国際特許分類[C08F20/24]の内容
化学;冶金 (1,075,549) | 有機高分子化合物;その製造または化学的加工;それに基づく組成物 (224,083) | 炭素−炭素不飽和結合のみが関与する反応によってえられる高分子化合物 (38,630) | ただ1つの炭素−炭素二重結合を含有する1個以上の不飽和脂肪族基をもち,そのうちただ1つの脂肪族基がただ1つのカルボキシル基によって停止されている化合物,その塩,無水物,エステル,アミド,イミドまたはそのニトリルの単独重合体または共重合体 (3,487) | 9個以下の炭素原子をもつモノカルボン酸;その誘導体 (3,067) | エステル (2,452) | ハロゲンを含有するエステル (152) | パーハロアルキル基を含有するもの (54)
国際特許分類[C08F20/24]に分類される特許
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ネガ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法
【課題】200nmより短波長の光による露光に好適で高解像度のレジストパターンを形成することができるネガ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】(A)酸の作用によりアルカリ可溶性が増大する樹脂成分と、(B)芳香環又は脂肪族環に直接結合した炭素原子上に2級又は3級アルコール構造を有する多価アルコール化合物、および(C)露光により酸を発生する酸発生剤成分を少なくとも含有してなるネガ型レジスト組成物であり、樹脂成分(A)が200nmより短波長の光に対して高度な透明性を有する。
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製造方法並びにシステム、組成物、界面活性剤、モノマー単位、金属錯体、燐酸エステル、グリコール、水性皮膜形成フォーム、及びフォーム安定剤
ハロゲン化化合物の反応ステップ、化合物の脱ハロゲンステップ、アルコールの反応ステップ、オレフィンと飽和化合物の反応ステップ、2以上の−CF3基を有する反応物を環状基を有する反応物と反応させるステップを含んだ製造方法並びにシステムが提供される。RF−中間生成物、RF−界面活性剤、RF−モノマー、RF−モノマー単位、RF−金属錯体、RF−燐酸エステル、RF−グリコール、RF−ウレタン、及び/またはRF−フォーム安定剤等のRF組成物。RF部分は、2以上の−CF3基、3以上の−CF3基、及び/または2以上の−CF3基と2以上の−CH2基を含むことができる。RF−界面活性剤組成物を含んだ洗剤、乳化剤、塗料、接着剤、インク、湿潤剤、発泡剤、及び消泡剤が提供される。RF−モノマー単位を含んだアクリル、樹脂、及びポリマーが提供される。以上のRF−組成物を有する基質を含んだ組成物が提供される。RF−界面活性剤及び/またはRF−フォーム安定剤を含むことができる水性皮膜形成フォーム(“AFFF”)処方物が提供される。
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製造方法並びにシステム、組成物、界面活性剤、モノマー単位、金属錯体、燐酸エステル、グリコール、水性皮膜形成フォーム、及びフォーム安定剤
ハロゲン化化合物の反応ステップ、化合物の脱ハロゲンステップ、アルコールの反応ステップ、オレフィンと飽和化合物の反応ステップ、2以上の−CF3基を有する反応物を環状基を有する反応物と反応させるステップを含んだ製造方法並びにシステムが提供される。RF−中間生成物、RF−界面活性剤、RF−モノマー、RF−モノマー単位、RF−金属錯体、RF−燐酸エステル、RF−グリコール、RF−ウレタン、及び/またはRF−フォーム安定剤等のRF組成物。RF部分は、2以上の−CF3基、3以上の−CF3基、及び/または2以上の−CF3基と2以上の−CH2基を含むことができる。RF−界面活性剤組成物を含んだ洗剤、乳化剤、塗料、接着剤、インク、湿潤剤、発泡剤、及び消泡剤が提供される。RF−モノマー単位を含んだアクリル、樹脂、及びポリマーが提供される。以上のRF−組成物を有する基質を含んだ組成物が提供される。RF−界面活性剤及び/またはRF−フォーム安定剤を含むことができる水性皮膜形成フォーム(“AFFF”)処方物が提供される。
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生産プロセスおよびシステム、組成物、界面活性剤、モノマー単位、金属錯体、リン酸エステル、グリコール、水性膜形成発泡体、および発泡安定化剤
ハロゲン化化合物を反応させ、化合物を脱ハロゲン化させ、アルコールを反応させ、オフィンおよび飽和化合物を反応させ、少なくとも2つの−CF3基を有する反応体を、環状基を有する反応化合物と反応させることを含む生産プロセスおよびシステムを提供する。
RF中間体、RF界面活性剤、RFモノマー、RFモノマー単位、RF金属錯体、RFリン酸エステル、RFグリコール、RFウレタン、および/またはRF発泡安定化剤のようなRF組成物。RF部分は、少なくとも2つの−CF3基、少なくとも3つの−CF3基、および/または少なくとも2つの−CF3基および少なくとも2つの−CF2−基を含みうる。RF界面活性剤組成物を含む洗剤、エマルジョン化剤、塗料、接着剤、インク、湿潤剤、発泡剤、および消泡剤を提供する。RFモノマー単位を含むアクリル酸樹脂および重合体を提供する。その上にRF組成物を有する支持体を含む組成物を提供する。RF界面活性剤および/またはRF発泡安定化剤を含みうる水性膜形成発泡体(「AFFF」)配合物を提供する。
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