【課題】優れた現像性と優れた液浸液追随性との両立を可能とする感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】本発明に係る感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物は、フッ素原子及びケイ素原子の少なくとも一方を備えた樹脂（Ｂ）であって、下記一般式（Ｉ）により表される繰り返し単位を含んだ樹脂（Ｂ）と、酸の作用により分解してアルカリ現像液に対する溶解性が増大する樹脂（Ａ）と、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物とを含有している。
【化１】

【特許請求の範囲】
【請求項１】
フッ素原子及びケイ素原子の少なくとも一方を備えた樹脂（Ｂ）であって、下記一般式（Ｉ）により表される繰り返し単位を含んだ樹脂（Ｂ）と、
酸の作用により分解してアルカリ現像液に対する溶解性が増大する樹脂（Ａ）と、
活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物と
を含有した感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物。
【化１】

式中、
Ｒ_１は、水素原子、アルキル基又はハロゲン原子を表す。
Ａｒ^１は、芳香環を表す。
Ｒ_２は、ｘ≧２の場合には各々独立に、置換基を表す。
Ｚは、最小連結原子数が３以上である連結基を表す。
ｘは、０以上の整数を表す。
ｙは、１以上の整数を表す。
【請求項２】
前記一般式（Ｉ）により表される繰り返し単位は、下記一般式（Ｉ−Ａ）により表される請求項１に記載の組成物。
【化２】

式中、
Ｒ_１は、水素原子、アルキル基又はハロゲン原子を表す。
Ａｒ^１は、芳香環を表す。
Ｒ_２は、置換基を表す。
Ａｒ^２は、芳香環を表す。
Ｚ_Ａは、単結合又は連結基を表す。
ｘは、０以上の整数を表す。
ｚは、１以上の整数を表す。
【請求項３】
前記Ａｒ^２はベンゼン環を表す請求項２に記載の組成物。
【請求項４】
前記一般式（Ｉ）により表される繰り返し単位は、下記一般式（Ｉ−Ｂ）により表される請求項１に記載の組成物。
【化３】

式中、
Ｒ_１は、水素原子、アルキル基又はハロゲン原子を表す。
Ａｒ^１は、芳香環を表す。
Ｒ_２は、置換基を表す。
Ｚ_Ｂは、連結基を表す。
Ｘは、Ｏ、ＮＨ、又はＮＲを表す。Ｒは、アルキル基を表す。
ｘは、０以上の整数を表す。
ｙは、１以上の整数を表す。
【請求項５】
前記ＸはＯを表す請求項４に記載の組成物。
【請求項６】
前記樹脂（Ｂ）は、下記（ｘ）、（ｙ）及び（ｚ）からなる群より選択される少なくとも１つの基を備えた繰り返し単位を更に含んでいる請求項１乃至５の何れか１項に記載の組成物。
（ｘ）アルカリ可溶基、
（ｙ）アルカリ現像液の作用により分解してアルカリ現像液に対する溶解度が増大する基、及び
（ｚ）酸の作用により分解してアルカリ現像液に対する溶解度が増大する基。
【請求項７】
前記樹脂（Ｂ）は、（ｙ）アルカリ現像液の作用により分解してアルカリ現像液に対する溶解度が増大する基を備えた繰り返し単位を更に含んでいる請求項１乃至５の何れか１項に記載の組成物。
【請求項８】
前記（ｙ）の基はラクトン構造を備えている請求項７に記載の組成物。
【請求項９】
前記樹脂（Ｂ）の含有量は、組成物の全固形分を基準として、０．１質量％乃至１０質量％の範囲内にある請求項１乃至８の何れか１項に記載の組成物。
【請求項１０】
請求項１乃至９の何れか１項に記載の組成物を用いて形成されたレジスト膜。
【請求項１１】
請求項１乃至９の何れか１項に記載の組成物を用いて膜を形成することと、
前記膜を露光することと、
前記露光された膜を現像することと
を含んだパターン形成方法。
【請求項１２】
前記露光は液浸液を介して行われる請求項１１に記載の方法。

【公開番号】特開２０１２−２２１００（Ｐ２０１２−２２１００Ａ）
【公開日】平成２４年２月２日（２０１２．２．２）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１０−１５９０９３（Ｐ２０１０−１５９０９３）
【出願日】平成２２年７月１３日（２０１０．７．１３）
【出願人】（３０６０３７３１１）富士フイルム株式会社 (25,513)
【Ｆターム（参考）】