【課題】優れた解像度でレジストパターンを製造することができるレジスト組成物を提供すること。
【解決手段】アルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液に溶解し得る樹脂と、式（Ｉ）で表される塩とを含有するレジスト組成物。


［式（Ｉ）中、Ｑ^１及びＱ^２は、同一又は相異なり、フッ素原子又はペルフルオロアルキル基を表す。Ｌ^１は、単結合又は２価の脂肪族飽和炭化水素基を表し、該２価の脂肪族飽和炭化水素基に含まれる水素原子はフッ素原子又はヒドロキシ基に置き換わっていてもよく、該２価の脂肪族飽和炭化水素基を構成するメチレン基は、酸素原子等に置き換わっていてもよい。Ｒ^１は、炭化水素基等を表す。Ｒ^２は、水素原子又はアルキル基を表す。ｍは、０〜４の整数を表す。Ｚ^＋は、有機カチオンを表す。］ （もっと読む）

【課題】光配向法に適した感光性化合物および該化合物からなる感光性ポリマーの提供。
【解決手段】式（１）で表される、感光性化合物。


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【課題】優れた現像性と優れた液浸液追随性との両立を可能とする感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】本発明に係る感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物は、フッ素原子及びケイ素原子の少なくとも一方を備えた樹脂（Ｂ）であって、下記一般式（Ｉ）により表される繰り返し単位を含んだ樹脂（Ｂ）と、酸の作用により分解してアルカリ現像液に対する溶解性が増大する樹脂（Ａ）と、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物とを含有している。
【化１】
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【課題】微細パターン（特に線幅１００ｎｍ以下）の形成に於いても、ラインエッジラフネス、プロファイルの劣化が少なく、現像欠陥が改良された、液浸露光用レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）特定のシクロアルキル基を有する繰り返し単位を有し、且つ分子鎖の少なくとも一方の末端に特定構造の基を有する、酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度が増大する樹脂及び（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有する液浸露光用レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】本発明は、溶液キャスト法として知られている方法にて、高い透明性と優れた表面平滑性および厚み精度を有するフィルムとすることが可能な、未溶解物を発生することない均一なポリマー溶液の製造方法を提供する。
【解決手段】ディスパー型の撹拌羽根を備えた撹拌槽で、撹拌の周速が１０〜２５ｍ／ｓｅｃ．、かつ吐出流量Ｑと溶液量Ｖの比（Ｑ／Ｖ）が７〜３０となる設定を与えた撹拌下でポリマーの溶解を行なうことを特徴とするポリマー溶液の製造方法。 （もっと読む）

本発明は、
・双性イオン（ツビッターイオン）性単位を含有する第１のポリマー（ＰＺ）；及び
・荷電した基を有し、前記第１のポリマー（ＰＺ）に結合し得る別のポリマー（Ｐ）：
を含有するポリマー組合せ物を、固体材料の表面特性を変性するために使用することに関する。 （もっと読む）

【課題】ＩＣ等の半導体製造工程、液晶、サーマルヘッド等の回路基板の製造、さらにはその他のフォトアプリケーションのリソグラフィー工程に使用されるレジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法であって、解像力、ラインエッジラフネスが改良され、且つ液浸露光に於いてラインアンドスペースパターンを良好に解像し得るレジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物及び（Ｂ）酸の作用によりアルカリ現像液への溶解性が増大する樹脂を含有するレジスト組成物であって、（Ｂ）成分の樹脂が、特定構造のモノマーによる繰り返し単位を有するレジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

本発明は、潤滑油組成物中での温度を低減するためのポリアルキルエステルの使用に関し、その際、ポリアルキルエステルはクロロホルム中２５℃で測定して５〜３０ｍｌ／ｇの比粘度η_sp/cを有する。 （もっと読む）