規な光学活性高分子化合物を提供する。
【解決手段】下記式で表される繰り返し単位を有する光学活性な高分子化合物。
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【課題】塩素を含有せず、且つ樹脂材料および上塗り塗料との優れた接着性を示すプライマー組成物を提供すること。
【解決手段】第３級カルボン酸のビニルエステルを含むビニルエステル成分（Ａ）と、エチレン（Ｂ）とを乳化重合して得られる共重合体含有水性分散液中で、前記共重合体にエチレン性不飽和単量体（Ｃ）をシード重合させてなることを特徴とするプライマー組成物。この共重合体含有水性分散液を調製する際、共重合体含有水性分散液中の固形分に対して、５〜１００質量％のエチレン性不飽和単量体（Ｃ）を用いることが好ましい。 （もっと読む）

本発明は、疎水性高級分岐鎖ビニルエステルのコポリマー、及び低臨界ミセル濃度を有する界面活性剤存在下での疎水性モノマーを重合するための重合方法に関する。 （もっと読む）