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国際特許分類[C08F222/14]の内容

国際特許分類[C08F222/14]に分類される特許

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【課題】液晶性化合物に対する配向能を十分に有するとともに、機械的な強度と耐熱性を有し、液晶性化合物が配向して得られる光学異方性膜、特に配向状態で重合した重合性液晶性化合物の重合体を含む光学異方性膜との密着性にも優れる配向膜を形成可能な、新規な高分子化合物、およびこれを含有する配向膜用組成物、ならびにこれを用いて得られる配向膜、光学素子、光学ヘッド装置を提供する。
【解決手段】フマル酸ジエステルに基づく重合単位と、側鎖にラジカル重合性基を有する重合単位を含む高分子化合物を提供する。この高分子化合物を用いて配向膜を作製する。この配向膜と光学異方性膜を有する光学素子を作製し位相差板4とする。位相差板4は、機械的な強度と耐熱性を有し、剥離なく信頼性が良好であり、これを用いて光ヘッド装置を構成することができる。 (もっと読む)


【課題】 薄膜においても高い面外位相差を有し、かつ波長依存性が小さい等の光学特性に優れた位相差フィルムに適したフマル酸ジエステル系樹脂、及び位相差フィルムを提供する。
【解決手段】 フマル酸ジイソプロピル残基単位およびフマル酸ジ−tert−ブチル残基単位を含むことを特徴とするフマル酸ジエステル系樹脂、並びにそれを用いた位相差フィルム。 (もっと読む)


【課題】高屈折率であり、温度変化に対して優れた特性を有する材料を提供する。
【解決手段】(A)N−アクリロイルカルバゾール60〜90質量%と、(B)化学式1、または、特定のビフェニル構造を有する化合物の少なくとも一種、5〜30質量%と、(C)3個以上のラジカル重合性官能基を有する化合物5〜25質量%を含有する材料。


R1は、水素またはメチル基を表し、Aは、直接結合または炭素数1以上3以下のアルキレン基。 (もっと読む)


【課題】パターン膜を形成する現像工程において、高い残膜率を維持したまま、現像残渣がなく、高温ベーキング後においても平坦性、光透過率、耐溶剤性等の塗膜物性を損なうことなく、低誘電特性に優れた高解像度のパターン膜を形成することができる感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】感光性樹脂組成物は、成分(A)、(B)、(C)からなり、成分(A)100質量部に対して(B)5〜50質量部、(C)1〜70質量部に設定されている。成分(A):フマル酸ジエステル単量体から誘導される構成単位(a1)、芳香族ビニル単量体から誘導される構成単位(a2)、α,β−不飽和カルボン酸単量体から誘導される構成単位(a3)及び(メタ)アクリル酸エステル単量体から誘導される構成単位(a4)からなる共重合体。成分(B):キノンジアジド基を有する感光剤。成分(C):エポキシ基を有する硬化剤。 (もっと読む)


【課題】 フィルムの厚み方向の屈折率が大きく、面外位相差が大きく、波長依存性が小さく、薄膜においても高い面外位相差を有する等の光学特性に優れた位相差フィルムと該位相差フィルムが得られる位相差フィルム用フマル酸ジエステル系樹脂を提供する。
【解決手段】 フマル酸ジイソプロピル残基単位及び炭素数1または2のアルキル基を有するフマル酸ジエステル残基単位を含む位相差フィルム用フマル酸ジエステル系樹脂であって、該位相差フィルム用フマル酸ジエステル系樹脂よりなる位相差フィルムが、フィルム面内の進相軸方向の屈折率をnx、それと直交するフィルム面内方向の屈折率をny、フィルムの厚み方向の屈折率をnzとした場合のそれぞれの関係がnx≦ny<nzであり、膜厚と下記式(a)にて示される波長550nmで測定した面外位相差(Rth)の関係が絶対値で4.5nm/フィルム膜厚(μm)以上であることを特徴とする位相差フィルム用フマル酸ジエステル系樹脂、並びにそれよりなる位相差フィルム。
Rth=((nx+ny)/2−nz)×d (a)
(ここで、dはフィルムの厚みを示す。) (もっと読む)


