【課題】モールド剥離性に優れ良好なパターンが形成でき、且つエッチング後に得られたパターンのラインエッジラフネスが小さいナノインプリント用組成物、これを用いたパターン形成方法および該パターン形成方法によって得られるパターンを提供する。
【解決手段】重合性単量体と、光重合開始剤と、トリフロロメチル基を有する繰り返し単位を含む（メタ）アクリレート系ポリマーとを含有し、前記（メタ）アクリレート系ポリマーを前記重合性単量体に対し０．０１〜２０質量％含むことを特徴とするナノインプリント用組成物。 （もっと読む）

【課題】スピンコーティングやスプレーコーティングのような高速で高シェアのかかるようなコーティング剤の塗装を行う場合や、極性の高いコーティング剤の塗装を行う場合でも、極めて優れた表面調整効果を示し、さらに十分な塗装膜への上塗り適性をコーティング剤に持たせることができるコーティング剤用表面調整剤を提供する。
【解決手段】コーティング剤用表面調整剤は、フッ素含有(メタ)アクリレートモノマー(A)と、アルキル(メタ)アクリレートモノマー(B)と、モノ−又はポリ−オキシアルキレン基の片末端が不活性基で封鎖されたモノ−又はポリ−オキシアルキレニル(メタ)アクリレートモノマー(C)とが、夫々重量部の比で４０以上６０未満と０．１以上３未満と３１以上５９．９未満、又は６６以上８５未満と３以上２０未満と０．１以上３１未満として、共重合しており、その重量平均分子量を３０００〜５００００とする共重合物を、含有している。 （もっと読む）

【課題】放射線に対する透明性が高く、感度、ドライエッチング耐性等のレジストとしての基本物性に優れ、且つ、解像度、焦点余裕度、パターン形状に優れる。
【解決手段】酸解離性基含有樹脂と、感放射線性酸発生剤と、溶剤とを含有する感放射線性樹脂組成物において、上記樹脂は、特定構造の酸解離性基を有する繰り返し単位を含む共重合体を含有し、酸解離性基を有する繰り返し単位は、共重合体を構成する全繰り返し単位に対して、５５モル％を超えて含有し、共重合体は、樹脂全体に対して、９０質量％以上含有する。 （もっと読む）

【課題】硬質ポリウレタンフォーム用ポリオールとの相溶性が高く、貯蔵安定性に優れると共に、硬質ポリウレタンフォームとした際に優れた寸法安定性と良好な断熱性能が得られるポリマー分散ポリオールの製造方法を提供する。
【解決手段】ポリオール（Ｘ）中で重合性不飽和基を有するモノマーを重合させることにより、ポリマー微粒子がポリオール中に分散した硬質ポリウレタンフォーム用のポリマー分散ポリオールを製造する方法において、ポリオール（Ｘ）は、オキシエチレン基含有量が１５質量％以上であるポリエーテルポリオール（Ｙ）を含み、かつ重合性不飽和基を有するモノマーは、含フッ素アクリレートまたは含フッ素メタクリレートを含む。 （もっと読む）

【課題】非極性溶剤中での分散安定性に優れ、かつ非極性溶剤中において分散剤などの電荷制御剤を含有せずとも負の帯電性を示す負帯電の樹脂粒子およびその製造方法を提供する。
【解決手段】 非極性溶剤の存在下、シリコーンマクロモノマーとビニル系含窒素単量体を含むビニル系単量体とα−メチルスチレンダイマーとを重合させ形成した分散剤として機能する重合性共重合体と、少なくともハロゲン化ビニル系単量体を含むビニル系単量体とを含む混合物を、分散重合させて負帯電の樹脂粒子を得ることを特徴とする負帯電の樹脂粒子の製造方法により上記課題を解決する。 （もっと読む）

