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国際特許分類[C08F220/28]の内容

国際特許分類[C08F220/28]に分類される特許

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【課題】経時保存性が良好で、微細な着色パターンを露光マスクのパターンサイズ通りに形成することができ、且つ、赤緑青のカラーフィルタを形成したときに高い解像力を有する固体撮像素子用のカラーフィルタを形成しうる着色感放射性組成物を提供する。
【解決手段】(A)顔料、(B)下記一般式(1)で表される化合物を共重合成分として含むバインダー、及び(C)重合性化合物を含有し、前記(A)顔料がC.I.Pigment Green 36と、C.I.Pigment Yellow 185と、C.I.Pigment Yellow 150とを含む着色感放射線性組成物。
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【課題】樹脂組成物の重合硬化時における収縮が大きいため、重合硬化時に発生する歪が大きい。また、エステル(メタ)アクリレートの分子量が大きい場合は粘度が高くなり、樹脂層は黄変劣化しやすい。
【解決手段】窒素(N)を含まない以下の[化1]で表わされる非Nエステル(メタ)アクリレートと、多官能イソシアヌレート化合物と、重合開始剤とを含む樹脂組成物が重合されている樹脂層を備える複合光学素子としたものである。
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【課題】レジストパターン製造時のフォーカスマージンが良好であり、欠陥の発生が少ないレジストパターンを得ることができるレジスト組成物を提供する。
【解決手段】式(I)で表される構造単位を有する樹脂、式(II)で表される構造単位を有し、アルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液で溶解し得る樹脂及び酸発生剤を含有するレジスト組成物。


[式中、Rは、水素原子又はメチル基;Aはアルカンジイル基;Rはフッ素原子を有する炭化水素基;Rは、ハロゲン原子を有してもよいアルキル基、水素原子又はハロゲン原子;環Xは、複素環を表す。] (もっと読む)


【課題】耐衝撃性に優れた太陽電池モジュールを容易に製造できる太陽電池モジュール用封止材を提供する。また、耐衝撃性に優れた太陽電池モジュールを提供する。
【解決手段】本発明の太陽電池モジュール用封止材は、硬化性アクリル成分を主成分として含有する。本発明の太陽電池モジュール10は、一対の保護部材11,12と、一対の保護部材11,12の間に設けられた封止層13と、封止層13の内部に設けられた太陽電池14セルとを備え、封止層13は、上記太陽電池モジュール用封止材を硬化させた硬化物からなる。 (もっと読む)


【課題】印刷特性に優れた受容層を形成するためのアクリレート系共重合体を提供する。
【解決手段】アクリレート系共重合体は、式(1)のモノマー単位を1〜30mol%と、式(2)または式(3)のいずれか一方もしくは両方のモノマー単位を5〜40mol%とを含み、式(1)中のXは、N(CH32またはN+(CH33Cl-であり、式(1)および式(3)中のRは、HまたはCH3である。
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【課題】本発明の目的は、基材や下地などとの密着性が良好であり、膜硬度、耐熱性および耐酸性が高く、かつ透過率が高く、特に波長400nm付近の透過率が高い感光性樹脂組成物と、それを用いたタッチパネル用絶縁膜を提供することを目的とする。
【解決手段】樹脂(A)と、光重合開始剤(B)と、多官能単量体(C)と、を含有する感光性樹脂組成物であって、樹脂(A)が一般式(1)で表される化合物(a1)と、化合物(a1)と共重合可能な他の化合物(a2)とを共重合してなる樹脂(A1)を含み、多官能単量体(C)が、1分子中に7個以上のエチレン性不飽和結合を有することを特徴とする感光性樹脂組成物によって解決される。 (もっと読む)


【課題】形成したパターンをベークした後であっても矩形又は矩形に近いプロファイルが形成可能なエッチングレジスト用感光性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】(成分A)カルボキシ基又はフェノール性水酸基が酸分解性基で保護された残基を有するモノマー単位(a1)と、エポキシ基及び/又はオキセタニル基を有するモノマー単位(a2)とを有する重合体、(成分B)光酸発生剤、並びに、(成分C)溶剤、を含むことを特徴とするエッチングレジスト用感光性樹脂組成物。 (もっと読む)


【課題】照明光反射が残る基板にも、良好なコンタクトホールパターンを形成可能とするレジスト組成物、並びに、それを用いたレジスト膜及びネガ型パターン形成方法の提供。
【解決手段】下記一般式(R1−a)又は(R1−b)の繰り返し単位(a)、下記一般式(R2)の繰り返し単位(b)、下記一般式(R3)の繰り返し単位(c)、(c)と異なり且つ酸分解性基を備えた繰り返し単位(d)による樹脂(A)、活性光線又は放射線照射で酸を発生する化合物(B)、特定の化合物(C)を含有するレジスト組成物。
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【課題】ネガティブトーン(negative tone)現像プロセスを用いて微細パターンの形成に有用なフォトレジスト組成物およびフォトリソグラフィパターンを形成する方法を提供する。
【解決手段】下記一般式(I)、(II)および(III)の単位を含む第1のポリマー;


下記一般式(IV)および(V)の単位を含む第2のポリマー;


並びに光酸発生剤を含むフォトレジスト組成物。 (もっと読む)


【課題】ラインエッジラフネスおよび感度の両立を可能とする感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、それを用いた感活性光線性又は感放射線性膜及びパターン形成方法を提供する。
【解決手段】一般式(I)で表される酸分解性の繰り返し単位を含有する樹脂、及び、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物。(式中、Rは水素原子、アルキル基、ハロゲン原子、シアノ基又はアルキルオキシカルボニル基を表す。Rはアルキル基又はシクロアルキル基を表す。Rは1価の置換基を表す。Wはアルキレン基又はシクロアルキレン基を表す。Xは酸素原子または硫黄原子を表し、Xを含む環はエーテル結合又はチオエーテル結合を含む環構造を表す。l及びnは各々独立に0以上の整数を表す。nが2以上の場合、複数のRは各々独立であり、また、互いに結合して環を形成してもよい。)
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