【課題】 本発明は、フマル酸エステル系共重合体樹脂からなり、負の複屈折を有し、位相差特性、位相差の安定性、波長依存性等の光学特性、機械特性に優れた光学補償フィルムを提供する。
【解決手段】 フマル酸エステル系共重合体樹脂からなるフィルムであって、フィルム面内の進相軸方向の屈折率をnx、それと垂直方向の屈折率をny、フィルムの厚み方向の屈折率をnzとした場合に、nx<ny≦nzの関係にあり、450nmの光で測定した位相差と550nmの光で測定した位相差の比(R450/R550)が1.1以下である光学補償フィルム。 (もっと読む)


【課題】パターン膜を形成する現像工程において、高い残膜率を維持したまま、現像残渣がなく、高温ベーキング後においても光透過率、耐溶剤性等の塗膜物性を損なうことなく、低誘電特性に優れたパターン膜を形成することができる感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】感光性樹脂組成物は、下記に示す成分(A)、(B)および(C)からなり、各成分の構成割合が成分(A)100質量部に対して成分(B)5〜50質量部および成分(C)1〜50質量部に設定されている。成分(A)は、特定のイタコン酸ジエステル単量体から誘導される構成単位(a1)、特定の芳香族ビニル単量体から誘導される構成単位(a2)および特定のα,β−不飽和カルボン酸単量体から誘導される構成単位を有する共重合体である。成分(B)はキノンジアジド基を有するエステル化物であり、成分(C)はエポキシ基を有する架橋性化合物である。 (もっと読む)


【課題】良好な硬化性、耐侯性等の硬化膜物性を維持した上で、基材に対する密着性に優れ、塗料、インク、接着剤、印刷材料等の硬化剤として好適に用いられるフマル酸ジエステル系共重合体を提供する。
【解決手段】フマル酸ジエステル系共重合体は、フマル酸ジエステル単量体から誘導される構成単位(a1)、スチレン系単量体から誘導される構成単位(a2)、α,β−不飽和モノカルボン酸から誘導される構成単位(a3)及び(メタ)アクリル酸ヒドロキシアルキルエステルから誘導される構成単位(a4)により構成され、重量平均分子量が5,000〜60,000の共重合体である。さらに、構成単位(a3)の割合が前記共重合体中のカルボキシル基のモル当量として220〜1130g/molとなる量に設定される。 (もっと読む)


【課題】フマル酸ジエステル共重合体及び該共重合体よりなる光学フィルムに関するものであり、さらに詳しくは、優れた透明性、耐熱性及び機械特性を有するフマル酸ジエステル共重合体及び該共重合体よりなる光学フィルムを提供する。
【解決手段】フマル酸ジイソプロピル残基及び特定のフマル酸ジエステル残基よりなるフマル酸ジエステル共重合体であって、200℃で周波数10Hzにおける動的粘弾性測定から求められる貯蔵弾性率(E´)が2.0×10Pa以上であるフマル酸ジエステル共重合体及びそれよりなる光学フィルム。 (もっと読む)


【課題】柔軟で伝送損失の低い光導波路、特に、光ファイバ(POF)を提供する。
【解決手段】下記一般式(1)で表される繰り返し単位と、下記一般式(2)で表される繰り返し単位とを含むポリマーからなる領域を有する光導波路。
一般式(1)
【化1】


(一般式(1)中、R1およびR2は、それぞれ、アルキル基またはアリール基を表す。)
一般式(2)
【化2】


(一般式(2)中、R3はアルキル基、アリール基、アルコキシ基またはアミノ基を表し、R4はアルキル基を表す。) (もっと読む)


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