【課題】本発明は、液浸フォトリソグラフィーにおいて、フォトレジスト膜を保護すべくフォトレジスト膜の上に保護膜を形成するためのレジスト保護膜材料及びこれらの材料を用いたパターン形成方法に関する。
【解決手段】フォトレジスト膜の上に保護膜を形成するためのレジスト保護膜材料であって、少なくとも、下記一般式（１）で表される繰り返し単位ａを含む高分子化合物Ｉと、スルホン酸又はスルホン酸アミン塩を有する繰り返し単位を含む高分子化合物ＩＩを含むことを特徴とするレジスト保護膜材料。
【化４５】
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【課題】液浸露光によるパターニングにおいて、良好にレジスト膜表面を疎水化し、液浸液追随性を良好とするとともに、塗布欠陥、現像欠陥の抑制に効果を示す樹脂、及び、その製造方法、該樹脂を含有するポジ型レジスト組成物を提供することである。
【解決手段】表面に偏在化してレジスト膜の表面を疎水化する、レジスト組成物に添加する樹脂であって、ゲルパーミッションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）により測定される分子量分布において、分子量３万以上の高分子量成分のピーク面積が、全体のピーク面積に対して０．１％以下であることを特徴とする樹脂その製造方法、該樹脂を含有するポジ型レジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】吐出安定性、顔料の分散安定性、コントラストに優れた画像表示が可能で、各部位での色むら等が抑制され、個体間での特性の均一性、耐久性に優れたカラーフィルターの製造に好適なインクジェット方式のカラーフィルター用インクを提供する。
【解決手段】カラーフィルター用インクは、インクジェット方式によるカラーフィルターの製造に用いられるものであり、顔料と溶剤と分散剤と硬化性樹脂材料とを含み、分散剤として、所定の酸価を有する酸価分散剤と所定のアミン価を有するアミン価分散剤とを含み、硬化性樹脂材料が、式（１）で表される単量体成分を含有してなる重合体Ａと、式（２）で表される単量体成分を含有してなる重合体Ｂとを含むものである。


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【課題】新規な含フッ素化合物及びそれを用いた高分子化合物を用い、高いフッ素含量を有しながら、同一分子内に水酸基あるいはそれを修飾した官能基を持たせることで、真空紫外線から光通信波長域に至る波長領域で、高い透明性と低屈折率性を有し、かつ基板への密着性、高い成膜性、エッチング耐性、耐久性を併せ持つ反射防止膜材料またはレジスト材料を提供する。
【解決手段】一般式（２）または一般式（３）で表される含フッ素化合物。（式中、Ｒ¹はメチル基またはトリフルオロメチル基を表し、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴は水素原子、炭素数１〜２５の直鎖状、分岐状もしくは環状の炭化水素基または芳香族炭化水素基を含む基であって、その一部にフッ素原子、酸素原子、カルボニル結合を含んでもよい。ｌは０、ｍは１、ｎは２、ｏは１〜８の任意の整数を表す。）
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式（Ａ）又は式（Ｂ）により表される少なくとも１個の第１の二価単位：


並びに、
ペンダントＺ基を含む第２の二価単位、又はチオエーテル結合及び末端Ｚ基を含む一価単位、のうち少なくとも１種を含み、各Ｚ基が独立して−Ｐ（Ｏ）（ＯＹ）_２及び
−Ｐ（Ｏ）（ＯＹ）_２からなる群から選択される組成物。Ｒｆは、ペルフルオロポリエーテル基である。Ｑは、結合、−Ｃ（Ｏ）−Ｎ（Ｒ^１）−、及び−Ｃ（Ｏ）−Ｏ−からなる群から選択される。Ｒ’’、Ｒ’’’、Ｒ及びＲ^１は、それぞれ独立して水素及び１〜４個の炭素原子を有するアルキルからなる群から選択される。Ｘは、アルキレン、アリールアルキレン及びアルキルアリーレンからなる群から選択され、アルキレン、アリールアルキレン及びアルキルアリーレンは、それぞれ所望により少なくとも１個のエーテル結合により中断される。Ｙは、水素、アルキル、トリアルキルシリル及び対カチオンからなる群から選択される。これらの組成物を用いる表面の処理方法及び、これらの組成物と接触する表面を有する物品が提供される。これらの組成物の製造方法もまた提供される。
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